JP2011177635A - 脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】流体に薬剤を投入する薬剤投入手段15と、流体の温度分布を計測する温度測定装置21と、温度測定装置21によって求められた温度分布により流体に投入された薬剤の濃度分布を算出する薬剤濃度算出部23と、薬剤濃度算出部23によって算出された濃度分布に応じて薬剤投入手段15が投入する薬剤の流量を決定する薬剤流量決定部24と、薬剤流量決定部24が決定した流量の薬剤を流体に投入するように薬剤投入手段15を制御する薬剤投入手段制御部25と、を備えることを特徴とする。
【選択図】図4
Description
特許文献1および特許文献2には、還元剤が噴霧された排ガスの温度を光学的に計測することが開示されている。
すなわち、本発明に係る脱硝装置の制御装置によれば、流体に薬剤を投入する薬剤投入手段と、流体の温度分布を計測する温度測定装置と、該温度測定装置によって求められた温度分布により流体に投入された薬剤の濃度分布を算出する薬剤濃度算出部と、該薬剤濃度算出部によって算出された濃度分布に応じて前記薬剤投入手段が投入する薬剤の流量を決定する薬剤流量決定部と、該薬剤流量決定部が決定した流量の薬剤を流体に投入するように前記薬剤投入手段を制御する薬剤投入手段制御部と、を備えることを特徴とする。
薬剤投入手段としては、例えば、流量制御弁と、流量制御弁に接続されるノズルとが挙げられる。
薬剤濃度制御手段としては、例えば、流量制御弁やポンプが挙げられる。
図1には、本実施形態のボイラプラントの概略構成図が示されている。
ボイラプラント1は、排ガス(流体)を排出するボイラ2と、ボイラ2から排出された排ガスが導かれる脱硝装置3と、脱硝装置3から導出された排ガスと空気とが熱交換する空気熱交換器(熱交換器)4と、空気熱交換器4によって温度が下げられた排ガス中のダストを除去する電気集塵機5と、脱硝装置3および電気集塵機5によって浄化された排ガスをボイラプラント1外に導出する煙突6とを備えている。
電気集塵機5は、排ガス中のダストを除去するものである。
制御装置20は、温度測定装置21と、温度分布を算出する温度分布算出装置22と、アンモニア水溶液中のアンモニアの濃度分布を算出する薬剤濃度分布算出装置(薬剤濃度算出部)23と、アンモニア水の噴霧量を設定する薬剤噴霧量設定装置(薬剤流量決定部)24と、流量制御弁15の開度を制御する弁制御装置(薬剤投入手段制御部)25とを備えている。
薬剤濃度分布算出装置23は、温度分布算出装置22によって算出された排ガスの温度分布に基づいて、排ガスに噴霧されたアンモニアの濃度分布を算出するものである。
弁制御装置25は、薬剤噴霧量設定装置24によって決定された噴霧量に応じて各流量制御弁15の開度を制御するものである。これにより、各流量制御弁15から排ガスに噴霧されるアンモニア水の流量は、流量制御弁15毎に異なることになる。
ボイラ2から排出された排ガスには、ダクト12の上方から複数のノズル13(図1参照)によってアンモニア水が噴霧される。アンモニア水が噴霧された排ガスは、ダクト12内を流れて脱硝装置3(図1参照)へと導かれる。
ボイラ2からダクト12に導出された排ガス中の窒素酸化物量(mol/h)は、脱硝装置3の上流側のアンモニア水が噴霧される前の窒素酸化物の濃度と、流速との関係から求めることができる。
図6には、排ガスの温度とアンモニア水の噴霧量とを示したグラフが示されている。図6の縦軸はアンモニア水の噴霧量を示し、横軸はアンモニア水が噴霧された排ガスの温度を示す。図6に示すように、アンモニア水の噴霧量が多くなると蒸発潜熱が大きくなるため排ガスの温度が低下する。
なお、アンモニアガスを排ガスに噴霧する場合は、蒸発潜熱による温度降下が得られないため、ノズル13の上流側に冷却手段を備え、アンモニアガスを冷却して排ガス中に噴霧されることが好ましい。アンモニアガスの噴霧量が多くなると温度差も大きくなるため、排ガスの温度が低下する。排ガス温度とアンモニアガスの噴霧量の関係をアンモニアガス温度ごとにデータとして得ておけば、アンモニアガスが噴霧された排ガスの温度分布を測定することで、排ガスに噴霧されたアンモニアの濃度分布を算出することができる。
図7には、ダクト内を流れる排ガスの温度分布とアンモニア水の噴霧量との関係を示す模式図が示されている。
アンモニア水が噴霧される前の排ガス中に含まれる窒素酸化物量(mol/h)に対して、供給量Nave(mol/L)のアンモニア水を噴霧した場合におけるアンモニア水の理論的な温度降下量の平均値を△Taveとし、計測される排ガスの理論的な平均降下温度をTaveとする。
領域30と領域31とに2分割されたダクト12内には、各領域30、31にノズル13が一つずつ設けられている。領域30に設けられているノズル13aからダクト12内を流れる排ガスに噴霧されたアンモニア水の実噴霧量をN1(mol/L)とする。領域31に設けられているノズル13bからダクト12内を流れる排ガスに噴霧されたアンモニア水の実噴霧量をN2(mol/L)とする。
温度測定装置21によって求められた温度分布により排ガス(流体)に噴霧(投入)されたアンモニア水(薬剤)の濃度分布を算出して、薬剤流量設定装置(薬剤流量決定部)24によって排ガスに噴霧するアンモニア水の流量を決定する。決定された流量のアンモニア水は、流量制御弁(薬剤投入手段)15を弁制御装置(薬剤投入手段制御部)25によって制御することによって排ガスに噴霧することとした。そのため、排ガスに噴霧するアンモニア水の噴霧状態を補正することができる。したがって、アンモニア水が噴霧された排ガスの濃度分布を所望の濃度分布にすることができる。
また、ノズル13は、図8に示すように傾きを変えて設けても良い。
以下、本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態の脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法は、薬剤濃度制御手段を備えている点で第1実施形態と相違し、その他は同様である。したがって、同一の構成、制御方法については、同一の符号を付してその説明を省略する。
ここで還元剤であるアンモニア(薬剤)は、ベース液であるアンモニアと、ベース液を希釈する希釈水(希釈剤)とを混同させる二液混合方式である。排ガスに噴霧されるアンモニアの濃度は、希釈水を増減させることによって変えることができる。
希釈水貯蔵タンク42には、アンモニアのベース液を希釈する希釈水が貯蔵されている。
希釈水供給用ポンプ43は、希釈水貯蔵タンク42から導かれた希釈水を昇圧するものである。希釈水供給用ポンプ43の下流側には、希釈水用流量制御弁44が設けられている。
希釈水用流量制御弁44は、開度を変化させることによって通過する希釈水の流量を変えるものである。希釈水用流量制御弁44の下流側には、配管48が接続されている。配管48は、配管46に合流されている。
制御装置20は、希釈水用流量制御弁44の開度を制御する希釈水用流量制御弁制御装置(図示せず)を備えている。
還元剤供給用ポンプ45によってアンモニアのベース液がベース液貯蔵タンク41から配管46へと導出される。一方、希釈水は、希釈水貯蔵タンク42から希釈水用供給ポンプ43へと導かれて昇圧される。昇圧された希釈水は、希釈水用流量制御弁44へと導かれる。
希釈水用流量制御弁(薬剤濃度制御手段)44によってアンモニア(薬剤)に混合する希釈水(希釈剤)の流量を制御することとした。そのため、排ガス(流体)に投入されるアンモニアの流量を変化させることなくアンモニアの濃度を変えることができる。したがって、排ガスに噴霧されるアンモニアの液滴径を小さく略均一に維持することができる。
図10には、本実施形態の変形例1として、薬剤濃度制御手段を備えた脱硝装置の概略構成図が示されている。
希釈水供給用ポンプ(薬剤濃度制御手段)43は、制御装置20に備えられている希釈水用流量制御弁制御装置(図示せず)によって吐出量が制御される。希釈水用流量制御弁制御装置によって吐出量が制御された希釈水は、希釈水供給用ポンプ43から配管48へと導出される。配管48を流れる吐出量が制御された希釈水は、配管46に合流する。
図11には、本実施形態の変形例2として、希釈水混合用ポンプを備えた脱硝装置の概略構成図が示されている。
ベース液用供給ポンプ52は、ベース液貯蔵タンク41から導かれたアンモニアのベース液を昇圧するものである。ベース液用供給ポンプ52によって昇圧されたアンモニアのベース液は、ベース液用流量制御弁(薬剤濃度制御手段)53へと導かれる。
以下、本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態の脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法は、還元剤として塩化アンモニウム水を用いる点で第1実施形態と相違し、その他は同様である。したがって、同一の構成、制御方法については、同一の符号を付してその説明を省略する。
図13には、本発明の第3実施形態に係る脱硝装置を備えたボイラプラントの概略構成図が示されている。
脱硝装置3は、触媒11として脱硝触媒11aと、水銀酸化用触媒11bとを備えている。還元剤(薬剤)としては、塩化アンモニウム水が用いられる。
脱硫装置7は、排ガス中の硫黄分を除去するものである。
電気集塵機5によってダストが除去された排ガスは、脱硫装置7によって硫黄分が除去される。脱硫装置7によって硫黄分が除去された排ガスは、煙突6からボイラプラント1の外へと導出される。
排ガス(流体)に噴霧(投入)された塩化アンモニウム水(薬剤)の濃度分布を制御することとした。そのため、塩化アンモニウム水が噴霧された排ガスと触媒(触媒部)11a、11bとを十分に反応させることができる。したがって、窒素酸化物の除去と共に排ガス中の水銀を効率的に除去可能な脱硝装置3とすることができる。
3 脱硝装置
15 流量制御弁(薬剤投入手段)
20 制御装置
21 温度測定装置
23 薬剤濃度分布算出装置(薬剤濃度算出部)
24 薬剤噴霧量設定装置(薬剤流量決定部)
25 弁制御装置(薬剤投入手段制御部)
Claims (7)
- 流体に薬剤を投入する薬剤投入手段と、
流体の温度分布を計測する温度測定装置と、
該温度測定装置によって求められた温度分布により流体に投入された薬剤の濃度分布を算出する薬剤濃度算出部と、
該薬剤濃度算出部によって算出された濃度分布に応じて前記薬剤投入手段が投入する薬剤の流量を決定する薬剤流量決定部と、
該薬剤流量決定部が決定した流量の薬剤を流体に投入するように前記薬剤投入手段を制御する薬剤投入手段制御部と、を備える脱硝装置の制御装置。 - 前記薬剤投入手段によって流体に投入される薬剤の濃度を制御する薬剤濃度制御手段を備え、
該薬剤濃度制御手段は、薬剤に混合する希釈剤の流量を制御する請求項1に記載の脱硝装置の制御装置。 - 前記温度測定装置は、流体が流れる流路の一の壁面に取り付けられた受光部と、他の壁面から発せられ、流体を通過した光が該受光部に入射し、該受光部に入射した光を分光する分光部と、該分光部により分光された光から、流体の実測吸収スペクトルを検出する検出部と、該検出部によって検出された前記実測吸収スペクトルから流体の温度を算出する温度算出部と、を備える請求項1または請求項2に記載の脱硝装置の制御装置。
- 請求項1から請求項3のいずれかに記載の制御装置と、
該制御装置によって流量が制御された薬剤が導かれる複数のノズルと、
複数の該ノズルによって噴霧された流体中の窒素酸化物を除去する触媒部と、を備える脱硝装置。 - 前記薬剤は、アンモニア、アンモニアと塩化水素の混合物、アンモニア水溶液、尿素水溶液、または塩化アンモニア水溶液のいずれかである請求項4に記載の脱硝装置。
- 流体を排出するボイラと、
該ボイラから排出された流体が導かれる請求項4または請求項5に記載の脱硝装置と、
該脱硝装置から導出された流体と熱交換する熱交換器と、を備えるボイラプラント。 - 流体に薬剤を投入する薬剤投入工程と、
流体の温度分布を計測する温度測定工程と、
該温度測定工程によって求められた温度分布により流体に投入された薬剤の濃度分布を算出する薬剤濃度算出工程と、
該薬剤濃度算出工程によって算出された濃度分布に応じて投入する薬剤の流量を決定する薬剤投入流量決定工程と、
該薬剤投入流量決定工程が決定した流量の薬剤を流体に投入する薬剤投入手段制御工程と、を備える脱硝装置の制御方法。
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