JPH0760066A - 脱硝装置 - Google Patents
脱硝装置Info
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- JPH0760066A JPH0760066A JP5211738A JP21173893A JPH0760066A JP H0760066 A JPH0760066 A JP H0760066A JP 5211738 A JP5211738 A JP 5211738A JP 21173893 A JP21173893 A JP 21173893A JP H0760066 A JPH0760066 A JP H0760066A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 脱硝反応器内における還元剤と窒素酸化物と
の比を常時一定に制御し得、脱硝性能の向上を図り得る
脱硝装置を提供する。 【構成】 還元剤と窒素酸化物との比を検出する分析計
６を設けると共に、該分析計６からの検出信号７ａ，７
ｂ，７ｃ，７ｄに基づき、脱硝反応器２内へ還元剤を注
入する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ途中に設けられ
た流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへ開度指令信号８
ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを出力する制御器９を設ける。
の比を常時一定に制御し得、脱硝性能の向上を図り得る
脱硝装置を提供する。 【構成】 還元剤と窒素酸化物との比を検出する分析計
６を設けると共に、該分析計６からの検出信号７ａ，７
ｂ，７ｃ，７ｄに基づき、脱硝反応器２内へ還元剤を注
入する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ途中に設けられ
た流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへ開度指令信号８
ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを出力する制御器９を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ボイラ等の排ガスから
窒素酸化物を除去する脱硝装置に関するものである。
窒素酸化物を除去する脱硝装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の脱硝装置としては、従来、図３
に示される如く、内部に触媒層１を有する脱硝反応器２
内に、アンモニア（ＮＨ3）等の還元剤を注入する複数
（図の例では四本）の注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
を配設すると共に、各注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
途中に流量調整弁４ａ’，４ｂ’，４ｃ’，４ｄ’を設
けたものが存在する。尚、図中、５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄは脱硝反応器２内に延びる各注入配管３ａ，３ｂ，３
ｃ，３ｄに取り付けられた還元剤噴射用のスプレノズル
である。
に示される如く、内部に触媒層１を有する脱硝反応器２
内に、アンモニア（ＮＨ3）等の還元剤を注入する複数
（図の例では四本）の注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
を配設すると共に、各注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
途中に流量調整弁４ａ’，４ｂ’，４ｃ’，４ｄ’を設
けたものが存在する。尚、図中、５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄは脱硝反応器２内に延びる各注入配管３ａ，３ｂ，３
ｃ，３ｄに取り付けられた還元剤噴射用のスプレノズル
である。
【０００３】前記脱硝装置においては、脱硝反応器２へ
供給される排ガスは、各注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄから還元剤を注入添加された後、触媒層１を通過し、
これにより、排ガス中に含まれる窒素酸化物が窒素に還
元され、脱硝が行われるようになっており、この方式は
選択接触還元法（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｃａｔａｌｙｔ
ｉｃ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）と呼ばれ、アンモニア等の
還元剤の注入による還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3
／ＮＯ比）が脱硝性能を左右する重要な要素となってい
る。
供給される排ガスは、各注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄから還元剤を注入添加された後、触媒層１を通過し、
これにより、排ガス中に含まれる窒素酸化物が窒素に還
元され、脱硝が行われるようになっており、この方式は
選択接触還元法（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｃａｔａｌｙｔ
ｉｃ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）と呼ばれ、アンモニア等の
還元剤の注入による還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3
／ＮＯ比）が脱硝性能を左右する重要な要素となってい
る。
【０００４】このため、従来においては、試運転時に図
示していないサンプリング管を脱硝反応器２内に挿入
し、還元剤の分散を測定しながら各注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
の微調整並びに流量調整弁４ａ’，４ｂ’，４ｃ’，４
ｄ’の開度を調整した後、実際の運転に入るようにして
いた。
示していないサンプリング管を脱硝反応器２内に挿入
し、還元剤の分散を測定しながら各注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
の微調整並びに流量調整弁４ａ’，４ｂ’，４ｃ’，４
ｄ’の開度を調整した後、実際の運転に入るようにして
いた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
如く試運転時に開度調整された流量調整弁４ａ’，４
ｂ’，４ｃ’，４ｄ’により還元剤の注入量を調整し
て、脱硝反応器２内の還元剤の分布を均一化しても、経
年的な変化に対応することは困難であると共に、脱硝反
応器２内における窒素酸化物の分布が必ずしも一定でな
いことからＮＨ3／ＮＯ比も一定とならず、所望の脱硝
性能が得られなくなることがあり、又、ＮＨ3／ＮＯ比
が１．０以上となった場合、脱硝性能に関しては問題な
いが、リークアンモニアが増加し、ＳＯ3と反応して酸
性硫酸アンモニウムが生成され、後流側の機器を閉塞さ
せる等の不具合が生じていた。
如く試運転時に開度調整された流量調整弁４ａ’，４
ｂ’，４ｃ’，４ｄ’により還元剤の注入量を調整し
て、脱硝反応器２内の還元剤の分布を均一化しても、経
年的な変化に対応することは困難であると共に、脱硝反
応器２内における窒素酸化物の分布が必ずしも一定でな
いことからＮＨ3／ＮＯ比も一定とならず、所望の脱硝
性能が得られなくなることがあり、又、ＮＨ3／ＮＯ比
が１．０以上となった場合、脱硝性能に関しては問題な
いが、リークアンモニアが増加し、ＳＯ3と反応して酸
性硫酸アンモニウムが生成され、後流側の機器を閉塞さ
せる等の不具合が生じていた。
【０００６】本発明は、斯かる実情に鑑み、脱硝反応器
内における還元剤と窒素酸化物との比を常時一定に制御
し得、脱硝性能の向上を図り得る脱硝装置を提供しよう
とするものである。
内における還元剤と窒素酸化物との比を常時一定に制御
し得、脱硝性能の向上を図り得る脱硝装置を提供しよう
とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、供給される排
ガスから窒素酸化物を除去する脱硝反応器と、該脱硝反
応器内へ還元剤を注入する注入配管と、該注入配管途中
に設けられた流量調整弁と、前記還元剤と窒素酸化物と
の比を検出する分析計と、該分析計からの検出信号に基
づき前記流量調整弁へ開度指令信号を出力する制御器と
を備えたことを特徴とするものである。
ガスから窒素酸化物を除去する脱硝反応器と、該脱硝反
応器内へ還元剤を注入する注入配管と、該注入配管途中
に設けられた流量調整弁と、前記還元剤と窒素酸化物と
の比を検出する分析計と、該分析計からの検出信号に基
づき前記流量調整弁へ開度指令信号を出力する制御器と
を備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】従って、実際の運転時には、脱硝反応器へ排ガ
スを供給すると共に、注入配管からアンモニア等の還元
剤を注入した状態で、分析計により還元剤と窒素酸化物
との比が検出され、該分析計からの検出信号に基づき制
御器から流量調整弁へ開度指令信号が出力され、流量調
整弁の開度が調整され、注入配管から脱硝反応器内部へ
注入される還元剤の量が増減され、脱硝反応器内部にお
ける還元剤と窒素酸化物との比が常に所望の値に保持さ
れる。
スを供給すると共に、注入配管からアンモニア等の還元
剤を注入した状態で、分析計により還元剤と窒素酸化物
との比が検出され、該分析計からの検出信号に基づき制
御器から流量調整弁へ開度指令信号が出力され、流量調
整弁の開度が調整され、注入配管から脱硝反応器内部へ
注入される還元剤の量が増減され、脱硝反応器内部にお
ける還元剤と窒素酸化物との比が常に所望の値に保持さ
れる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
明する。
【００１０】図１及び図２は本発明の一実施例であっ
て、図中、図３と同一の符号を付した部分は同一物を表
わしており、還元剤と窒素酸化物との比を検出する分析
計６を設けると共に、該分析計６からの検出信号７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄに基づき、脱硝反応器２内へ還元剤を
注入する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ途中に設けら
れた流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへ開度指令信号
８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを出力する制御器９を設ける。
て、図中、図３と同一の符号を付した部分は同一物を表
わしており、還元剤と窒素酸化物との比を検出する分析
計６を設けると共に、該分析計６からの検出信号７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄに基づき、脱硝反応器２内へ還元剤を
注入する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ途中に設けら
れた流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへ開度指令信号
８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを出力する制御器９を設ける。
【００１１】前記分析計６は、アンモニア等の還元剤や
窒素酸化物がある特殊な波長の光を吸収する性質がある
ことを利用し、光源として波長可変半導体レーザを用
い、該光源から放射される還元剤の濃度検出用或いは窒
素酸化物の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を、脱
硝反応器２の外周部所要位置に配設した移動鏡１１ｅ，
１１ｆ，１１ｇ，１１ｈ、或いは固定鏡１２と移動鏡１
３ａ，１３ｂ，１３ｃ又は固定鏡１３ｄを介して、脱硝
反応器２の外壁に設けた窓部１４ｅ，１４ｆ，１４ｇ，
１４ｈ、或いは窓部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄか
ら脱硝反応器２内部へ導入し、窓部１４ｅ，１４ｆ，１
４ｇ，１４ｈ、或いは窓部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１
５ｄと対向する側の外壁に設けた窓部１６ｅ，１６ｆ，
１６ｇ，１６ｈ、或いは窓部１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，
１７ｄを通過させた後、前記移動鏡１１ｅ，１１ｆ，１
１ｇ，１１ｈ、或いは移動鏡１３ａ，１３ｂ，１３ｃ及
び固定鏡１３ｄと脱硝反応器２を挟んで対向する位置に
配設した固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈ、或い
は固定鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄで反射させ、
該固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈ、或いは固定
鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄで反射したレーザ光
１０’を再び同じ経路で戻すことにより、該レーザ光１
０’の強度から脱硝反応器２内部所要位置における前記
還元剤と窒素酸化物の各濃度を演算し、還元剤と窒素酸
化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）を検出するようにしてあ
る。
窒素酸化物がある特殊な波長の光を吸収する性質がある
ことを利用し、光源として波長可変半導体レーザを用
い、該光源から放射される還元剤の濃度検出用或いは窒
素酸化物の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を、脱
硝反応器２の外周部所要位置に配設した移動鏡１１ｅ，
１１ｆ，１１ｇ，１１ｈ、或いは固定鏡１２と移動鏡１
３ａ，１３ｂ，１３ｃ又は固定鏡１３ｄを介して、脱硝
反応器２の外壁に設けた窓部１４ｅ，１４ｆ，１４ｇ，
１４ｈ、或いは窓部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄか
ら脱硝反応器２内部へ導入し、窓部１４ｅ，１４ｆ，１
４ｇ，１４ｈ、或いは窓部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１
５ｄと対向する側の外壁に設けた窓部１６ｅ，１６ｆ，
１６ｇ，１６ｈ、或いは窓部１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，
１７ｄを通過させた後、前記移動鏡１１ｅ，１１ｆ，１
１ｇ，１１ｈ、或いは移動鏡１３ａ，１３ｂ，１３ｃ及
び固定鏡１３ｄと脱硝反応器２を挟んで対向する位置に
配設した固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈ、或い
は固定鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄで反射させ、
該固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈ、或いは固定
鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄで反射したレーザ光
１０’を再び同じ経路で戻すことにより、該レーザ光１
０’の強度から脱硝反応器２内部所要位置における前記
還元剤と窒素酸化物の各濃度を演算し、還元剤と窒素酸
化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）を検出するようにしてあ
る。
【００１２】又、前記移動鏡１１ｅ，１１ｆ，１１ｇ，
１１ｈと固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈとを結
ぶ直線は夫々、隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の
下方に位置し、移動鏡１３ａ，１３ｂ，１３ｃ及び固定
鏡１３ｄと固定鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄとを
結ぶ直線は夫々、注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの各
中心線の下方に位置するようにしてある。
１１ｈと固定鏡１８ｅ，１８ｆ，１８ｇ，１８ｈとを結
ぶ直線は夫々、隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の
下方に位置し、移動鏡１３ａ，１３ｂ，１３ｃ及び固定
鏡１３ｄと固定鏡１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄとを
結ぶ直線は夫々、注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの各
中心線の下方に位置するようにしてある。
【００１３】次に、上記実施例の作動を説明する。
【００１４】先ず、試運転時には、脱硝反応器２へ排ガ
スを供給すると共に、流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４
ｄの開度を所要開度に保持し、注入配管３ａ，３ｂ，３
ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからア
ンモニア等の還元剤を噴霧した状態で、移動鏡１１ｅを
図２中実線で示す位置に移動させ、分析計６の光源から
還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射す
ると、該分析計６の光源から放射されたレーザ光１０
は、移動鏡１１ｅで反射して窓部１４ｅから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｅを通過した後、固定鏡１
８ｅで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側のス
プレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位
置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分析計６
の光源から窒素酸化物の濃度検出用の所要強度のレーザ
光１０を放射すると、該分析計６の光源から放射された
レーザ光１０は、移動鏡１１ｅで反射して窓部１４ｅか
ら脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１６ｅを通過した
後、固定鏡１８ｅで反射してレーザ光１０’として再び
同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応
器２内部の隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの
最先端側のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ
直線の下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、
還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出さ
れる。
スを供給すると共に、流量調整弁４ａ，４ｂ，４ｃ，４
ｄの開度を所要開度に保持し、注入配管３ａ，３ｂ，３
ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからア
ンモニア等の還元剤を噴霧した状態で、移動鏡１１ｅを
図２中実線で示す位置に移動させ、分析計６の光源から
還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射す
ると、該分析計６の光源から放射されたレーザ光１０
は、移動鏡１１ｅで反射して窓部１４ｅから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｅを通過した後、固定鏡１
８ｅで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側のス
プレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位
置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分析計６
の光源から窒素酸化物の濃度検出用の所要強度のレーザ
光１０を放射すると、該分析計６の光源から放射された
レーザ光１０は、移動鏡１１ｅで反射して窓部１４ｅか
ら脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１６ｅを通過した
後、固定鏡１８ｅで反射してレーザ光１０’として再び
同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応
器２内部の隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの
最先端側のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ
直線の下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、
還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出さ
れる。
【００１５】前記注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最
先端側のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ
3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｅが図２中仮
想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｆが図２中実
線で示す位置に移動し、分析計６の光源から放射される
還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡
１１ｆで反射して窓部１４ｆから脱硝反応器２内部へ導
入され、窓部１６ｆを通過した後、固定鏡１８ｆで反射
してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レー
ザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣接する注入
配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より二番目のス
プレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位
置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分析計６
の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の所要強
度のレーザ光１０が移動鏡１１ｆで反射して窓部１４ｆ
から脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１６ｆを通過し
た後、固定鏡１８ｆで反射してレーザ光１０’として再
び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反
応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
の最先端側より二番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒素酸化物の濃
度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／Ｎ
Ｏ比）が検出される。
先端側のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ
3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｅが図２中仮
想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｆが図２中実
線で示す位置に移動し、分析計６の光源から放射される
還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡
１１ｆで反射して窓部１４ｆから脱硝反応器２内部へ導
入され、窓部１６ｆを通過した後、固定鏡１８ｆで反射
してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レー
ザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣接する注入
配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より二番目のス
プレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位
置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分析計６
の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の所要強
度のレーザ光１０が移動鏡１１ｆで反射して窓部１４ｆ
から脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１６ｆを通過し
た後、固定鏡１８ｆで反射してレーザ光１０’として再
び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反
応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
の最先端側より二番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒素酸化物の濃
度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／Ｎ
Ｏ比）が検出される。
【００１６】前記注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最
先端側より二番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｆ
も図２中仮想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｇ
が図２中実線で示す位置に移動し、分析計６の光源から
放射される還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１
０が移動鏡１１ｇで反射して窓部１４ｇから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｇを通過した後、固定鏡１
８ｇで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より
三番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続い
て、分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検
出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡１１ｇで反射し
て窓部１４ｇから脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１
６ｇを通過した後、固定鏡１８ｇで反射してレーザ光１
０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強
度から脱硝反応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より三番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒
素酸化物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比
（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出される。
先端側より二番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｆ
も図２中仮想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｇ
が図２中実線で示す位置に移動し、分析計６の光源から
放射される還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１
０が移動鏡１１ｇで反射して窓部１４ｇから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｇを通過した後、固定鏡１
８ｇで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より
三番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続い
て、分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検
出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡１１ｇで反射し
て窓部１４ｇから脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１
６ｇを通過した後、固定鏡１８ｇで反射してレーザ光１
０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強
度から脱硝反応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より三番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒
素酸化物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比
（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出される。
【００１７】前記注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最
先端側より三番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｇ
も図２中仮想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｈ
が図２中実線で示す位置に移動し、分析計６の光源から
放射される還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１
０が移動鏡１１ｈで反射して窓部１４ｈから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｈを通過した後、固定鏡１
８ｈで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より
四番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続い
て、分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検
出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡１１ｈで反射し
て窓部１４ｈから脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１
６ｈを通過した後、固定鏡１８ｈで反射してレーザ光１
０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強
度から脱硝反応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より四番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒
素酸化物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比
（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出される。
先端側より三番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、移動鏡１１ｇ
も図２中仮想線で示す位置へ退避し、且つ移動鏡１１ｈ
が図２中実線で示す位置に移動し、分析計６の光源から
放射される還元剤の濃度検出用の所要強度のレーザ光１
０が移動鏡１１ｈで反射して窓部１４ｈから脱硝反応器
２内部へ導入され、窓部１６ｈを通過した後、固定鏡１
８ｈで反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻
り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の隣
接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より
四番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直
線の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続い
て、分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検
出用の所要強度のレーザ光１０が移動鏡１１ｈで反射し
て窓部１４ｈから脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１
６ｈを通過した後、固定鏡１８ｈで反射してレーザ光１
０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強
度から脱硝反応器２内部の隣接する注入配管３ａ，３
ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側より四番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における窒
素酸化物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比
（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出される。
【００１８】前記注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最
先端側より四番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、前記移動鏡１
１ｅが再び図２中実線で示す位置に移動し、以下、前述
と同様の操作が繰り返し行われ、検出データに基づき、
隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側、
最先端側より二番目、三番目、四番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が夫々、均
一となるよう各スプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの
微調整が行われる。
先端側より四番目のスプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５
ｄを結ぶ直線の下方位置における還元剤と窒素酸化物と
の比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出されると、前記移動鏡１
１ｅが再び図２中実線で示す位置に移動し、以下、前述
と同様の操作が繰り返し行われ、検出データに基づき、
隣接する注入配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの最先端側、
最先端側より二番目、三番目、四番目のスプレノズル５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを結ぶ直線の下方位置における還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が夫々、均
一となるよう各スプレノズル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの
微調整が行われる。
【００１９】試運転終了後の実際の運転時には、脱硝反
応器２へ排ガスを供給すると共に、流量調整弁４ａ，４
ｂ，４ｃ，４ｄの開度を所要開度に保持し、注入配管３
ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄからアンモニア等の還元剤を噴霧した状態で、
移動鏡１１ｅ，１１ｆ，１１ｇ，１１ｈを図２中仮想線
で示す位置へ全て退避させ、移動鏡１３ａを図２中実線
で示す位置に移動させ、分析計６の光源から還元剤の濃
度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射すると、該分
析計６の光源から放射されたレーザ光１０は、固定鏡１
２で反射し更に移動鏡１３ａで反射して窓部１５ａから
脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１７ａを通過した
後、固定鏡１９ａで反射してレーザ光１０’として再び
同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応
器２内部の注入配管３ａの下方位置における還元剤の濃
度が演算され、続いて、分析計６の光源から窒素酸化物
の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射すると、
該分析計６の光源から放射されたレーザ光１０は、固定
鏡１２で反射し更に移動鏡１３ａで反射して窓部１５ａ
から脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１７ａを通過し
た後、固定鏡１９ａで反射してレーザ光１０’として再
び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反
応器２内部の注入配管３ａの下方位置における窒素酸化
物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ
3／ＮＯ比）が検出される。
応器２へ排ガスを供給すると共に、流量調整弁４ａ，４
ｂ，４ｃ，４ｄの開度を所要開度に保持し、注入配管３
ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄのスプレノズル５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄからアンモニア等の還元剤を噴霧した状態で、
移動鏡１１ｅ，１１ｆ，１１ｇ，１１ｈを図２中仮想線
で示す位置へ全て退避させ、移動鏡１３ａを図２中実線
で示す位置に移動させ、分析計６の光源から還元剤の濃
度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射すると、該分
析計６の光源から放射されたレーザ光１０は、固定鏡１
２で反射し更に移動鏡１３ａで反射して窓部１５ａから
脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１７ａを通過した
後、固定鏡１９ａで反射してレーザ光１０’として再び
同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反応
器２内部の注入配管３ａの下方位置における還元剤の濃
度が演算され、続いて、分析計６の光源から窒素酸化物
の濃度検出用の所要強度のレーザ光１０を放射すると、
該分析計６の光源から放射されたレーザ光１０は、固定
鏡１２で反射し更に移動鏡１３ａで反射して窓部１５ａ
から脱硝反応器２内部へ導入され、窓部１７ａを通過し
た後、固定鏡１９ａで反射してレーザ光１０’として再
び同じ経路を戻り、該レーザ光１０’の強度から脱硝反
応器２内部の注入配管３ａの下方位置における窒素酸化
物の濃度が演算され、還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ
3／ＮＯ比）が検出される。
【００２０】脱硝反応器２内部の注入配管３ａの下方位
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ａに基づき、制御器９から流量調整弁４ａへ開度指令
信号８ａが出力され、該流量調整弁４ａの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ａの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ａに基づき、制御器９から流量調整弁４ａへ開度指令
信号８ａが出力され、該流量調整弁４ａの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ａの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
【００２１】前記流量調整弁４ａの開度が調整される
と、移動鏡１３ａが図２中仮想線で示す位置へ退避し、
且つ移動鏡１３ｂが図２中実線で示す位置に移動し、分
析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所要
強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動鏡１
３ｂで反射して窓部１５ｂから脱硝反応器２内部へ導入
され、窓部１７ｂを通過した後、固定鏡１９ｂで反射し
てレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ
光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｂの
下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分
析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の
所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動
鏡１３ｂで反射して窓部１５ｂから脱硝反応器２内部へ
導入され、窓部１７ｂを通過した後、固定鏡１９ｂで反
射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レ
ーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３
ｂの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出され
る。
と、移動鏡１３ａが図２中仮想線で示す位置へ退避し、
且つ移動鏡１３ｂが図２中実線で示す位置に移動し、分
析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所要
強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動鏡１
３ｂで反射して窓部１５ｂから脱硝反応器２内部へ導入
され、窓部１７ｂを通過した後、固定鏡１９ｂで反射し
てレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ
光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｂの
下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分
析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の
所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動
鏡１３ｂで反射して窓部１５ｂから脱硝反応器２内部へ
導入され、窓部１７ｂを通過した後、固定鏡１９ｂで反
射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レ
ーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３
ｂの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出され
る。
【００２２】脱硝反応器２内部の注入配管３ｂの下方位
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｂに基づき、制御器９から流量調整弁４ｂへ開度指令
信号８ｂが出力され、該流量調整弁４ｂの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｂの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｂに基づき、制御器９から流量調整弁４ｂへ開度指令
信号８ｂが出力され、該流量調整弁４ｂの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｂの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
【００２３】前記流量調整弁４ｂの開度が調整される
と、移動鏡１３ｂも図２中仮想線で示す位置へ退避し、
且つ移動鏡１３ｃが図２中実線で示す位置に移動し、分
析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所要
強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動鏡１
３ｃで反射して窓部１５ｃから脱硝反応器２内部へ導入
され、窓部１７ｃを通過した後、固定鏡１９ｃで反射し
てレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ
光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｃの
下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分
析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の
所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動
鏡１３ｃで反射して窓部１５ｃから脱硝反応器２内部へ
導入され、窓部１７ｃを通過した後、固定鏡１９ｃで反
射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レ
ーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３
ｃの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出され
る。
と、移動鏡１３ｂも図２中仮想線で示す位置へ退避し、
且つ移動鏡１３ｃが図２中実線で示す位置に移動し、分
析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所要
強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動鏡１
３ｃで反射して窓部１５ｃから脱硝反応器２内部へ導入
され、窓部１７ｃを通過した後、固定鏡１９ｃで反射し
てレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レーザ
光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｃの
下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、分
析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用の
所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に移動
鏡１３ｃで反射して窓部１５ｃから脱硝反応器２内部へ
導入され、窓部１７ｃを通過した後、固定鏡１９ｃで反
射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レ
ーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３
ｃの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、還
元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出され
る。
【００２４】脱硝反応器２内部の注入配管３ｃの下方位
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｃに基づき、制御器９から流量調整弁４ｃへ開度指令
信号８ｃが出力され、該流量調整弁４ｃの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｃの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｃに基づき、制御器９から流量調整弁４ｃへ開度指令
信号８ｃが出力され、該流量調整弁４ｃの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｃの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
【００２５】前記流量調整弁４ｃの開度が調整される
と、移動鏡１３ｃも図２中仮想線で示す位置へ退避し、
分析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所
要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に固定鏡
１３ｄで反射して窓部１５ｄから脱硝反応器２内部へ導
入され、窓部１７ｄを通過した後、固定鏡１９ｄで反射
してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レー
ザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｄ
の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、
分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用
の所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に固
定鏡１３ｄで反射して窓部１５ｄから脱硝反応器２内部
へ導入され、窓部１７ｄを通過した後、固定鏡１９ｄで
反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該
レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管
３ｄの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、
還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出さ
れる。
と、移動鏡１３ｃも図２中仮想線で示す位置へ退避し、
分析計６の光源から放射される還元剤の濃度検出用の所
要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に固定鏡
１３ｄで反射して窓部１５ｄから脱硝反応器２内部へ導
入され、窓部１７ｄを通過した後、固定鏡１９ｄで反射
してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該レー
ザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管３ｄ
の下方位置における還元剤の濃度が演算され、続いて、
分析計６の光源から放射される窒素酸化物の濃度検出用
の所要強度のレーザ光１０が固定鏡１２で反射し更に固
定鏡１３ｄで反射して窓部１５ｄから脱硝反応器２内部
へ導入され、窓部１７ｄを通過した後、固定鏡１９ｄで
反射してレーザ光１０’として再び同じ経路を戻り、該
レーザ光１０’の強度から脱硝反応器２内部の注入配管
３ｄの下方位置における窒素酸化物の濃度が演算され、
還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が検出さ
れる。
【００２６】脱硝反応器２内部の注入配管３ｄの下方位
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｄに基づき、制御器９から流量調整弁４ｄへ開度指令
信号８ｄが出力され、該流量調整弁４ｄの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｄの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
置における還元剤と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ
比）が検出されると、分析計６から出力される検出信号
７ｄに基づき、制御器９から流量調整弁４ｄへ開度指令
信号８ｄが出力され、該流量調整弁４ｄの開度が調整さ
れ、前記注入配管３ｄの下方位置における還元剤と窒素
酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保持され
る。
【００２７】前記流量調整弁４ｄの開度が調整される
と、前記移動鏡１３ａが再び図２中実線で示す位置に移
動し、以下、前述と同様の操作が繰り返し行われ、注入
配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの下方位置における還元剤
と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保
持され、リークアンモニアが増加することもなく、該リ
ークアンモニアとＳＯ3との反応による酸性硫酸アンモ
ニウムの生成も起こらなくなり、後流側の機器を閉塞す
る等の不具合も生じない。
と、前記移動鏡１３ａが再び図２中実線で示す位置に移
動し、以下、前述と同様の操作が繰り返し行われ、注入
配管３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの下方位置における還元剤
と窒素酸化物との比（ＮＨ3／ＮＯ比）が所定の値に保
持され、リークアンモニアが増加することもなく、該リ
ークアンモニアとＳＯ3との反応による酸性硫酸アンモ
ニウムの生成も起こらなくなり、後流側の機器を閉塞す
る等の不具合も生じない。
【００２８】こうして、脱硝反応器２内における還元剤
と窒素酸化物との比を常時一定に制御することができ、
脱硝性能の向上を図ることが可能となる。
と窒素酸化物との比を常時一定に制御することができ、
脱硝性能の向上を図ることが可能となる。
【００２９】尚、本発明の脱硝装置は、上述の実施例に
のみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であ
る。
のみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であ
る。
【００３０】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の脱硝装置
によれば、脱硝反応器内における還元剤と窒素酸化物と
の比を常時一定に制御し得、脱硝性能の向上を図り得る
という優れた効果を奏し得る。
によれば、脱硝反応器内における還元剤と窒素酸化物と
の比を常時一定に制御し得、脱硝性能の向上を図り得る
という優れた効果を奏し得る。
【図１】本発明の一実施例の全体概要斜視図である。
【図２】本発明の一実施例の全体概要平断面図である。
【図３】従来例の全体概要斜視図である。
２ 脱硝反応器 ３ａ 注入配管 ３ｂ 注入配管 ３ｃ 注入配管 ３ｄ 注入配管 ４ａ 流量調整弁 ４ｂ 流量調整弁 ４ｃ 流量調整弁 ４ｄ 流量調整弁 ６ 分析計 ７ａ 検出信号 ７ｂ 検出信号 ７ｃ 検出信号 ７ｄ 検出信号 ８ａ 開度指令信号 ８ｂ 開度指令信号 ８ｃ 開度指令信号 ８ｄ 開度指令信号 ９ 制御器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/86 ＺＡＢ Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢ (72)発明者 三谷 茂樹 大阪府大阪市北区中之島３丁目３番22号 関西電力株式会社内 (72)発明者 山口 文彦 東京都江東区豊洲三丁目２番16号 石川島 播磨重工業株式会社豊洲総合事務所内
Claims (1)
- 【請求項１】 供給される排ガスから窒素酸化物を除去
する脱硝反応器と、該脱硝反応器内へ還元剤を注入する
注入配管と、該注入配管途中に設けられた流量調整弁
と、前記還元剤と窒素酸化物との比を検出する分析計
と、該分析計からの検出信号に基づき前記流量調整弁へ
開度指令信号を出力する制御器とを備えたことを特徴と
する脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21173893A JP3488268B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 脱硝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21173893A JP3488268B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 脱硝装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0760066A true JPH0760066A (ja) | 1995-03-07 |
| JP3488268B2 JP3488268B2 (ja) | 2004-01-19 |
Family
ID=16610774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21173893A Expired - Fee Related JP3488268B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3488268B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002361040A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-17 | Takuma Co Ltd | 排ガス処理の制御方法とその制御機構 |
| WO2011105116A1 (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 三菱重工業株式会社 | 脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法 |
| CN105983302A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-10-05 | 邢红涛 | Scr脱硝工艺的成分检测与喷氨控制系统 |
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-
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- 1993-08-26 JP JP21173893A patent/JP3488268B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN105983302A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-10-05 | 邢红涛 | Scr脱硝工艺的成分检测与喷氨控制系统 |
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