JP2011173091A - 塗布装置及びノズル洗浄方法 - Google Patents
塗布装置及びノズル洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011173091A JP2011173091A JP2010040485A JP2010040485A JP2011173091A JP 2011173091 A JP2011173091 A JP 2011173091A JP 2010040485 A JP2010040485 A JP 2010040485A JP 2010040485 A JP2010040485 A JP 2010040485A JP 2011173091 A JP2011173091 A JP 2011173091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- light
- substrate
- photocatalyst layer
- discharge port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0225—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/52—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter for removal of clogging particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
Abstract
【解決手段】被処理基板Gの幅方向に長いスリット状の吐出口10aを有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液Rを吐出するノズル10と、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段5,6とを具備する塗布装置1であって、前記吐出口が形成されるノズル先端部10bにおいて塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層30と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段34,35とを備える
【選択図】図1
Description
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、塗布液であるフォトレジスト(以下、レジストと呼ぶ)が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
このスリットコーティング法にあっては、仰向けにされた被処理基板と、その上方に配置されたノズル50とを相対的に移動させ、前記吐出口50aから帯状のレジスト液を基板上に吐出することによってレジスト膜を塗布形成するものである。
この方法によれば、基板上に均一な厚膜のレジスト膜を容易に形成することができる。
また、搬送される被処理基板Gの移動方向側の内側面50bには、ノズル50の長手方向に沿って溝状に形成されたキャビティ50dが設けられている。このキャビティ50dに、ノズル50に供給されたレジスト液が一旦溜められることによって、スリット状の吐出口50aから一様に吐出されるようになされている。
そのように内側面50bに付着しているレジストは、乾燥固化し、結晶物(以下、付着物と呼ぶ)となりやすく、そのまま放置すると、吐出口50aからレジストを一様に吐出することができなるため、定期的にノズル内の洗浄を行う必要があった。
従来、ノズル内の洗浄は、吐出口50aからノズル50内に金属板を挿入し、内側面50b、50cの付着物を掻き出して除去する方法、或いは、ノズル50を分解して各部品の洗浄を行う方法が採られていた。
尚、このようなスリット状のノズルについては、特許文献1に記載されている。
また、ノズル50を分解し、各部品を洗浄する方法にあっては、その作業工程数が多く、生産性が大きく低下するという課題があった。
即ち、ノズル待機時にノズル先端の内側面に光照射を行うことにより、前記内側面における付着物を解離することができ、吐出口から洗浄液、或いは塗布液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口から金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層への光照射を行うことによって、ノズル先端の内側面への付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
このような方法によれば、前記した塗布装置による効果を得ることができる。
尚、この実施形態では、ガスの噴出及び吸気により基板Gを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
尚、浮上搬送部2Aからコロ搬送部2Bへの基板引き渡しを円滑に行うために、ガイドレール5は、浮上ステージ3の左右側方だけでなく、コロ搬送部2Bの側方にまで延設されている。
また、前記基板キャリア6による基板Gの保持、及び搬送動作は、コンピュータからなる制御部50により制御される。
尚、本実施形態にあっては、ガラス基板Gへのレジスト液の塗布時には、ノズル10は浮上ステージ3に対し移動せず、ノズル10の下方をガラス基板Gが搬送される。このため、ガイドレール5及び基板キャリア6により、ノズル10に対し基板Gを相対的に移動させる相対移動手段が構成される。また、レジスト供給源20、送出ポンプ21、及び流量調整バルブ22により塗布液供給手段が構成される。
また、ノズルアーム12には、昇降機構が設けられており、ノズル10は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図2に示すように、ノズル10は、ガラス基板Gにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール13、及び待機部15との間を移動可能となされている。
尚、ノズル10の吐出位置と待機位置との間の移動制御、及びプライミング処理に係る回転ローラ13の駆動、ノズル10の吐出口10aからの吐出制御、待機部15の動作制御等は制御部50によって行われる。
即ち、図3に示すようにノズル10は、ガラス基板Gの移動方向側(下流側)に配置されるノズルパーツ16(第一のノズルパーツ)と、ノズルパーツ17に対し所定の間隙Cを空けて(上流側に)対向配置されるノズルパーツ17(第二のノズルパーツ)とにより構成される。
レジスト液の流路となる前記間隙Cは、ノズルパーツ16の内側面16aとノズルパーツ17の内側面17aとにより形成される。内側面16a、17aはそれぞれ略垂直面となされ、浮上ステージ3の幅方向に延設されている。
このようにノズル先端部10bにおいて、レジスト吐出後にレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面16aに光触媒層30が形成されていることによって、付着物を酸化作用により解離し、除去しやすい状態とすることができる。
即ち、図3に示すようにノズルパーツ17のノズル先端部10bは、透光部材31により形成される。透光部材31は、光ファイバとして利用可能な材料、例えば透光性に優れる石英部材で形成されるのが望ましい。
この透光部材31は、図示するように下端は吐出口10a、上端はノズルパーツ16のキャビティ16bの上端と略同じ高さとなされている。
また、透光部材31の外側面にはノズル内方向に反射面を有する光反射板32がノズル10の長手方向(ステージ3の幅方向)に沿って設けられている。
さらに、この導光板33の上端部には光触媒反応可能な光である短波長の紫外線を放射する光源34(例えばエキシマランプ)が配置され、その放射方向が下方、即ち導光板33に向けられている。このため、光源34から放射された紫外線は、導光板33を介して透光部材31に入射され、さらに光反射板32に反射することによって放射角度が変更され、ノズルパーツ16の光触媒層30に対し照射されるようになされている。
かかる構成により、光源34から放射された紫外線が照射される光触媒層30では効果的に光触媒作用が生じ、光触媒層30上の付着物を容易に解離することができる。
また、ノズルパーツ17において、前記透光部材31、導光板33を除く部分は、例えばステンレス鋼により形成されている。
即ち、洗浄液供給手段として、洗浄液供給源36と、そこから所定量の洗浄液を送出するための送出ポンプ37、流量調整バルブ38が設けられている。そして、ノズル10への供給液が、切換バルブ39(切換手段)によって、レジスト液と洗浄液のいずれかに切り換えられるようになされている。
塗布装置1においては、浮上ステージ3に新たにガラス基板Gが搬入されると、基板Gはステージ3上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア6により保持される(図4のステップS1)。
そして、制御部50の制御により基板キャリア6が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される(図4のステップS2)。
基板G上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル10からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Gは、浮上搬送部2Aからコロ搬送部2Bに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される(図4のステップS4)。
そして、先ずノズル10の先端部10bの外面に対し、ノズル洗浄部15aにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部15bにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル10の一次洗浄が完了する(図4のステップS6)。
これにより、ノズル先端部10bにおいて光触媒層30上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
また、プライミング処理が完了したノズル10は塗布位置へと移動され、次の基板Gの塗布処理を行うこととなる(図4のステップS10)。
これにより、内側面16a,17aに残る付着物を洗浄液Tがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップS7において解離された付着物が容易に洗い流される(二次洗浄)。
その後、プライミング処理によって吐出口10aに均一にレジスト液Rが付着され(図4のステップS9)、ノズル10は塗布位置へと移動される(図4のステップS10)。
この構成において、ノズル待機時にノズル先端10bの内側面16aに光照射を行うことにより、前記内側面16aにおける付着物を解離することができ、吐出口10aから洗浄液、或いはレジスト液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口10aから金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層30への光照射を行うことによって、ノズル先端10bの内側面16aへの付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
さらに、光源34の上流側の側方には、浮上ステージ3を跨いでレール45が架設され、そのレール45に沿ってCCDカメラ46(光センサ)が移動可能に設けられている。このCCDカメラ46は、投光部(図示せず)と受光部(図示せず)とを有し、投光部により所定波長の光を投光し、投光対象において反射した光を受光部が受光する構成となされている。
即ち、図示するように、ノズルパーツ16の構成は第一の実施形態と同じであるが、ノズルパーツ17において図3に示した導光板33及び反射板32は具備しない。
また、ノズルパーツ17において先端部10bには、図3に示した透光部材31と同様の部材で形成された透光部材47が設けられる。この透光部材47の上端は、少なくとも光源34から放射された光が、この透光部材47を透過し、対向するノズルパーツ16のキャビティ16bに照射される高さとなされている。
このため、プライミング処理において、ノズル10の吐出口10aからレジスト液を吐出する前に、光源34により光触媒層30に対し紫外線を照射することによって、光触媒層30上における付着物を効果的に解離することができる。そして、吐出口10aからレジスト液を吐出することにより、解離された付着物を容易に除去することができる。
具体的には、ノズル先端10bの内側面16aに固化した付着物が存在する場合、投光された光の強度が反射光において低下すると共に、反射光において位相ずれが生じる。そのため、制御部50では、受光信号から得られる反射光の位相と強度とが、それぞれ所定範囲内であるか否かを判定することによって、内側面16aにおいて固化した付着物の有無を判定するようになされている。
尚、CCDカメラ46が投光する光の波長は、レジスト液に対し吸収帯の少ない波長が望ましい。
塗布装置1においては、浮上ステージ3に新たにガラス基板Gが搬入されると、基板Gはステージ3上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア6により保持される(図9のステップST1)。
そして、制御部50の制御により基板キャリア6が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される(図9のステップST2)。
基板G上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル10からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Gは、浮上搬送部2Aからコロ搬送部2Bに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される(図9のステップST4)。
そして、先ずノズル10の先端部10bの外面に対し、ノズル洗浄部15aにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部15bにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル10の一次洗浄が完了する(図9のステップST6)。
そして、CCDカメラ46がレール45に沿って移動しながら所定波長の光をノズル先端部10bに向けて投光し、光触媒層30において反射した反射光を受光する(図9のステップST7)。
CCDカメラ46による受光信号は、制御部50において光強度及び位相が所定範囲内であるか解析され、ノズル先端部10bの内側面16aに付着した固化物の有無が判定される。
これにより、ノズル先端部10bにおいて光触媒層30上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
これにより、内側面16a,17aに残る付着物を洗浄液Tがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップST9において解離された付着物が容易に洗い流される(二次洗浄)。
尚、ステップST8において、制御部50により内側面16aに付着物が無いと判定された場合、紫外線照射(ステップST9)及び洗浄液Tの吐出(ステップST10)は行われず、ステップST11のプライミング処理が行われる。
プライミング処理が完了したノズル10は塗布位置へと移動され、次の基板Gの塗布処理を行うこととなる(図9のステップST12)。
さらに、ノズル先端部10bの内側面16aの状態を検出するためのCCDカメラ46が設けられ、制御部50において内側面16aにおける付着物の有無が判定される。
この構成により、前記第一の実施形態と同様の作用効果を得ることができるだけでなく、ノズル先端部10bの内側面16aに付着物が有る場合にのみ、内側面16aの光触媒層30に対し光照射を行えばよく、効率的にノズル内の洗浄を行うことができる。
例えば、前記ステップST10を省き、ステップST11のプライミング処理におけるレジスト液Rの吐出により付着物を洗い流すようにしてもよい。
例えば、ノズル10の一次洗浄において、ノズル先端部10bの外面をノズル洗浄部15aで洗浄した後、前記光触媒層30に光照射を行い、解離した付着物を、ダミーディスペンス部15bにおけるレジスト液吐出により洗い流し、更にその後、プライミング処理を行うようにしてもよい。
また、前記第一、第二の実施形態にあっては、本発明にかかる塗布装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる塗布装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。
5 ガイドレール(相対移動手段)
6 基板キャリア(相対移動手段)
10 ノズル
10a 吐出口
30 光触媒層
34 光源(光照射手段)
35 光源駆動部(光照射手段)
G ガラス基板(被処理基板)
R レジスト(塗布液)
Claims (6)
- 被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備する塗布装置であって、
前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記ノズル先端部は、前記基板の移動方向側に配置された第一のノズルパーツと、前記第一のノズルパーツに対し所定の間隙を空けて対向配置された第二のノズルパーツとにより構成され、
前記第一のノズルパーツの内側面に、前記光触媒層が設けられ、前記第二のノズルパーツは透光部材により形成され、
前記光照射手段は、前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射することを特徴とする請求項1に記載された塗布装置。 - 前記ノズルに前記塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記ノズルに前記塗布液を溶解可能な洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗布液供給手段から前記ノズルへの供給経路と前記洗浄液供給手段から前記ノズルへの供給経路とを切換可能な切換手段とを備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された塗布装置。
- 前記第二のノズルパーツの透光部材を介して、第一のノズルパーツの内側面に形成された光触媒層に対し、所定波長の光を投光し、その反射光を受光する光センサと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定する制御手段とを備えることを特徴とする請求項2または請求項3に記載された塗布装置。 - 被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段と、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備える塗布装置において、前記ノズル先端部内を洗浄するノズル洗浄方法であって、
前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを含むことを特徴とするノズル洗浄方法。 - 前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、
前記透光部材を介して前記光触媒層に対し所定波長の光を投光し、その反射光を光センサにより受光するステップと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定するステップとを実行し、
前記光触媒層における付着物が有ると判定された場合に、
前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを実行することを特徴とする請求項5に記載されたノズル洗浄方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040485A JP5097787B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 塗布装置及びノズル洗浄方法 |
KR1020110003793A KR20110097616A (ko) | 2010-02-25 | 2011-01-14 | 액처리 장치 및 노즐 세정 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040485A JP5097787B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 塗布装置及びノズル洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011173091A true JP2011173091A (ja) | 2011-09-08 |
JP5097787B2 JP5097787B2 (ja) | 2012-12-12 |
Family
ID=44686480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010040485A Expired - Fee Related JP5097787B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 塗布装置及びノズル洗浄方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5097787B2 (ja) |
KR (1) | KR20110097616A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101261290B1 (ko) | 2011-10-04 | 2013-05-06 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 코터 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 |
JP2016184672A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布液供給装置、塗布液供給装置における洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 |
EP3733308A3 (de) * | 2019-05-03 | 2020-12-09 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbearbeitung |
US11141759B2 (en) | 2017-06-13 | 2021-10-12 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagesbas | Method and apparatus for producing a decorative surface |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000126663A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | カーテン塗布装置及び塗布方法 |
JP2003145006A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-20 | Konica Corp | コータとそれを用いた塗布方法及びコータの製造方法 |
JP2006263592A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Optrex Corp | 遅延型光硬化性樹脂塗布装置およびこれを用いた遅延型光硬化性樹脂塗布方法 |
JP2007260488A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | スロットノズル塗布装置及び異物検査装置 |
JP2008018386A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Ricoh Co Ltd | カーテン塗布装置及びカーテン塗布方法 |
JP2008200663A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置 |
-
2010
- 2010-02-25 JP JP2010040485A patent/JP5097787B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-01-14 KR KR1020110003793A patent/KR20110097616A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000126663A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | カーテン塗布装置及び塗布方法 |
JP2003145006A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-20 | Konica Corp | コータとそれを用いた塗布方法及びコータの製造方法 |
JP2006263592A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Optrex Corp | 遅延型光硬化性樹脂塗布装置およびこれを用いた遅延型光硬化性樹脂塗布方法 |
JP2007260488A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | スロットノズル塗布装置及び異物検査装置 |
JP2008018386A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Ricoh Co Ltd | カーテン塗布装置及びカーテン塗布方法 |
JP2008200663A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101261290B1 (ko) | 2011-10-04 | 2013-05-06 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 코터 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 |
JP2016184672A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布液供給装置、塗布液供給装置における洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 |
US11511318B2 (en) | 2017-06-13 | 2022-11-29 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Method and apparatus for producing a decorative workpiece and workpiece |
US11883843B2 (en) | 2017-06-13 | 2024-01-30 | Hymmen Gmbh Maschinen-Und Anlagenbau | Method for producing a structured surface |
US11717850B2 (en) | 2017-06-13 | 2023-08-08 | Hymmen Gmbh Maschinen-Und Anlagenbau | Method and apparatus for producing a decorative workpiece and workpiece |
US11717851B2 (en) | 2017-06-13 | 2023-08-08 | Hymmen GmbH Maschinen—und Anlagenbau | Method and apparatus for producing a decorative workpiece and workpiece |
US11141759B2 (en) | 2017-06-13 | 2021-10-12 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagesbas | Method and apparatus for producing a decorative surface |
US11420229B2 (en) | 2017-06-13 | 2022-08-23 | Hymmen GmbH Maschinen—und Anlagenbau | Method and apparatus for producing a decorative surface |
CN114174076A (zh) * | 2019-05-03 | 2022-03-11 | 海曼机械和设备有限公司 | 用于加工表面的方法和装置 |
US11559824B2 (en) | 2019-05-03 | 2023-01-24 | Hymmen Gmbh Maschinen-Und Anlagenbau | Method for producing a structure on a surface |
EP4212254A1 (de) * | 2019-05-03 | 2023-07-19 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbearbeitung |
WO2020225215A3 (de) * | 2019-05-03 | 2021-01-28 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbearbeitung |
CN112188936A (zh) * | 2019-05-03 | 2021-01-05 | 海曼机械和设备有限公司 | 用于形成装饰表面的方法和装置 |
CN112188936B (zh) * | 2019-05-03 | 2024-01-09 | 海曼机械和设备有限公司 | 用于形成装饰表面的方法和装置 |
EP3733308A3 (de) * | 2019-05-03 | 2020-12-09 | Hymmen GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbearbeitung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5097787B2 (ja) | 2012-12-12 |
KR20110097616A (ko) | 2011-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3918401B2 (ja) | 基板乾燥装置及び乾燥方法、並びに基板の製造方法 | |
JP4523498B2 (ja) | 現像処理装置及び現像処理方法 | |
JP5097787B2 (ja) | 塗布装置及びノズル洗浄方法 | |
JP4451385B2 (ja) | 塗布処理装置及び塗布処理方法 | |
TW201041066A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP4318709B2 (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
KR20120064039A (ko) | 현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템 | |
JP2012043949A (ja) | 塗布装置及びノズルのメンテナンス方法 | |
JP2005058913A (ja) | 塗布ノズル及び塗布装置 | |
KR20030005029A (ko) | 액처리장치 및 액처리방법 | |
KR101722788B1 (ko) | 도포 처리 장치 및 도포 처리 방법 | |
JP2006108287A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4365404B2 (ja) | レジスト液供給装置及び基板処理システム | |
JP3699293B2 (ja) | 剥離装置および剥離方法 | |
JP2003112951A (ja) | ガラス板洗浄装置 | |
JP4954642B2 (ja) | 現像処理装置及び現像処理方法 | |
JP3959634B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2006253515A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20060004308A (ko) | 포토 마스크 세정장치 및 그 방법 | |
TWI809603B (zh) | 基板搬送裝置、顯影裝置以及顯影方法 | |
JP4052820B2 (ja) | 現像処理装置 | |
JP4523402B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
WO2005048336A1 (ja) | 液切り装置 | |
JP2008200674A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120823 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120831 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120918 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150928 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |