JP2011159339A - 光学素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】
可変焦点レンズアクチュエータにおいて小型、低消費電力で多様な球面収差を補正できる可変焦点レンズアクチュエータを提供する。
【解決手段】
可変焦点レンズアクチュエータは照射される光を透過する剛性膜と、この剛性膜と透明変形膜との間を満たす透明液体と、磁界が加えられることで透明変形膜に撓む力を付与する磁性力付与部材と、電流が印加されることにより磁性力付与部材に磁界を加えて透明変形膜を所望形状に撓ませる電磁石構造体と、光が透過するレンズ領域と、透明液体の予備領域と、レンズ領域と予備領域の間に流れる透明液体に方向依存性のある流れ抵抗を持つ流路とを備える。
【選択図】図1
可変焦点レンズアクチュエータにおいて小型、低消費電力で多様な球面収差を補正できる可変焦点レンズアクチュエータを提供する。
【解決手段】
可変焦点レンズアクチュエータは照射される光を透過する剛性膜と、この剛性膜と透明変形膜との間を満たす透明液体と、磁界が加えられることで透明変形膜に撓む力を付与する磁性力付与部材と、電流が印加されることにより磁性力付与部材に磁界を加えて透明変形膜を所望形状に撓ませる電磁石構造体と、光が透過するレンズ領域と、透明液体の予備領域と、レンズ領域と予備領域の間に流れる透明液体に方向依存性のある流れ抵抗を持つ流路とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、光ピックアップ等に搭載される光学素子に関する。
近年、インターネットの普及や画像の高画質化等に伴う電子情報量の増加が著しいこのことから、主要な情報記録媒体の1つである光ディスクは高密度化の一途をたどっている。
一般に高密度化する方式としては、対物レンズの開口数増加と波長を短波長化することで集光した光スポットサイズを縮小化する方式や、記録層を多層化する方式などが採用されている。しかしながら開口数を増加することに伴い、ディスク面と記録層間距離の誤差変動によって生じる球面収差が急激に増大することになってしまっている。
また、記録層多層化によりディスク面と各記録層間との距離が数10マイクロメートル異なるため、正常な記録・再生動作を実現するためにはこれらにより生じる球面収差を補正する機構が必須となる。
球面収差を補正する従来技術として、例えば特許文献1には光ピックアップにおいて球面収差を補正するレンズをアクチュエータで光軸方向に対して平行に移動させる技術が開示されている。
また、特許文献2には光ピックアップにおいて光の位相差を発生させる透過型液晶素子を用い、ディテクタからの信号により球面収差を補正する技術が開示されている。
さらに、球面収差を補正するためにはレンズの焦点距離を可変とすることも有効であり、特許文献3では、内部に液体を満たしたレンズを電磁力で変形させて焦点距離を変化させる技術が開示されている。
特許文献1に示した例では、次世代光記録の多層化に伴い、大きな球面収差がさらに生じることになる。そのため、その補正にはレンズの光軸方向へのさらに大きな平行移動が必要となる。例えば、4層以上になると、補正のためにレンズを光軸方向へ数cm移動させなければならない場合がある。また、本例では球面収差補正機構が複雑であることから設置スペースが大きくなる。したがって、小型・薄型化が必須である光ピックアップでは球面収差補正するための機構部品配置スペース確保が困難になるという問題がある。
また特許文献2に示した例では、液晶素子が使用環境温度によって電圧−光透過度の特性が異なる問題があり、また球面収差補正には液晶素子に多数の電極が必要となる。さらに、制御が困難で光ピックアップ全体の電極数が増大するという問題がある。
さらに特許文献3に示した例では、可変レンズの駆動電極が少なく、レンズの焦点距離はレンズ上面に固定した磁性体を下部の電磁石で引き付けるだけの簡易な構造となっているため小型化には適している。しかしながら、レンズ上面に固定した磁性体と電磁石との距離が離れているため大きな力が発生しにくいという問題がる。またレンズ形状維持には電磁石に継続的に電流を流す必要があり、消費電力が大きくなるという問題がある。
本発明の目的は、小型かつ簡易な制御で多様な球面収差を低消費電力で補正できる光学素子を提供することにある。
上記目的は、2枚の透明部材との間にスペーサを介して形成された空間と、この空間に封入された透明液体と、前記透明部材のいずれか一方に取り付けられた磁性部材と、この磁性部材を動作させる電磁石とを備え、この電磁石に電流を流して前記透明部材を動作させる光学素子において、前記空間内にスペーサを挿入するとともに、このスペーサは光が透過する領域と、前記透明液体の量を調整するための予備領域と、前記透明液体の流れ抵抗に流れ方向依存性を有する流路を備えていることにより達成される。
また上記目的は、前記透明部材と前記電辞職は円形または楕円形状であることにより達成される。
また上記目的は、前記予備領域には体積変化調整のための気体が封入されていることにより達成される。
また上記目的は、前記電磁石は前記光の透過する領域の前記透明部材に取り付けられていることにより達成される。
また上記目的は、前記電磁石は前記予備領域の前記透明部材に取り付けられていることにより達成される。
また上記目的は、前記透明部材に撓む力を付与する前記電磁石を圧電素子部材とし、この圧電素子部材に電圧を加え前記透明部材を所望形状に撓ませることにより達成される。
本発明によれば、小型かつ簡易な低消費電力の制御で多様な球面収差を補正できる光学素子を提供できる。
以下、本発明の一実施例を添付図面を参照して説明する。
さて、特許文献3に記載されたレンズは透明な袋体内に透明液体を封入して形成したものである。このレンズの球面収差補正にあたり、特許文献3ではレンズに取り付けられた磁性部材と電磁石との組み合わせによって球面収差補正のためにレンズを動かしている。このようなレンズを備えた特許文献3では、レンズに対して所望の曲率状態を持続させるためには電磁石に電流を継続して流し続ける必要があることから、昨今の省電力化に逆行してしまうことになる。
そこで本発明の発明者らは省電力の観点から、電磁石の電流を継続的に流し続けるのではなく断続的、つまりパルスで電流を流すことを考えたものである。その結果、レンズを構成する透明液体と流体ダイオードとの組み合わせにヒントを得て、以下のような構成を考えた。
つまり、電磁石に印加された1パルスの電流によってレンズを所望の曲率に変化させると、レンズ内部と連通したリザーバタックから透明液体がレンズ内に供給される。供給された透明液体は徐々にリザーバタンクに逆流し、所望の曲率が変化してしまったら再び1パルスの電流を印加して所望の曲率に戻すようにするものである。この一連の動作を連続して行うことで球面収差補正を行うものである。これにより電力を継続して供給することなくレンズの所望曲率を持続できる。
ところで、所望の曲率をできるだけ長く持続させるためには、透明液体の戻り時間を長くすることが重要であることから、本発明の発明者らは流体ダイオードの応用を検討した結果、以下の実施例を得た。
図1は第1の実施例を備えた可変焦点レンズ装置の光学素子(以下、可変焦点レンズアクチュエータA1という)を組み込んだ光ピックアップH1の概略図である。
図1において、第1の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA1は、レーザビームが透過するレンズの入射・透過両波面を任意に変形させて球面収差補正を行うものである。
図1において、第1の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA1は、レーザビームが透過するレンズの入射・透過両波面を任意に変形させて球面収差補正を行うものである。
この光ピックアップH1は、光ディスク32の記録層31に照射するレーザビームを発光するレーザ光源27と、光ディスク32の記録層31で反射されたレーザビームを検出するディテクタ21とを備えている。また光ピックアップH1は、レーザ光源27から光ディスク32の記録層31を介してのディテクタ21までのレーザビームの光路に次のような光学部材を備えている。
レーザ光源27や光ディスク32の記録層31からのレーザビームを反射と透過で分割する偏光ビームスプリッタ23を備えている。この偏光ビームスプリッタ23で反射されたレーザ光源27からのレーザビームを反射ミラー33方向に透過すると共にレーザビームの発散角度を変換する可変焦点レンズアクチュエータA1を備えている。この可変焦点レンズアクチュエータA1を透過したレーザビームを光ディスク32の記録層31に向けて反射するとともに、記録層31で反射されたレーザビームをディテクタ21に向けて反射するミラー33を備えている。直線偏光を円偏光に変換する1/4波長板28と、レンズアクチュエータ30により光軸方向に移動され光ディスク32の記録層31に対してレーザビームを集光する対物レンズ29を備えている。記録層31で反射されたレーザビームをディテクタ21に対して集光する集光レンズ22とを備えている。24はフロントモニタである。C1は制御回路であり、この制御回路C1はレンズ駆動回路C2とミラー駆動回路に接続されている。
なお、光ピックアップH1のレーザ光源27と偏光ビームスプリッタ23との間には、レーザ光源27からのレーザビームを平行光とするコリメートレンズ26と、コリメートレンズ26でコリメートされたレーザビームを分割するグレーティング25とを備えている。
可変焦点レンズアクチュエータA1の詳細を図2(a)〜(c)を使って説明する。
図2(a)は、可変焦点レンズアクチュエータA1を例示した軸方向の横断面図である。 図2(b)は、可変焦点レンズアクチュエータA1のE−E線断面図である。
図2(c)は、可変焦点レンズアクチュエータA1のD−D線断面図である。
図2(a)は、可変焦点レンズアクチュエータA1を例示した軸方向の横断面図である。 図2(b)は、可変焦点レンズアクチュエータA1のE−E線断面図である。
図2(c)は、可変焦点レンズアクチュエータA1のD−D線断面図である。
図2(b)において、円形の横断面を有するレーザビームは例えばガラス等の透明剛性膜2を透過した後透明液体5(例えばマッチングオイル等)を透過し、さらに透明な変形膜6bで屈折されて集光される。透明液体5はスペーサ3sを介して上部透明変形膜2と下部透明変形膜6bとの間に形成された空間内に封入されている。
図2(a)(c)において、レンズ領域P2は全領域が透明液体5で満たされている。レンズ曲率変化に伴うレンズ領域P2の体積が変化するのを補う透明液体5を溜めるリザーバ領域P3は一部に気体4が満たされている。リザーバ領域P3内の透明液体5の増減に伴い、気体4が圧縮と膨張を行うためリザーバ領域P3内の透明液体5の量を増減させている。
透明変形膜6b面上には透明変形膜6bをパラボラ状に撓ませるため、リング状の磁性体8が固定されている。リング状の磁性体8は、それ自身の剛性により変形膜の変形を阻害しないため、低剛性の構造がより望ましい。なお、リング状磁性体8は、例えばフォトレジストに磁性粉体を分散させた複合材料でもよく、磁界によって力を受ける材料であれば限定されるものではない。
図3(c)は図2(a)のC−C線断面図である。
図3(c)において、図2(a)に示したスペーサ3sと図2(c)に示したスペーサ3cと透明変形膜6bとで形成される流体抵抗領域P1はレンズ領域P2とリザーバ領域P3それぞれの透明液体5とを繋ぐ流路である。
図3(c)において、図2(a)に示したスペーサ3sと図2(c)に示したスペーサ3cと透明変形膜6bとで形成される流体抵抗領域P1はレンズ領域P2とリザーバ領域P3それぞれの透明液体5とを繋ぐ流路である。
流体抵抗領域P1は図3(a)、図3(b)に示すように「八」の字状の流路が形成されており、透明流体の流れL2の方向によってそれぞれの流体抵抗が異なる。結果として図3(c)に示すように、断面積が大きくなる方向に透明流体5が流入し易い(多く流れる)構造となっている。
換言すると、レンズ領域P2に向かって外広がりな「八」の字の空間に透明液体は流れやすいものの、図3(b)に示すように流体抵抗領域P1で流路が急激に絞られるため、流体抵抗領域P1から外広がり方向に流れる液体よりも流れが悪くなる。つまり、図3(c)の矢印で示すように右方向を指している矢印(太い矢印)の流量が多いことになる。
これを図2(a)の例を使って説明すると、リザーバ領域P3から流体抵抗領域P1を経由してレンズ領域P2内に流入した透明流体5は、流体抵抗領域P1の形状によってリザーバ領域P3側へは戻りにくい構造となっている。したがって、所望するレンズの曲率持続時間を長くすることができる。
一方、下部透明変形膜6bは図2(c)に示したようにスペーサ7を介して電磁石D1のヨーク10s上に固定されている。スペーサ7は樹脂等の非磁性体が望ましく、透明変形膜6bと一体に形成してもよい。電磁石D1は磁性体のヨーク10sと、その中央部を形成するヨーク中央部10cの周りに複数回巻線されるコイル9とを備えている。電磁石D1のヨーク10はリング状磁性体8と同様な円形のヨーク中央部10cと、ヨーク中央部10cの下部外周に連続して形成されるヨーク周辺部10sとを有している。
なお、スペーサ7は可変焦点レンズアクチュエータA1の性能が劣化しなければ磁性体で形成してもよい。さらに、ヨーク10は鋼板の鉄心、フェライト、コバルト等で形成される。
本実施例の可変焦点レンズアクチュエータA1は、電磁石D1のコイルに流れる電流が図4(b)に示す一定電流を印加することによりヨーク10に強い磁界を発生させ、透明変形膜6bのリング状磁性体8を引き付けられる。これにより、リザーバ領域P3内の透明液体5がレンズ領域P2に徐々に流入し、それに伴い透明変形膜6bの撓み量が増大する。透明変形膜6bの変形力とリング状磁性体8に働く力とが釣り合い、目標撓み量Mに到達する点Q3以降は一定の撓み量を維持する。この時、図2(c)の破線に示すように、透明変形膜6bがパラボラ状に撓み、透明変形膜6bを透過したレーザビームは透明変形膜6bの撓み量に依存した発散角度の変化が起こる。
一方、電磁石D1のコイルに流れる電流が図4(a)に示すように一定電流を印加し、目標撓み量Mを超え、上限の許容撓み量M+Δdとなる点Q1で印加電流を切る。それによりレンズ領域P2に溜まった透明液体5は流体抵抗領域P1を通ってリザーバ領域P3へ流れるため、透明変形膜6bの撓みは低下する。
次に下限の許容撓みM−Δdとなる点Q2でコイル9に一定電流を印加し、一定時間Tb経過後再び撓み量が上限の許容撓み量M+Δdとなる点Q3で印加電流を切る一定周期Taのプロセスを繰り返す。この時、リザーバ領域P3からレンズ領域P2へ透明液体5が流入し易い流体抵抗領域P1が配置されているため、図4(a)に示すように透明変形膜6bの撓み増加R1より、撓み低下R2が緩やかに起こる。そのため透明変形膜6bの撓みを増加させるために必要な電流の通電時間Tbが、撓みが低下する非通電時間Tcより短くなり、一定の撓み量を維持する必要のあるレンズとして駆動する条件では、結果として図4(b)の連続通電と比べ大きな低消費電力化が可能となる。
透明変形膜6bの撓み量はコイル9に印加する電流値に依存し、収差補正に好適なパラボラ状に撓ませる制御を行う。これにより、記録層31の位置が図1に示す記録層31aの位置と記録層31bの位置とに変わることにより発生するレーザビームの球面収差を補正している。なお、コイル9に印加する電流は図4(b)に示す連続駆動も可能であることは言うまでもない。
ここで、ヨーク10の構造はコイル9の内側領域のみ形成される単純な円柱形状のヨーク中央部10cだけの構成よりも、図2(b)に示すコイル9の外周外方領域に同心円状のヨーク周辺部10sを連結付加する構成の方が良い。それは、コイル9周りの磁力線の密度が高くなり、よりリング状磁性体8に働く磁力を強くできるためである。
例えば、図2(b)に示すように、断面コ字状のヨーク周辺部10sにヨーク周辺上部10sを形成することで、コイル9周りに形成される磁界をより高密度にでき、リング状磁性体8により強い磁力を付与できる。
なお、ヨーク10は、コイル9の内側領域のヨーク中央部10cだけで構成してもよいのは勿論である。
次に、光ディスク32の記録層31からの記録の読み取りについて説明する。
光ピックアップH1に装着された光ディスク32の記録層31からのレーザビームによる記録(信号)の読み取りについて、記録層31bからの読み取りを例に説明する。なお、記録層31aからの記録(信号)の読み取りも同様である。
図1に示したように、光ディスク32の記録層31bに記録されたピットを電気信号として読み取るため、レーザ光源27から出射されたレーザビームは、コリメートレンズ26でコリメートされ、グレーティング25を透過した後、偏光ビームスプリッタ23で可変焦点レンズアクチュエータA1に向けて反射される。なお、レーザ光源27から出射されたレーザビームの一部は偏光ビームスプリッタ23を透過し、フロントモニタ24で受光され、レーザ光源27の発光強度がモニタされる。
そして、偏光ビームスプリッタ23で反射されたレーザビームは、可変焦点レンズアクチュエータA1を透過し発散角度を調整され、反射ミラー33で反射され、その後、1/4波長板28を透過し円偏光に変換され、対物レンズ29により記録膜31b上に集光され、記録膜31bから反射される。記録膜31bで反射されたレーザビームは、再び対物レンズ29を透過してコリメート光に変換された後、1/4波長板28を透過し直線偏光に変換され、反射ミラー33で反射された後、可変焦点レンズアクチュエータA1で発散角度を調整された後、偏光ビームスプリッタ23に向けて透過される。
偏光ビームスプリッタ23を透過したレーザビームは、集光レンズ22によりディテクタ21上に集光され、ディテクタ21に入射される光量が電気信号に変換される。
この際、光ディスク32の記録層31(31aまたは31b)上に、対物レンズ29のレーザビームの焦点位置を合わせるため、ディテクタ21で受光したレーザビームの情報を元に、制御回路C1で演算した対物レンズ29の移動量を示す信号に基づき、レンズ駆動回路C2から駆動電流をレンズアクチュエータ30に流す。これにより、レンズアクチュエータ30は、対物レンズ29を光軸または、光軸と直交方向に並進またはそれぞれの軸周りに回転させる。
また、ディテクタ21で受光した情報を元に、制御回路C1で演算した可変焦点レンズアクチュエータA1の透明変形膜6bの撓み量を示す信号に基づき、ミラー駆動回路C3から、電流を可変焦点レンズアクチュエータA1のコイル9に印加する。
これにより、可変焦点レンズアクチュエータA1は、コイル9に流れる電流により、ヨーク10の中心部に強い磁界を発生させ、透明変形膜6bのリング状磁性体8を、図2(a)の破線で示すように電磁石D1に向けて引き付ける。これに伴い、電磁石D1にスペーサ7を介して支持される変形膜6bがパラボラ状に撓む。
このように、可変焦点レンズアクチュエータA1のコイル9に電流を流すことで透明変形膜6bを所望のパラボラ状に撓ませ、透明変形膜6bを透過したレーザビームの発散角度を、コイル9の電流の大小で制御し、記録層31の位置が、記録層31aと記録層31bとに変わることにより生ずるレーザビームの球面収差を補正している。
なお、流体抵抗領域P1は図3に示す単純な「八」の字形状にのみ限定されるわけではない。例えば、図5(b)に示すように流体抵抗領域の入り口に流体逆流阻止構造P4を設けることにより、図5(a)に示す液体の流れ方向の時に比べ流体抵抗が大きくなり、結果として図5(c)に示すように流体抵抗領域P1は逆流防止構造P4方向により流れやすくなる。
また、流体抵抗領域P1には、流体抵抗領域P1の流路を流れる透明液体5を任意に堰き止める例えば可動弁や可動バルブのような構造体を付加しても良い。この構造により流体抵抗領域P1流れる透明液体5が止められ、それによりレンズ領域R2の体積と透明変形膜6bの変形を保存できるため、コイル9に電流を印加する必要が無くなり、大幅な低消費電力化が可能となる。
次に、第2の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA2について図6を用いて説明する。
図6(a)は第2の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA2の軸方向の縦断面図である。
図6(a)は第2の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA2の軸方向の縦断面図である。
図6(b)〜(d)は図2(a)のS-S,T-T,U-U線断面図である。
図6(a)において、第2の実施例である光ピックアップの基本的な構成は、第1の実施例で説明した光ピックアップP1(図1参照)と同様であるが、異なる点は第1の実施例で説明した可変焦点レンズアクチュエータA1の変形レンズ領域D2の構造が異なる(その他の構成については、第1の実施例で説明した可変焦点レンズアクチュエータA1と同様な構成であるため詳細な説明は省略する)。
以下、第1の実施例における可変焦点レンズアクチュエータA1の変形ミラー領域D2と異なる構造を説明する。
図6に示す第2の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA2はスペーサ3s、3cを介して透明剛性膜2と透明低剛性変形膜11bとの間に透明液体5が封入されている。スペーサ3s、3cは可変焦点レンズアクチュエータA2の外周に配置したスペーサ3sと、アクチュエータA2内部に配置したスペーサ3cとから成り立つ。このスペーサ3cは流体抵抗領域P1を備えており、図6(b)に示すS-S線断面付近では透明液体5が満たされレーザビームL1の透過するレンズ領域P2と透明液体5の増減を制御するリザーバ領域P3とを介して接続する構成となっている。
図6に示す第2の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA2はスペーサ3s、3cを介して透明剛性膜2と透明低剛性変形膜11bとの間に透明液体5が封入されている。スペーサ3s、3cは可変焦点レンズアクチュエータA2の外周に配置したスペーサ3sと、アクチュエータA2内部に配置したスペーサ3cとから成り立つ。このスペーサ3cは流体抵抗領域P1を備えており、図6(b)に示すS-S線断面付近では透明液体5が満たされレーザビームL1の透過するレンズ領域P2と透明液体5の増減を制御するリザーバ領域P3とを介して接続する構成となっている。
次に図6(c)に示すように、レーザビームL1入射方向から二番目に近いT−T線断面ではレンズ領域P2とリザーバ領域P3とは孤立しており、この断面では各領域間での透明液体5の授受は発生しない。最後に図6(d)に示すように、レーザビーム入射方向から最も離れたU−U線断面では、スペーサ3cは接続領域P4において、透明低剛性変形膜11bと固定され、レンズ領域P2とリザーバ領域P3の間でこの断面では各領域間での透明液体5の授受は発生しない。
図2(a)に示すリング状の磁性体8は透明低剛性変形膜11bのリザーバ領域P3に固定され、また透明低剛性変形膜11bはスペーサ7を介して電磁石D1に固定されている。
電磁石D1のコイル9に一定電流値が流されると、発生した磁力によりリング状の磁性体8を電磁石D1方向に引き付ける。それによりリザーバ領域P3の低剛性透明変形膜11bは大きく撓み、リザーバ領域P3の体積が増加する。
一方、リザーバ領域P3の体積増加に応じレンズ領域P2の透明液体5は流体抵抗領域P1を介してリザーバ領域P3に流れ込みレンズ領域P2の体積が減少するため、結果としてレンズ領域P2の透明低剛性変形膜11bはレーザビームL1入射方向に大きく撓むこととなる。
また、レンズ領域P2とリザーバ領域P3間を流れる透明液体5の流れは、図6(b)に示す流体抵抗領域P1は図3(c)に示す流体抵抗領域P1の形状の特性上、リザーバ領域P3方向に流れやすくなっている。そのため第1の実施例同様、電磁石D1のコイルに図4(a)に示すように一定電流を印加して、目標撓み量Mを超え許容撓み量の上限M+Δdとなる点Q1で印加電流を切り、また許容撓みの下限M−Δdとなる点Q2でコイル9に再び一定電流を印加し、再び撓み量が上限の許容撓み量M+Δdとなる時間Tb経過した点Q3で印加電流を切る一定周期時間Taのプロセスを繰り返すことにより図4(b)の連続通電と比べ大きな低消費電力化が可能となる。
なお、コイル9に印加する電流は図4(b)に示す連続駆動も可能であることは言うまでもない。
本実施例ではリザーバ領域P3に図2に示した気体4が無いため、レンズ領域P2に気体が混入しレンズ特性を劣化させることはない。
本実施例ではリザーバ領域P3に図2に示した気体4が無いため、レンズ領域P2に気体が混入しレンズ特性を劣化させることはない。
次に、第3の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA3について図7を用いて説明する。
図7は第3の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA3の軸方向の縦断面図である。
図7は第3の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA3の軸方向の縦断面図である。
第3の実施例を備えた光ピックアップの基本的な構成は第2の実施例で説明した光ピックアップP2(図1参照)と同様であるが、異なる点は第2の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA2の変形レンズ領域D2の構造である(その他の構成は、第1、2の実施例で説明した可変焦点レンズアクチュエータA1と同様な構成であるため詳細な説明は省略する)。
以下、第2の実施例における可変焦点レンズアクチュエータA2の変形ミラー領域D2と異なる構造を説明する。
図7に示す第3の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA3は図6(a)に示した第2の実施例におけるレーザビームL1の入射形面である透明剛性膜2が透明低剛性変形膜11aに置き換わり、透明低剛性変形膜11a上のレーザビームL1の照射されるレンズ径Fの領域以外に剛性膜1が積層固定されている。
図7に示す第3の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA3は図6(a)に示した第2の実施例におけるレーザビームL1の入射形面である透明剛性膜2が透明低剛性変形膜11aに置き換わり、透明低剛性変形膜11a上のレーザビームL1の照射されるレンズ径Fの領域以外に剛性膜1が積層固定されている。
本実施例は、図6で示した透明剛性膜2を透明低剛性変形膜11aに置き換ることによりレンズアクチュエータA3はレーザビームL1の入射面と出射面がそれぞれ凹面となったものである。出射面1面のみが凹面となる第2の実施例のレンズアクチュエータA2の構造に比べ、レーザビームL1により大きな発散角度変化を与えることが可能となる。
一方、リング状磁性体8が電磁石D1に引き付けられ、透明低剛性変形膜11bを撓ませリザーバ領域P3の体積が変形する時、リザーバ領域P3の体積変化を相殺する方向に透明低剛性変形膜11aが撓もうと変形する。しかし透明低剛性変形膜11bに剛性膜1を積層固定することにより、透明低剛性変形膜11aの撓みを抑制し、リング状磁性体8の動きに応じたレンズ領域P2の2面の透明低剛性変形膜11a、11bの変形することが可能となる。
次に、第4の実施例の可変焦点距離ミラーアクチュエータA6について、図8を用いて説明する。
図8は、第4の実施例の可変焦点距離ミラーアクチュエータA6を例示した軸方向の縦断面図である。
図8は、第4の実施例の可変焦点距離ミラーアクチュエータA6を例示した軸方向の縦断面図である。
第4の実施例の基本的な構成は、第3の実施例と同様であり、第3の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA3のミラー領域D2の構造が異なるものである(その他の構成は、第3の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA3と同様な構成であるので、詳細な説明は省略する)。
本実施例は、第3の実施例のレンズアクチュエータA3の透明低剛性変形膜11aと剛性膜1との間に変形反射膜12を積層した光学素子(以下、可変焦点ミラーアクチュエータという)である。
リング状磁性体8は電磁石D1に引き付けられ、第3の実施例同様にレーザビームL1入射側の透明低剛性変形膜11aは凹面状に撓み、それに伴い変形反射膜12も凹面状に撓む。変形反射膜12に入射するレーザビームL1は反射して、凹面状に変形した変形反射膜12の形状に依存した発散角度の変化を受ける。また前記発散角度の変化は第3の実施例同様、電磁石D1のコイルに駆動する電流値により制御される。
レーザビームを反射する反射膜12はレーザビームを反射する材料、例えばアルミ、銀等の金属、SiO2、TiO2を含む誘電体多層膜等を用いて平板状に形成されている。このように反射膜12は金属などの単層膜でもよいし、誘電体などを用いた多層膜反射膜でもよく限定されるものではない。
次に、第5の実施例の可変焦点ミラーアクチュエータA7について図9を用いて説明する。
図9(a)は、第5の実施例の可変焦点ミラーアクチュエータA7を例示した軸方向の縦断面図であり、図9(b)は図9(a)の透明低剛性変形膜11bをA矢印方向から見た図である。
第5の実施例の基本的な構成は、第4の実施例と同様であり、第4の実施例の電磁石D1が異なるものである(その他の構成は、第6の実施例の可変焦点ミラーアクチュエータA6と同様な構成であるので、詳細な説明は省略する)。
以下、第4の実施例で説明した可変焦点ミラーアクチュエータA6と異なる第5の実施例を説明する。
第4の実施例ではリザーバ領域P3の透明低剛性変形膜11bはリング状磁性体8により電磁石方向に引き付ける駆動を行っていた。しかし、本実施例では電磁石D1が無く、またリング状磁性体の代わりに図9(b)に示すリング状の圧電素子16が透明低剛性変形膜11bに固定されている。
圧電素子16に電圧を図4(c)に示す周期的な電圧印加を加えると、圧電素子はA矢印方向に振動する。この時、リザーバ領域P3とレンズ領域P2内にある透明液体5も流体抵抗領域P1を通ってリザーバ領域P3とレンズ領域P2を往復する。流体抵抗領域P1により第2の実施例で示したように、流体抵抗領域を通過する透明液体5はリング領域P2からリザーバ領域P3に流れやすくなっている。そのため、圧電素子16に周期的電圧を加え、A矢印方向に往復振動させると図4(c)の撓み量のグラフに示すように次第にレンズ領域P2からリザーバ領域P3に透明液体5が流失し、レンズ領域P2の体積が減少するため、第6の実施例と同様な両面凹面のレンズ構造となる。
一方、第1の実施例や第2の実施例と同様に圧電素子に印加する周期的電圧は目標撓み量Mを超え、許容撓み量上限のM+Δdとなる点Q1で印加電圧を切る。それによりリザーブ領域P3に溜まった透明液体5は流体抵抗領域P1を通ってレンズ領域P2へ流れるため、透明低剛性変形膜11bの撓みは低下する。
次に許容撓み下限のM−Δdとなる点Q2で圧電素子に電圧を印加し、半周期Tb経過後再び撓み量が許容撓み量上限のM+Δdとなる点Q3で印加電流を切る一定周期Taのプロセスを繰り返す。この時、レンズ領域P2からリザーバ領域P3へ透明液体5が流入し易い流体抵抗領域P1が配置されているため、図3(c)に示すように透明低剛性変形膜11bの撓み増加R1より、撓み低下R2が緩やかに起こる。そのため透明低剛性変形膜11bの撓みを増加させるために必要な電圧の通電時間Tbが、撓みが低下する非通電時間Tcより短くなり、大きな低消費電力化が可能となる。なお、コイル9に印加する電圧は図4(b)にしめす連続駆動も可能であることは言うまでもない。また、本実施例は電磁石D1が無いため大幅に薄型化が可能となる。
次に、第6の実施例の可変焦点距離レンズアクチュエータA8について図10を用いて説明する。
図10は、第6の実施例の可変焦点距離レンズアクチュエータA8を例示した軸方向の縦断面図である。
第6の実施例の基本的な構成は、第5の実施例のレンズ領域構造が同様であり、レンズ領域P2に透明液体5を送液する構造が異なる。
以下、第5の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA5と異なる構造を説明する。
本実施例は、図2の第1の実施例で用いたリザーバ領域P3と入口と出口とが流体抵抗領域P1で繋がったポンプ領域P5とレンズ領域P2とから成り立ち、それぞれスペーサ3sとスペーサ3cとで形状を形成している。透明液体5はスペーサ3と上部に透明低剛性変形膜11aと下部に透明低剛性変形膜11bとで形成された空間に封入されている。ポンプ領域P5は透明低剛性変形膜11b下部に圧電素子16が固定されている。
周期的電圧を圧電素子16に印加すると、圧電素子16はA矢印方向に振動振幅し、それに伴いポンプ領域の体積が増減する。ポンプ領域P5は流入流体抵抗領域P6と流出流体抵抗領域P7とが接続され、透明流体5はそれぞれポンプ領域P5に流入し易い構造と流入し難い構造である。そのため、第7の実施例同様に圧電素子16に周期的電圧を印加してポンプ領域P5の体積が変化すると、透明流体5はリザーバ領域P3からポンプ領域を通過してレンズ領域P2に流入する。圧電素子の駆動電圧波形における透明低剛性変形膜11aの撓み特性は図4(c)に示す第7の実施例と同様である。
本実施例では、第7の実施例と比べるとリザーバ領域P3やポンプ領域P5の配置や形状に任意となり設計自由度が向上する。またリザーバ領域P3に気体4が封入されているため、リザーバ領域P3からレンズ領域P2に透明液体5送液した時にリザーバ領域P3の大きな圧力変化が起こりにくいために、第7の実施例に比べ多くの透明液体5をレンズ領域P2に送液可能となる。
ところで、特に実施例1〜6で説明したように、封入されて透明液体をポンプ(磁性体とコイルの組み合わせ)で流動させてレンズを変形させるようにした場合、リザーバ領域の組み込みにより、このレンズを図1に示した光ピックアップに組み込むことはスペースを大きく取るため困難となる可能性がある。
そこで本発明の発明者らはレンズとリザーバを一体にすることを考えた結果、以下の実施例を得た。
次に、第7の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA4を図11を用いて説明する。
図11(a)は、第7の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA4の軸方向の縦断面図である。
第7の実施例を備えた光ピックアップの基本的な構成は、第1の実施例の光ピックアップP1(図1参照)と同様であり、第1の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA1の変形レンズ領域D2の構造が異なる。
その他の構成は、第1の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA1と同様な構成であるので、詳細な説明は省略する。
以下、第1の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA1の変形ミラー領域D2と異なる構造を説明する。
本実施例におけるレンズアクチュエータA4は図11(a)のW―W線断面における断面図、図11(b)に示すように第1の実施例で説明したザーバ領域P3と流体抵抗領域P1を排除したものである。そのため、リング状磁性体8が電磁石D1に引き付けられ、透明低剛性変形膜11bが凸レンズ状に変形しレンズ領域P2の体積が増加する時、本実施例ではリザーバ領域P3が無いため体積変化しない。したがって、透明低剛性変形膜11bのリング状磁性体8内側領域が凹レンズ状に撓んでレンズ領域P2の体積変化を相殺する変形が起こるためレーザビームL1の発散角を変化させる。
本実施例は、第1の実施例に比べ、リザーバ領域P3や流体抵抗領域P1が無いため構造が簡易となり、小型化を図ることができる。
次に、第8の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA5について図12を用いて説明する。
図12は第8の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA5の軸方向の縦断面図である。
図12は第8の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA5の軸方向の縦断面図である。
第8の実施例を備えた光ピックアップの基本的な構成は、第1の実施例の光ピックアップP1(図1参照)と同様であり、第7の実施例である可変焦点レンズアクチュエータA4の透明剛性膜2と剛性膜1の構造が異なる(その他の構成は、第7の実施例の可変焦点レンズアクチュエータA4と同様な構成であるので、詳細な説明は省略する)。
以下、第7の実施例を備えた可変焦点レンズアクチュエータA4の変形ミラー領域D2と異なる構造を説明する。
本実施例では、レーザビームL1入射面の透明低剛性変形膜11aはビーム径Fの外周部に剛性膜1が積層固定されている。このため、リング状磁性体8が電磁石D1に引き付けられてレーザビームL1出射面の透明低剛性変形膜11bが撓むことになる。透明低剛性変形膜11bが撓むとレンズ領域P2の体積が増加するのを相殺する変形として、第7の実施例同様リング状磁性体8の内側が凹レンズ状に撓む。さらにレーザビーム入射面の透明低剛性変形膜11bが凹状に撓むことになる。
このように、本実施例ではレーザビームL1の入出射両面の凹形状に変形することによって第7の実施例に比べ大きなレーザビームL1の発散角を変化させることが可能となる。
1・・・剛性膜、2・・・透明剛性膜、3・・・スペーサ、4・・・気体、5・・・透明液体、6・・・透明変形膜、7・・・スペーサ、8・・・磁性体、9・・・コイル、10・・・ヨーク、11・・・透明低剛性変形膜、12・・・変形反射膜、16・・・圧電素子、21・・・ディテクタ、22・・・集光レンズ、23・・・偏光ビームスプリッタ、24・・・フロントモニタ、25・・・グレーティング、26・・・コリメートレンズ、27・・・レーザ光源、28・・・1/4波長板、29・・・対物レンズ、30・・・レンズアクチュエータ、31・・・記録層、32・・・光ディスク、33・・・反射ミラー。
Claims (6)
- 2枚の透明部材との間にスペーサを介して形成された空間と、この空間に封入された透明液体と、前記透明部材のいずれか一方に取り付けられた磁性部材と、この磁性部材を動作させる電磁石とを備え、この電磁石に電流を流して前記透明部材を動作させる光学素子において、
前記空間内にスペーサを挿入するとともに、
このスペーサは光が透過する領域と、前記透明液体の量を調整するための予備領域と、前記透明液体の流れ抵抗に流れ方向依存性を有する流路を備えていることを特徴とする光学素子。 - 請求項1記載の光学素子において、
前記透明部材と前記電辞職は円形または楕円形状であることを特徴とする光学素子。 - 請求項1記載の光学素子において、
前記予備領域には体積変化調整のための気体が封入されていることを特徴とする光学素子。 - 請求項1記載の光学素子において、
前記磁性付与部材は前記光の透過する領域の前記透明部材に取り付けられていることを特徴とする光学素子。 - 請求項1記載の光学素子において、
前記磁性付与部材は前記予備領域の前記透明部材に取り付けられていることを特徴とする光学素子。 - 請求項1記載の光学素子において、
前記透明部材に撓む力を付与する前記電磁石を圧電素子部材とし、この圧電素子部材に電圧を加え前記透明部材を所望形状に撓ませることを特徴とする光学素子。
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