JP2011138581A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】周囲の不要なセルから受ける影響を低減出来る半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】第1信号線と、第2信号線と、前記第1信号線に隣接しつつ形成された第1ダミー配線FAT_DMY_BLと、前記第2信号線に隣接しつつ形成された第2ダミー配線FAT_DMY_WLと、前記第1信号線と前記第2信号線とが交差する第1領域に設けられ、前記第1信号線と前記第2信号線によって電圧が印加されるメモリセルMCと、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とが交差する第2領域に設けられ、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とによって電圧が印加される第1ダミーセルと、前記第1、第2信号線に電圧印加可能なデコーダとを具備し、前記第1、第2ダミー配線の電位は、前記第1ダミーセルに逆バイアスが生じるように固定される。
【選択図】図3
【解決手段】第1信号線と、第2信号線と、前記第1信号線に隣接しつつ形成された第1ダミー配線FAT_DMY_BLと、前記第2信号線に隣接しつつ形成された第2ダミー配線FAT_DMY_WLと、前記第1信号線と前記第2信号線とが交差する第1領域に設けられ、前記第1信号線と前記第2信号線によって電圧が印加されるメモリセルMCと、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とが交差する第2領域に設けられ、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とによって電圧が印加される第1ダミーセルと、前記第1、第2信号線に電圧印加可能なデコーダとを具備し、前記第1、第2ダミー配線の電位は、前記第1ダミーセルに逆バイアスが生じるように固定される。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体記憶装置に関する。例えば可変抵抗素子を用いた半導体記憶装置に関する。
3次元クロスポイント型メモリセルを備えた半導体記憶装置では、その製造コストを安価とするために、ビット線とワード線とが交差する位置に自己整合的にメモリセルを作成する方法が知られている。
しかし、上記製造方法であると製造コストが安価になる反面、メモリセルアレイの周囲にも不要なメモリセルが形成される(特許文献1参照)。そしてそのメモリセルは、実際の記憶部として機能するメモリセルに対して何らかの影響を及ぼしてしまう。これは、ワード線とビット線とが交差する所には、上記の製造方法であると必ずメモリセルが形成される、という事情から生じるものである。
本発明は、周囲の不要なセルから受ける影響を低減出来る半導体記憶装置を提供する。
この発明の一態様に係る半導体記憶装置は、第1の方向に沿って形成された第1信号線と、前記第1方向と直交する第2方向に沿って形成された第2信号線と、前記第1信号線に隣接しつつ前記第1方向に沿って形成された第1ダミー配線と、前記第2信号線に隣接しつつ前記第2方向に沿って形成された第2ダミー配線と、前記第1信号線と前記第2信号線とが交差する第1領域に設けられ、前記第1信号線と前記第2信号線によって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含むメモリセルと、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とが交差する第2領域に設けられ、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とによって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含む第1ダミーセルと、前記第1、第2信号線に電圧印加可能なデコーダとを具備し、前記第1、第2ダミー配線の電位は、前記第1ダミーセルの前記整流素子に逆バイアスが生じるように固定される。
本発明によれば、周囲の不要なセルから受ける影響を低減出来る半導体記憶装置を提供できる。
以下、この発明の実施形態につき図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
[第1の実施形態]
この発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置について、抵抗変化型メモリ(Resistance Random Access Memory:ReRAM)を例に挙げて、以下説明する。
<ReRAMの全体構造例について>
図1は、本実施形態に係るReRAMのブロック図である。図示するように、本実施形態に係るReRAMは、メモリセルアレイ10、ロウデコーダ11、センスアンプ12、電圧発生回路13、制御部14、及びカラムデコーダ15を備える。
この発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置について、抵抗変化型メモリ(Resistance Random Access Memory:ReRAM)を例に挙げて、以下説明する。
<ReRAMの全体構造例について>
図1は、本実施形態に係るReRAMのブロック図である。図示するように、本実施形態に係るReRAMは、メモリセルアレイ10、ロウデコーダ11、センスアンプ12、電圧発生回路13、制御部14、及びカラムデコーダ15を備える。
メモリセルアレイ10は、第1方向に沿って設けられた複数のビット線BLと、第1方向に直交する第2方向に沿って設けられた複数のワード線WLと、ビット線BLとワード線WLとの交点に設けられた複数のメモリセルMCを備えている。そして複数のメモリセルMCの集合体によって、マット(mat)21と呼ばれる単位が構成される。メモリセルMCの各々は、整流素子(ダイオード)DDと可変抵抗素子VRとを含んでおり、ダイオードDDのカソードがワード線WLに接続され、ダイオードDDのアノードが可変抵抗素子VRの一端に接続され、他端がビット線BLに接続されている。可変抵抗素子VRは例えば、ダイオードDD上に記録層、ヒータ層、及び保護層が順次積層された構造を備えている。
上記メモリセルMCは、可変抵抗素子VRの抵抗値に応じて、“0”または“1”の1ビットデータを保持する。可変抵抗素子VRは、抵抗値が1k〜10kΩである第1の状態(以下、高抵抗状態と呼ぶことがる)と、抵抗値が100k〜1MΩである第2の状態(以下、低抵抗状態と呼ぶことがる)とを取りうる。そして第1の状態が“0”データを保持した状態であり、データが書き込まれた状態(プログラムレベル)である。第2の状態は、“1”データを保持した状態であり、データが消去された状態(消去レベル)である。
可変抵抗素子VRの抵抗値は、可変抵抗素子VRに印加する電圧のパルス幅とその電圧値によって制御できる。例えば、可変抵抗素子VRに10ns〜100ns程度のパルス幅を有した3V〜6Vの電圧与えると、その抵抗値は10k〜1kΩとなる。すなわち“0”データが書き込まれる。他方、200ns〜1μs程度のパルス幅を有した0.5V〜3Vの電圧与えると、その抵抗値は100kΩ〜1MΩとなる。すなわち“1”データが書き込まれる。
そして、メモリセルアレイ10において同一行にあるこのメモリセルMCは同一のワード線WLに接続され、同一列にあるメモリセルMCは同一のビット線BLに接続されている。また上記のワード線WL、ビット線BL、及びメモリセルMCは、第1、第2方向の両方に直交する第3方向(半導体基板表面に対する垂線方向)に沿って複数設けられる。つまりメモリセルアレイ10は、メモリセルMCが3次元的に積層された構造を有している。この3次元構造におけるメモリセルの各層を、以下ではメモリセルレイヤーと呼ぶことがある。
ロウデコーダ11は、データの書き込み、読み出し、及び消去の際に、ホスト機器から供給されたロウアドレスRAをデコードする。そしてロウデコーダ11は、ロウアドレスRAのデコード結果に応じていずれかのワード線WLを選択し、選択ワード線WL及び非選択ワード線WLに対して、適切な電圧を供給する。より具体的には、選択ワード線WLに対しては電圧VROWSRCを印加し、非選択ワード線WLには電圧VROW(>VROWSRC)を印加する。
カラムデコーダ15は、データの書き込み、読み出し、及び消去の際に、図示せぬホスト機器から供給されたカラムアドレスCAをデコードする。そしてカラムデコーダ15は、カラムアドレスCAのデコード結果に応じていずれかのビット線BLを選択する。
センスアンプ12は、ビット線BLに電気的に接続されている。そしてセンスアンプ12は、データの読み出し、書き込み、または消去の際に、カラムデコーダ15によって選択された選択ビット線BL、及び非選択ビット線BLに対して、適切な電圧を供給する。より具体的には、選択ビット線BLに対しては電圧VUBを印加し、非選択ワード線WLには電圧VUBSRC(<VUBSRC)を印加する。なお、VUB>VROWSRCである。またデータの読み出し時には、ビット線BLに読み出されたデータをセンス・増幅する。
なお、上記センスアンプ12、ロウデコーダ11、及びカラムデコーダ15は、メモリセルレイヤー毎に設けられていても良いし、またはメモリセルレイヤー間で共通に用いられてもよい。これらセンスアンプ12、ロウデコーダ11、及びカラムデコーダ15を、メモリセルレイヤー間で共通に用いる場合には、メモリセルMCのアドレスの割付を変更・修正すればよい。これにより、複数のメモリセルレイヤーが積層されていた場合であっても、センスアンプ12、ロウデコーダ11、及びカラムデコーダ15などの周辺回路規模を抑制することが出来る。
電圧発生回路13は、制御部14の制御に従って、電圧VROW、電圧VROWSRC、電圧VUB、及び電圧VUBSRCを生成する。そして電圧発生回路13は、ロウデコーダ11に電圧VROW及び電圧VROWSRCを供給し、センスアンプ12に電圧VUB及び電圧VUBSRCを供給する。
制御部14は、上記回路を制御する。制御部14はホスト機器からコマンドを受け取る。そして制御部14は、受け取ったコマンドに応じて例えば、データ書込み、データ読み出し、データ消去を行うべく、電圧発生回路13に所定の電圧を生成するよう命令する。またデータの書き込み時には、ホスト機器から更に書き込みデータを受信し、これをセンスアンプ12に転送する。
以上の構成においてメモリセルMCに電流を流さない場合、すなわちメモリセルMCに逆バイアスを印加する際、制御部14は電圧発生回路13に対し、ワード線WLに転送する電圧よりもビット線BLに転送する電圧の値を小さくするよう制御する。つまり、制御部14はワード線WLに電圧VROWを、ビット線BLに電圧VUBSRCを転送するよう制御する。これによりメモリセルMCには電流が流れない、すなわち非選択状態とされる。
逆にメモリセルアレイ10に形成されたメモリセルMCに整流電流を流す場合、すなわちメモリセルMCに順方向バイアスを印加する際、制御部14は上記電圧発生回路13にビット線BLに転送する電圧よりもワード線WLに転送する電圧の値を小さくするよう制御する。つまり、ワード線WLに電圧VROWSRCを、ビット線BLに電圧VUBを転送する。これによりメモリセルに電流が流れる。すなわち選択状態とされる。
より具体的には、データの書き込み時及び消去時には、ロウデコーダ11が選択ワード線WLに電圧VROWSRCを転送し、センスアンプ12が選択ビット線BLに電圧VUBを転送する。そしてデータの書き込み時には、メモリセルMCに10ns〜100ns程度のパルス幅を有した3V〜6Vの順バイアスを生じさせ、消去時には200ns〜1μs程度のパルス幅を有した0.5V〜3Vの順バイアスを生じさせる。
そして、メモリセルMCが保持するデータを読み出すには、例えば10ns〜100ns程度のパルス幅を有し、且つ可変抵抗素子VRの備える抵抗値の抵抗値変化をもたらさないような、消去時より更に低い、例えば0.5V以下の電圧を与える。これにより、例えばビット線に流れる電流或いはビット線における電圧検出によりデータをセンスする。つまり、電圧VROWSRC及び電圧VUBの値を適宜変化させ、メモリセルMCに例えば0.5V程度の電位差を生じさせる。この読み出し動作により、メモリセルMCの不良検知を行うことも可能となる。つまり、メモリセルMCの不良検知を行う場合には、上記データの読み出し動作において、あるメモリセルMCに掛かる電圧または流れる電流の値をセンスし、その電圧または電流の値が規定とする値か否か判断することで、そのメモリセルMCの不良検知を行う。
<メモリセルアレイ10の構成例の詳細について>
次に、図2を用いて本実施形態に係るメモリセルアレイ10の構成例について説明する。図2はメモリセルアレイ10のブロック図であり、1つのメモリセルレイヤーのみを示している。
次に、図2を用いて本実施形態に係るメモリセルアレイ10の構成例について説明する。図2はメモリセルアレイ10のブロック図であり、1つのメモリセルレイヤーのみを示している。
図示するように、本実施形態に係るメモリセルアレイ10はマトリクス状に配置された(m+1)×(n+1)個のマット21を備える。m、nはそれぞれ1以上の自然数である。前述したようにマット21の各々には複数のメモリセルMCが含まれ、これらはマトリクス状に配置されている。例えば1つのマット21には、例えば16本のワード線WLと16本のビット線BLが含まれる。すなわち、1つのマット21内には、(16×16)個のメモリセルMCが含まれる。また、メモリセルアレイ10内には、16×(m+1)本のビット線BLが含まれ、16×(n+1)個のワード線WLが含まれる。そして、同一行にある複数のマット21(すなわちワード線WLを共通にするマット21)が、ブロックBLK0〜BLKnなる単位を構成する。以下では、ブロックBLK0〜BLKnを区別しない場合には、単にブロックBLKと呼ぶ。
また本実施形態では1つのメモリセルレイヤーが複数のマット21を備えている場合を例に挙げて説明するが、マット21の数は1つでも良い。また、1つのマット21内に含まれるメモリセルMCの数は、(16×16)個に限定されるものでもない。更に、ロウデコーダ11及びセンスアンプ12はマット21毎に設けられても良いし、複数のマット21間で共通に用いられても良い。以下では後者の場合を例に説明する。
メモリセルアレイ10内において、このマット21が形成される周囲(図2における領域A1)にもビット線BL及びワード線WLが形成される。この領域A1に形成されるビット線BL及びワード線WLを、FAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLと呼ぶ。FAT_DMY_BLの線幅W1は、マット21内に形成された他のビット線BLの線幅W0よりも大きい。またFAT_DMY_WLの線幅W2は、マット21内に形成された他のワード線WLの線幅W3よりも大きい。これは露光装置の制限によるものであり、メモリセルアレイ10の中心から周囲に向かうほど形成されるビット線BL及びワード線WLの線幅が大きくなる。そして、このFAT_DMY_BL、FAT_DMY_WL、ビット線BL、及びワード線WLが交差する領域にも同様にメモリセルMCが形成される。なお、線幅W1>線幅W2であってもよいし、線幅W2>線幅W1であってもよく、線幅W1=線幅W2であってもよい。また、線幅W0>線幅W3であってもよいし、線幅W3>線幅W0であってもよく、線幅W0=線幅W3であってもよい。
図3は、上記メモリセルアレイ10の回路図であり、特に1つのメモリセルレイヤーにおける、図2の領域A2に相当する領域を示している。
図示するようにメモリセルアレイ10中には、複数のマット21間を通過するようにして、複数のビット線BLとワード線WLとが形成されている。また、メモリセルアレイ10の縁部に位置するビット線BL及びワード線WLは、ダミーのビット線及びワード線として機能する。以下では、ダミーのビット線及びワード線を、それぞれダミービット線BLd及びダミーワード線WLdと呼ぶことにより、その他のビット線BL及びワード線WLと区別することにする。また各ビット線BL及びワード線WLを区別する際には、ビット線BL0〜BL(16m+15)及びワード線WL0〜WL(16n+15)と呼ぶ。また各ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdを区別する際には、ダミービット線BLd0〜BLd2及びダミーワード線WLd0〜WLd2と呼ぶ。勿論、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの数は一例に過ぎず、それぞれが3本以外の数であっても良い。
図示するようにメモリセルアレイ10中には、複数のマット21間を通過するようにして、複数のビット線BLとワード線WLとが形成されている。また、メモリセルアレイ10の縁部に位置するビット線BL及びワード線WLは、ダミーのビット線及びワード線として機能する。以下では、ダミーのビット線及びワード線を、それぞれダミービット線BLd及びダミーワード線WLdと呼ぶことにより、その他のビット線BL及びワード線WLと区別することにする。また各ビット線BL及びワード線WLを区別する際には、ビット線BL0〜BL(16m+15)及びワード線WL0〜WL(16n+15)と呼ぶ。また各ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdを区別する際には、ダミービット線BLd0〜BLd2及びダミーワード線WLd0〜WLd2と呼ぶ。勿論、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの数は一例に過ぎず、それぞれが3本以外の数であっても良い。
各マット21は、前述の通り16本のビット線BLと16本のワード線BLとを含む。つまり、あるブロックBLKiにはワード線WL(16i)〜WL(16i+15)が形成される。またあるブロックBLKに含まれる複数のマット21の各々には、ビット線BL(16j)〜BL(16j+15)が形成される。但しi=0〜n、j=0〜mである。またメモリセルアレイ10の縁部に位置するマット21は、更にダミービット線BLdとダミーワード線WLdを含む。
そして、ビット線BLとワード線WLとの交点、ダミービット線BLdとダミーワード線WLdとの交点、ビット線BLとダミーワード線WLdとの交点、及びダミービット線BLdとワード線WLとの交点には、それぞれメモリセルMCが形成されている。
更にメモリセルアレイ10内には、マトリクス状に配置されたマット21の周囲に、前述のFAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLが形成されている。FAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLはそれぞれ、マット21内において最も外側のダミービット線BLd及びダミーワード線WLdに隣接して配置されている。
FAT_DMY_BLはワード線WL及びダミーワード線WLdと交差し、FAT_DMY_WLはビット線BL及びダミーワード線BLdと交差し、またFAT_DMY_BLとFAT_DMY_WL同士も交差する。そして、上記の交差する領域においても、ビット線BLとワード線WLとが交差する領域と同じようにして、メモリセルMCが設けられている。
上記ワード線WLはロウデコーダ11に接続される。他方、ビット線BL0〜BLnは、MOSトランジスタCSW0〜CSW3の電流経路を介してセンスアンプ12に接続される。以下では、MOSトランジスタCSW0〜CSWnを区別しない場合には、MOSトランジスタCSWと呼ぶことにする。MOSトランジスタCSWは、データの書き込み時、読み出し時、及び消去時にはオン状態とされ、これによりビット線BLはセンスアンプ12に接続される。
これに対してダミービット線BLd、FAT_DMY_BLは、共に第1の非選択電位V1に固定されている。第1の非選択電位V1は、例えば電圧VUBである。またダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLは、共に第2の非選択電位V2に固定されている。第2の非選択電位V2は、例えば電圧VROWである。従って、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BL及びダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLのいずれかに接続されたメモリセルMCは、常時、整流素子DDに対して逆バイアスが印加されており、これにより非選択状態とされている。
図4は、メモリセルアレイ10の一部領域の斜視図であり、上記構成のメモリセルアレイ10が三次元的に構成された様子を示している。図示するように、本例に係るメモリセルアレイ10は、半導体基板の基板面垂直方向(第3方向)に、複数積層(第1のメモリセルレイヤー、第2のメモリセルレイヤー、…)されている。図4の例では、ワード線WL/メモリセルMC/ビット線BL/メモリセルMC/ワード線WL/…の順に形成されているが、ワード線WL/メモリセルMC/ビット線BLの組が、層間絶縁膜を介在して積層されても良い。
<ロウデコーダ11の構成例の詳細について>
次に、上記ロウデコーダ11の詳細について図5を用いて説明する。図5はロウデコーダ11の回路図である。図示するように、ロウデコーダ11は、アドレスデコード部30及びワード線ドライバ40を備える。
次に、上記ロウデコーダ11の詳細について図5を用いて説明する。図5はロウデコーダ11の回路図である。図示するように、ロウデコーダ11は、アドレスデコード部30及びワード線ドライバ40を備える。
<アドレスデコード部30の詳細について>
まず、アドレスデコード部30について説明する。図5に示すようにアドレスデコード部30は、ワード線選択部31及び(n+1)個のブロック選択部32−0〜32−nを備える。以下ではブロック選択部32−0〜32−nを区別しない場合には、単にブロック選択部32と呼ぶ。まず、ブロック選択部32について説明する。
まず、アドレスデコード部30について説明する。図5に示すようにアドレスデコード部30は、ワード線選択部31及び(n+1)個のブロック選択部32−0〜32−nを備える。以下ではブロック選択部32−0〜32−nを区別しない場合には、単にブロック選択部32と呼ぶ。まず、ブロック選択部32について説明する。
ブロック選択部32−0〜32−nは、ブロックBLK0〜BLKnのいずれかを選択する。つまり、ブロック選択部32−0〜32−nは、それぞれブロックBLK0〜BLKnに対応付けられている。そしてブロック選択部32の各々は、データの書き込み動作時、読み出し動作時、及び消去時において、ホスト機器から与えられたロウアドレスRA(ブロックアドレスBA)をデコードし、対応するブロックBLKを選択する。そして、そのデコード結果をワード線ドライバ40に出力する。具体的には、ブロックアドレスBAに応じて、選択ブロックBLKに対応するドライバ41のいずれかを活性化する。すなわちブロック選択部32−iは、ブロックアドレスBAのデコード結果に応じて、各ブロックBLKiにつき信号MWLi、MWL_biを生成して、ワード線ドライバ40に出力する。更により具体的には、選択ブロックBLKに対応付けられたドライバ41に対しては信号MWL、MWL_bをそれぞれ“H”レベル及び“L”レベルとし、非選択ブロックBLKに対応付けられたドライバ41に対しては信号MWL、MWL_bをそれぞれ“L”レベル及び“H”レベルとする。
次に、ワード線選択部31について説明する。ワード線選択部31は信号S0〜S15を出力する。そしてワード線選択部31が出力する信号S0〜S15は、各ブロックBLK0〜BLKnに含まれるワード線WL0〜15、WL16〜31、…WL(16n)〜(16n+15)に対応付けられている。つまり、ワード線選択部31は、各ブロックBLKに含まれるワード線WLを選択状態または非選択状態とする。そしてワード線選択部31は、データの書き込み動作時、読み出し動作時、及び消去時において、ホスト機器から与えられたワード線WLを指定するアドレス(これをワード線アドレスWAと呼ぶ)をデコードする。そしてそのデコード結果をワード線ドライバ40に出力する。すなわち、ワード線選択部31は、ワード線アドレスWAのデコード結果に応じて、信号S0〜S15を生成し、その信号S0〜S15をワード線ドライバ40に出力する。この信号S0〜S15によりワード線選択部31は、各ブロックBLKにつき1本のワード線WLを選択状態とし、残りのワード線WLを非選択状態とする。なお、信号S0はワード線WL0、WL16、WL32、…WL(16n+1)に対応し、信号S1はワード線WL1、WL17、WL33、…WL(16n+2)に対応し、信号Snはワード線WL15、WL31、WL47、…WL(16n+15)に対応する。そして信号S0〜S15のいずれかが“H”レベルとされることで、対応するワード線WLが選択状態となる。
<ワード線ドライバ40の詳細について>
次にワード線ドライバ40について説明する。ワード線ドライバ40は、(n+1)個の第1ドライバ41−0〜41−n及び第2ドライバ43を備える。なお、第1ドライバ41−0〜41−nを区別しない場合には、単にドライバ41と呼ぶ。
次にワード線ドライバ40について説明する。ワード線ドライバ40は、(n+1)個の第1ドライバ41−0〜41−n及び第2ドライバ43を備える。なお、第1ドライバ41−0〜41−nを区別しない場合には、単にドライバ41と呼ぶ。
まず第1ドライバ41から説明する。第1ドライバ41−0〜41−nは、ブロック駆動部42−0〜42−15乃至ブロック駆動部42−(16n)〜42−(16n+15)を備える。そして、第1ドライバ41−0〜41−nはそれぞれがブロックBLK0〜BLKnに対応付けられている。つまり、ブロック駆動部42−0〜42−15乃至ブロック駆動部42−(16n)〜42−(16n+15)は、それぞれワード線WL0〜15乃至ワード線WL16n〜WL(16n+15)に対応する。そして第1ドライバ41−iは、ブロック選択部32−iから与えられる信号MWL、MWL_bに基づいて、非活性状態または活性状態とされる。つまり、第1ドライバ41−iが非活性化状態とされることで、対応付けられたブロックBLKiが非選択とされる。つまり、非選択ブロックBLKiのワード線WL16i〜(16i+15)が非選択状態とされる。
そして、第1ドライバ41−iが活性化状態とされることで、対応付けられたブロックBLKiが選択とされる。そして、選択ブロックBLKiに含まれるワード線WL16i〜(16i+15)に転送される電圧は、第2ドライバ43により与えられる。
以下、一例として第1ドライバ41−0を例に挙げて説明する。図5に示すように、ドライバ41−0は、ブロック駆動部42−0〜42−15を備えている。そしてブロック駆動部42−0〜42−15はそれぞれ、ブロック選択部32から与えられる信号MWL0、MWL_b0に基づいて、ワード線WL0〜WL15に適切な電圧を印加する。そして特に、第1ドライバ41−0が活性化状態である場合、該第1ドライバ41−0におけるワード線駆動部42−0〜42−15は、ワード線選択部31がワード線WL駆動部44−0〜44−15に転送する信号S0〜S15に基づいて、ワード線WL0〜WL15に適切な電圧を印加する。以上一例として第1ドライバ41−0について説明したが、第2ドライバ41−1〜41−nにおいても同様であるため説明を省略する。 次に第2ドライバ43について説明する。第2ドライバ43はワード線駆動部44−0〜44−15を備える。なお、ワード線駆動部44−0〜44−15を区別しない場合には、単にワード線駆動部44と呼ぶ。各々のワード線駆動部44−0〜44−15はワード線WL0〜WL15、ワード線WL16〜WL31、…、ワード線WL16i〜WL(16i+15)に対応付けられている。つまりワード線駆動部44−tは、ワード線(16i+t)に対応付けられている(tは0〜15の値)。そして、各ワード線駆動部44−0〜44−15は、ワード線選択部31から与えられる信号S0〜S15に基づいて、非活性状態または活性状態のいずれかの状態とされる。そして、ワード線選択部31から与えられる信号Sに基づいて、ワード線駆動部44が活性状態とされると、該ワード線駆動部44に対応するワード線WLを選択する。そして、ワード線選択部31から与えられる信号Sに基づいて、ワード線駆動部44−が非活性状態とされると、そのワード線駆動部44に対応するワード線WLを非選択とする。
次に、図6を用いて上記ブロック駆動部42−0〜42−15乃至ブロック駆動部42−(16n)〜42−(16n+15)とワード線駆動部44−0〜44−15との回路について説明する。なお、ブロック駆動部42−0〜42−15乃至ブロック駆動部42−(16n)〜42−(16n+15)を区別しない場合には、単にそれぞれブロック駆動部42と呼ぶ。
まず、ブロック駆動部42から説明する。図示するようにブロック駆動部42−iは、pチャネル型のMOSトランジスタ50、51及びnチャネル型のMOSトランジスタ53を備える。MOSトランジスタ50の電流経路の一端には電圧VROWが与えられ、電流経路の他端は対応するワード線WLに接続され、ゲートには対応する信号MWLiが与えられる。MOSトランジスタ51、53の電流経路の一端は対応するワード線WLに接続され、電流経路の他端はノードN1に接続され、ゲートには対応する信号MWL_bi、MWLiがそれぞれ供給される。
次にワード線駆動部44について説明する。図示するようにワード線駆動部44−tは、pチャネル型のMOSトランジスタ52及びnチャネル型のMOSトランジスタ54を備える。MOSトランジスタ52の電流経路の一端には電圧VROWが与えられ、電流経路の他端はノードN1に接続され、ゲートには信号Stが供給される。MOSトランジスタ54の電流経路の一端はノードN1に接続され、他端には電圧VROWSRCが印加され、ゲートには信号Stが供給される。そして、ワード線駆動部44−0〜44−15における各ノードN1は対応付けられたブロック駆動部42−0〜44−15乃至ブロック駆動部42−(16n)〜42−(16n+15)の各ノードN1と接続される。つまり、ワード線駆動部44−tのノードN1は、ブロック駆動部42−t、ブロック駆動部42−(16+t)、ブロック駆動部42−(32+t)、…、ブロック駆動部42−(16n+t)におけるノードN1と接続される。
上記構成のロウデコーダ11の動作につき、ワード線WL1が選択される場合を例に挙げて、以下簡単に説明する。
ワード線WL1はブロックBLK0に属しているので、ブロック選択部32−0は信号MWL0=“H”、MWL_b0を“L”レベルとする。その他のブロック選択部32−1〜32−nはMWL1〜MWLn=“L”、MWL_b1〜MWL_bn=“H”レベルとする。またワード線選択部31は、ワード線WL1に対応する信号S1を“H”レベルとし、その他の信号S0、S2〜S15を“L”レベルとする。
その結果、第2ドライバ43においては、ワード線駆動部44−1ではMOSトランジスタ54がオン状態となり、MOSトランジスタ52がオフ状態となる。よって、ブロック駆動部42−1、42−17、42−33、42−(16n+1)のノードN1には、MOSトランジスタ54の電流経路によって電圧VROWSRCが転送される。他方、その他のワード線駆動部44−0、44−2〜44−15では、MOSトランジスタ52がオン状態、MOSトランジスタ54がオフ状態となる。よって、その他のブロック駆動部42のノードN1には、MOSトランジスタ52の電流経路によって電圧VROWが転送される。
また、第1ドライバ41−0では、信号MWLが“H”レベルとされることにより、ブロック駆動部42−0〜42−15の全てにおいて、MOSトランジスタ51、53がオン状態となり、MOSトランジスタ50がオフ状態となる。そのため、ブロック駆動部42−0〜42−15は、ノードN1を介して第2ドライバ43から転送された電圧を、ワード線WL0〜WL15に転送する。より具体的には、ブロック駆動部42−1においては、ノードN1を介してワード線駆動部44−1から電圧VROWSRCが転送されるため、ワード線WL1には電圧VROWSRCが印加される。その他のブロック駆動部42−0、42−2〜42−15は、ワード線駆動部44−0、44−2〜44−15から転送される電圧VROWを、ワード線WL0、WL1〜WL15にそれぞれ印加する。
他方、その他の第1ドライバ41−1〜41−nでは、信号MWLが“L”レベルとされているので、ブロック駆動部42の全てにおいて、MOSトランジスタ50がオン状態、MOSトランジスタ51、53がオフ状態とされる。従って、ノードN1の電圧に依存することなく、MOSトランジスタ50の電流経路を介して電圧VROWがワード線WL16〜WL(16n+15)に印加される。
上記のようにして、選択ワード線WL1には電圧VROWSRCが印加され、残りの非選択ワード線WL0、WL2〜WL(16n+15)には電圧VROWが印加される。
<信号配線の平面及び断面構成について>
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。
<ビット線の平面及び断面構成について>
まず、図2の領域A2におけるビット線BL及びダミービット線BLd、FAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図7及び図8を用いて説明する。図7は、領域A2におけるビット線BL及びダミービット線BLd、FAT_DMY_BLの平面図である。ここでは、以下着目するダミービット線BLd、FAT_DMY_BLを、ビット線BLよりも強調(太線により)して示す。また図8は、図7における8−8線に沿った断面図である。
まず、図2の領域A2におけるビット線BL及びダミービット線BLd、FAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図7及び図8を用いて説明する。図7は、領域A2におけるビット線BL及びダミービット線BLd、FAT_DMY_BLの平面図である。ここでは、以下着目するダミービット線BLd、FAT_DMY_BLを、ビット線BLよりも強調(太線により)して示す。また図8は、図7における8−8線に沿った断面図である。
図示するように、メモリセルアレイ10中には、第1方向に沿った複数のビット線BLが平行に設けられている。また、最も外側のビット線BLに隣接して、第1方向に沿った複数のダミービット線BLdが、ビット線BLと平行に設けられている。更に、最も外側のダミービット線BLdに隣接して、第1方向に沿ったFAT_DMY_BLが、ダミービット線BLdと平行に設けられている。前述の通り、ビット線BL及びダミービット線BLdの線幅は幅W0であり、FAT_DMY_BLの線幅はW1(>W0)とされている。
そしてダミービット線BLd、FAT_DMY_BLは、第2方向に沿って設けられた金属配線層60によって共通に接続され、コンタクトプラグCP10を介して第1の非選択電位V1に接続されている。第1の非選択電位とは、例えば電圧VUBSRCである。これらのビット線BL、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BL、及び金属配線層60は、例えば半導体基板から第3層目の金属配線によって形成される。
ビット線BLの各々は、コンタクトプラグCPziaを介して、第3層目の金属配線より下層の第2層目の金属配線層61に接続されている。更に金属配線層61はそれぞれ、コンタクトプラグCPviaを介して、第2層目の金属配線より下層の第1層目の金属配線層62に接続されている。第1層目の金属配線層62は、半導体基板63上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。半導体基板63と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
半導体基板63の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AAとなる。活性領域AA上には、MOSトランジスタCSWが形成される(図7及び図8ではMOSトランジスタCSW0のみ示す)。MOSトランジスタCSWは、活性領域AAの表面内に形成された不純物拡散層64と、隣接する不純物拡散層64間の活性領域AA上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極65とを備えている。
そして不純物拡散層64の一方は、コンタクトプラグCP11を介して金属配線層62に接続されている。不純物拡散層64の他方は、図示せぬコンタクトプラグや金属配線により、センスアンプ12に接続される。
<ワード線駆動部42の平面及び断面構成について>
次に、図6の領域A3とその周囲における配線の平面パターン及び断面構造について、図9及び図10を用いて説明する。図9は、領域A3とその周囲における配線等の平面図である。そして図9において、以下着目するダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLを、ワード線WLよりも強調して示す。そして、領域A3は、図6における第1ドライバ41−iを構成するMOSトランジスタ50、51、及び53を含む領域である。また図10は図9における11−11に沿った断面図である。
次に、図6の領域A3とその周囲における配線の平面パターン及び断面構造について、図9及び図10を用いて説明する。図9は、領域A3とその周囲における配線等の平面図である。そして図9において、以下着目するダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLを、ワード線WLよりも強調して示す。そして、領域A3は、図6における第1ドライバ41−iを構成するMOSトランジスタ50、51、及び53を含む領域である。また図10は図9における11−11に沿った断面図である。
図示するように、メモリセルアレイ10中には、第2方向に沿った複数のワード線WLが平行に設けられている。また、最も外側のワード線WLに隣接して、第2方向に沿った複数のダミーワード線WLdが、ワード線WLと平行に設けられている。更に、最も外側のダミーワード線WLdに隣接して、第2方向に沿ったFAT_DMY_WLが、ダミーワード線WLdと平行に設けられている。前述の通り、ワード線WL及びダミーワード線WLdの線幅は幅W3であり、FAT_DMY_WLの線幅はW2(>W3)とされている。
そしてダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLは、第1方向に沿って設けられた金属配線層70によって共通に接続され、コンタクトプラグCP12を介して第2の非選択電位V2に接続されている。第2の非選択電位V2とは、例えば電圧VROWである。これらのワード線WL、ダミーワード線WLd、FAT_DMY_WL、及び金属配線層70は、例えば半導体基板から第3層目の金属配線によって形成される。
また、半導体基板73(図示せぬ)中には、長手方向が第1方向に沿って形成された活性領域AA−1が、第2方向に沿って複数形成されている。そして、この隣接する活性領域AA−1間には素子分離領域STIが形成され、活性領域AA−1が電気的に分離されている。この活性領域AA−1の第1方向に沿った長さLは、第1方向に沿ったブロックBLKの長さに相当する。つまり、微細化が進み、第1方向における1ブロックBLK当たりの長さが小さくなる中、その1ブロックBLKに形成される、例えば16本のワード線WLに接続可能な構成をとるには、上記構成のように第2方向に向かって、活性領域AA−1を複数形成すればよい。またポリシリコン層75−1は、第2方向に沿って2本形成される。そしてこのポリシリコン層75−1は、複数形成された活性領域AA−1を跨ぐように第1方向に向かって形成される。つまり、活性領域AA−1上に形成されたゲート絶縁膜(図示せぬ)と、該ゲート絶縁膜上に形成されたポリシリコン層75−1及び不純物拡散層74−1により、MOSトランジスタ50及び51がそれぞれ形成される。また、ポリシリコン層75−1はゲートとして機能する。以下、ポリシリコン層75−1をゲート電極75−1と呼ぶ。
そしてMOSトランジスタ50、51の不純物拡散層74−1の一方は互いに共通接続されている。この共通接続された不純物拡散層74−1には、コンタクトプラグCP13−1が接続される。そして、このコンタクトプラグCP13−1、金属配線層71−1、及び72−2を介して、この共通接続された不純物拡散層74−1がワード線WLに接続される。そして、MOSトランジスタ50の一方の不純物拡散層74−1に接するコンタクトプラグCP13b−1が形成されており、MOSトランジスタ51の一方の不純物拡散層74−1に接するコンタクトプラグCP13aが形成されている。
また、第2方向に向かって金属配線層76が形成される。そして、この金属配線層76は、第1層目の金属配線によって形成される。この金属配線層76には、例えば電圧発生回路13から電圧VROWが供給される。そして、この金属配線層76に接続され、第1方向に向かって複数形成された金属配線層77が活性領域AA−1毎、第2方向に沿って形成される。つまりこの金属配線層77は、金属配線層76に供給された電圧VROWを供給可能な構成とされる。そして、活性領域AA−1は16個形成されていることから、16本のこの金属配線層77がそれぞれ金属配線層76に接続される。この金属配線層77は引き出し部分を備える(図中A4)。この引き出し部分は、不純物拡散層74−1の他方(図示せぬ)と接続されたコンタクトプラグCP13b−1と接続される。つまり、この引き出し部分を介して不純物拡散層74−1に電圧VROWが転送される。
また、第1方向に向かって形成された複数の金属配線層78−1が第2方向に沿って形成される。この金属配線層78−1は、隣接する金属配線層77間に形成され、MOSトランジスタ51の不純物拡散層74−1の他方(図示せぬ)に接続されるコンタクトプラグCP13a−1に接続される。この金属配線層78は信号WLDVとされる電圧VROWまたは電圧VROWSRCのいずれかが供給される。つまり、金属配線層78に供給された電圧VROWまたは電圧VROWSRCのいずれかはコンタクトプラグCP13a−1を介してMOSトランジスタ51における他方の不純物拡散層74に供給される。
また、MOSトランジスタ50、51と第2方向に隣接するようにMOSトランジスタ53が形成される。以下、このMOSトランジスタ53について説明する。
第1方向に向かって形成された活性領域AA−2が、活性領域AA−1と第2方向に隣接しつつ、複数形成されている。そして、互いに隣接する活性領域AA−2間には図示せぬ素子分離領域STIが形成され、活性領域AA−2が電気的に分離されている。またポリシリコン層75−2は、複数形成された活性領域AA−2を跨ぐようにコの字状に形成される。そして、活性領域AA−2上に形成されたゲート絶縁膜(図示せぬ)と、該ゲート絶縁膜上に形成されたポリシリコン層75−2及び不純物拡散層74−2(図示せぬ)により、MOSトランジスタ53が形成される。また、ポリシリコン層75−2はゲートとして機能する。以下、ポリシリコン層75−2をゲート電極75−2と呼ぶ。
そしてMOSトランジスタ53において共通接続される不純物拡散層74−2には、コンタクトプラグCP13−2が形成され、それ以外の不純物拡散層74−2には、この不純物拡散層74−2に接するコンタクトプラグCP13b−2及びコンタクトプラグCP13a−2がそれぞれ形成されている。そして、共通接続される不純物拡散層74−2はコンタクトプラグCP13−2、金属配線層71−2、72−2を介してワード線WLに接続される。
また、第1方向に向かって形成された複数の金属配線層78−2が第2方向に沿って形成される。この金属配線層78−2は、引き出し部を備える(図中、A5)。そして、金属配線層78−2は隣接する活性領域73−2間にそれぞれ形成される。そして、この引き出し部がMOSトランジスタ53の不純物拡散層74−2に接続されるコンタクトプラグCP13a−2及びCP13b−2にそれぞれ接続される。そしえ金属配線層78は信号WLDVとされる電圧VROWまたは電圧VROWSRCのいずれかが供給される。つまり、金属配線層78に供給された電圧VROWまたは電圧VROWSRCのいずれかは引き出し部からコンタクトプラグCP13a−2、CP13b−2を介してMOSトランジスタ51における他方の不純物拡散層74に供給される。
図10に示すようにワード線WLの各々は、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層71−1に接続されている。更に金属配線層71−1はそれぞれ、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層72−1に接続されている。第1層目の金属配線層72−1は、半導体基板73上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。半導体基板73と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
半導体基板73の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AA−1となる。活性領域AA−1上には、MOSトランジスタ50及び51が形成される。MOSトランジスタ50、51は活性領域AA−1の表面内に形成され、それぞれ互いの一方が共通接続された不純物拡散層74−1と、隣接する不純物拡散層74−1間の活性領域AA−1上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極75−1とを備えている。
そして共通接続される不純物拡散層74−1は、コンタクトプラグCP13−1を介して金属配線層72−1に接続されている。上述したようにMOSトランジスタ50の不純物拡散層74−1の他方には、図示せぬコンタクトプラグや金属配線により、電圧VROWが供給される。そして、MOSトランジスタ51の不純物拡散層74の他方は、図示せぬコンタクトプラグや金属配線を介してノードN1に接続され、信号WLDVが供給される。
本実施形態に係る半導体記憶装置であると、周囲の不要なセルから受ける影響を低減出来る。この点につき、以下説明する。
背景技術で述べたように、ビット線とワード線とが交差する位置に自己整合的にメモリセルを形成する製造方法であると、メモリセルアレイの縁部に不要なメモリセル(これをダミーセルと呼ぶ)が形成される場合がある。そしてこのダミーセルは、実際にデータを記憶するメモリセルに対して悪影響を及ぼす場合がある。
しかし、本実施形態に係る構成では、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BL及びダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLに、それぞれ第1、第2の非選択電位を与えている。そしてこれによりダミーセルの整流素子DDには、常時逆バイアスを印加している。つまり、ダミーセルは常時オフ状態で固定され、オン状態にはならず、またオン状態でもなくオフ状態でもないような不安定な状態にもならない。つまりダミーセルにおけるバイアスは常時一定に安定させることが出来る。そのため、ダミーセルが、その他のメモリセルに対して影響を与えることを抑制出来る。
また、本実施形態に係る半導体記憶装置であると、更に上記メモリセルアレイ10における不良セルの検知をすることが出来る。この点について説明する。上記説明したように本実施形態ではダミーセルの整流素子DDには、常時逆バイアスが印加されるよう、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BL及びダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLに、それぞれ第1、第2の非選択電位が与えられている。このダミーセルのいずれかに、例えば整流動作を行わず、ショートしている不良セルがあったとする。この場合、ダミーワード線WLdの電位がダミービット線BLdと等電位、すなわちショートしてしまう。つまり、金属配線層60に供給した非選択電位が、ダミーワード線WLdに供給される。すなわち、ダミーセルに逆バイアスを印加したのにも関わらず、ダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLからBLd、FAT_DMY_BLに向かって電流が流れる。従って、この電流を検出することで、少なくとも不良とされるメモリセルMCがあるということは確認できる。つまり、本実施形態に係る半導体記憶装置を製品として出荷する前の品質チェックにおいて、その製品に不良のメモリセルMCが存在するかの確認をすることが出来る。
上記不良セルのチェック方法は、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BLに流れる電流値や電圧値を確認すればよい。つまり、ダミービット線BLにおける電流値や電圧値をセンスアンプ12や、外部の電流計や電圧計を用いて確認することで、ダイオードDDが整流動作をしない場合や、そのダイオードDDや可変抵抗素子VRが導通している場合など、ダミーセルになんらかの不良が生じているといった不良セルを検知することができる。
[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置ついて説明する。本実施形態に係る半導体記憶装置は、上記第1の実施形態において、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの電位を制御可能としたものである。その他の構成は第1の実施形態と同一の構成であるので、以下では第1の実施形態と異なる点についてのみ説明する。
次に、本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置ついて説明する。本実施形態に係る半導体記憶装置は、上記第1の実施形態において、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの電位を制御可能としたものである。その他の構成は第1の実施形態と同一の構成であるので、以下では第1の実施形態と異なる点についてのみ説明する。
<メモリセルアレイ10の構成について>
図11は、本実施形態に係るReRAMのメモリセルアレイ10の回路図である。図示するように本実施形態に係るメモリセルアレイ10は、第1の実施形態において図3を用いて説明した構成において、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdを、それぞれロウデコーダ11及びセンスアンプ12によって選択可能とした構成を有している。ダミービット線BLd0〜BLd2はそれぞれ、MOSトランジスタCSWD0〜CSWD2によってセンスアンプ12に接続される。MOSトランジスタCSWD0〜CSWD2のゲートは、MOSトランジスタCSWのゲートと共通に接続されている。
図11は、本実施形態に係るReRAMのメモリセルアレイ10の回路図である。図示するように本実施形態に係るメモリセルアレイ10は、第1の実施形態において図3を用いて説明した構成において、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdを、それぞれロウデコーダ11及びセンスアンプ12によって選択可能とした構成を有している。ダミービット線BLd0〜BLd2はそれぞれ、MOSトランジスタCSWD0〜CSWD2によってセンスアンプ12に接続される。MOSトランジスタCSWD0〜CSWD2のゲートは、MOSトランジスタCSWのゲートと共通に接続されている。
<信号配線の平面及び断面構成について>
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。なお、上記第1の実施形態と同一の構成については説明を省略する。
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。なお、上記第1の実施形態と同一の構成については説明を省略する。
<ビット線の平面及び断面構成について>
図11におけるビット線BL、ダミービット線BLd、及びFAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図12及び図13を用いて説明する。図12は、図11において特にビット線BL、ダミービット線BLd、及びFAT_DMY_BLに着目した平面図である。そして、以下着目するダミービット線BLdの線幅を、ビット線BLの線幅よりも強調(太線により)して示す。また図13は、図12における13−13線に沿った断面図である。
図11におけるビット線BL、ダミービット線BLd、及びFAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図12及び図13を用いて説明する。図12は、図11において特にビット線BL、ダミービット線BLd、及びFAT_DMY_BLに着目した平面図である。そして、以下着目するダミービット線BLdの線幅を、ビット線BLの線幅よりも強調(太線により)して示す。また図13は、図12における13−13線に沿った断面図である。
図12、図13に示すように、ダミービット線BLdの各々は、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層81に接続されている。更に金属配線層81はそれぞれ、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層82に接続されている。第1層目の金属配線層82は、半導体基板83上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。半導体基板83と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
また図13に示すように、半導体基板83の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AAとなる。活性領域AA上には、MOSトランジスタCSWD0が形成される(図13ではMOSトランジスタCSWD0のみ示す)。MOSトランジスタCSWD0は、素子領域AAの表面内に形成された不純物拡散層84と、隣接する不純物拡散層84間の素子領域AA上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極85とを備えている。
そして不純物拡散層84の一方は、コンタクトプラグCP15を介して金属配線層82に接続されている。不純物拡散層84の他方は、図示せぬコンタクトプラグや金属配線により、センスアンプ12に接続される。
<ワード線駆動部42の平面及び断面構成について>
次に、本実施形態に係る構成において、図7の領域A3とその周囲に対応する領域における配線の平面パターン及び断面構造について、図14及び図15を用いて説明する。上記第1の実施形態と同様、図14は、領域A3とその周囲における配線等の平面図である。そして、以下着目するダミーワード線WLdの線幅を、ワード線WLの線幅よりも強調(太線により)して示す。また図15は図14における15−15線に沿った断面図である。なお、上記第1の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。
次に、本実施形態に係る構成において、図7の領域A3とその周囲に対応する領域における配線の平面パターン及び断面構造について、図14及び図15を用いて説明する。上記第1の実施形態と同様、図14は、領域A3とその周囲における配線等の平面図である。そして、以下着目するダミーワード線WLdの線幅を、ワード線WLの線幅よりも強調(太線により)して示す。また図15は図14における15−15線に沿った断面図である。なお、上記第1の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。
図14に示すように、ダミーワード線WLd0乃至WLd2を選択可能とするための該ダミーワード線WLd0乃至WLd2に対応する活性領域AA−1が形成される。つまり、本実施形態ではダミーワード線WLd0乃至WLd2を選択可能とする新たなMOSトランジスタ50、51が、活性領域AA−1上に形成された構成をとる。本例では、このMOSトランジスタ50、51はそれぞれ3つ形成される(便宜上、ダミーワード線WLd0乃至WLd2に対応付けられたMOSトランジスタ50、51を1つずつ表示)。また、これらMOSトランジスタ50、51を構成する各部材及びその周辺を構成する各部材について、第1の実施形態における半導体基板73(図示せぬ)、不純物拡散層74−1(図示せぬ)、74−2(図示せぬ)コンタクトプラグCP13−1、CP13a−1、CP13b−1、金属配線層71−1、72−1、をそれぞれ半導体基板(活性領域)93(図示せぬ)、不純物拡散層94−1(図示せぬ)、94−2(図示せぬ)、コンタクトプラグCP16−1、CP16a−1、CP16b−1、金属配線層91−1、92−1とする。つまり参照符号は異なるが構成は同一であることから説明を省略する。
第2方向に沿って、活性領域AA−1に隣接し、ダミーワード線WLd0乃至WLd2に対応する活性領域AA−2が形成される。つまり上記同様、ダミーワード線WLd0乃至WLd2を選択可能とする新たなMOSトランジスタ53が、活性領域AA−2上に形成された構成をとる。本例では、このMOSトランジスタ53はそれぞれ3つ形成される(便宜上、1つのMOSトランジスタ53のみ表示)。また、これらMOSトランジスタ53を構成する各部材について、第1の実施形態における不純物拡散層74−2、コンタクトプラグCP13−2、CP13a−2、CP13b−2、金属配線層71−2、72−2、をそれぞれ不純物拡散層94−2、コンタクトプラグCP16−2、CP16a−2、CP16b−2、金属配線層91−2、92−2とする。つまり参照符号は異なるが構成は同一であることから説明を省略する。これらワード線WL、ダミーワード線WLd、及びFAT_DMY_WLは、例えば半導体基板から第3層目の金属配線によって形成される。
ワード線WLdの各々は、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層91−1に接続されている。更に金属配線層91−1はそれぞれ、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層92−1に接続されている。第1層目の金属配線層92−1は、半導体基板93上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。半導体基板93と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
半導体基板93の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AA−1となる。活性領域AA−1上には、MOSトランジスタ50及び51が形成される。MOSトランジスタ50、51は活性領域AA−1の表面内に形成され、それぞれ互いの一方が共通接続された不純物拡散層94−1と、隣接する不純物拡散層94−1間の活性領域AA−1上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極95−1とを備えている。
そして共通接続される不純物拡散層94−1は、コンタクトプラグCP16−1を介して金属配線層92−1に接続されている。そして、MOSトランジスタ50の不純物拡散層94−1の他方には、図示せぬコンタクトプラグCP16a−1や金属配線により、電圧VROWが供給される。またMOSトランジスタ51の不純物拡散層94の他方には、図示せぬコンタクトプラグCP16b−1や金属配線を介してノードN1に接続される。ここでは、ダミーワード線WLd1の断面図について説明したが、ダミーワード線WLd1、WLd2についても同様の構成である。
本実施形態に係る半導体記憶装置であると、上記第1の実施形態に係る効果が得られると共に、詳細な不良解析が可能となる。
本実施形態に係る半導体記憶装置であると、ロウデコーダ11及びセンスアンプ12によってダミービット線BLd及びダミーワード線WLdを選択することが出来る。つまり、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの少なくともいずれか一方に接続されたダミーセルに対しても、データの書き込み及び読み出し行うことが出来る。従って、これらのダミーセルにアクセスすることで、いずれかが不良であるか否かを検出することが出来る。例えば不良となったダミーセルは、正常なダミーセルとは異なる電流を駆動する。よってこの電流(または電圧)を検知することで、どのダミーセルが不良であるかの情報や、またその不良の総数のような情報を得ることが出来る。そして不良の数によっては、当該マット21を使用不可とすることで、歩留まりの高い半導体記憶装置を製造することができる。
また、本実施形態においてダミービット線BLdに対応付けられたMOSトランジスタCSWDを更に設け、ダミービット線BLdとセンスアンプ12とを電気的に接続可能とした。このようにMOSトランジスタCSWDを新たに必要とするのは、本実施形態に係る半導体記憶装置がRe−RAM特有の構造だからである。つまり、意図としない領域にまで形成されたメモリセルMC(ダミーセル)に対しても、その電気特性を測定するためには、上記説明したようにMOSトランジスタCSWDが必要となる。つまり、不揮発性のNAND型メモリセルアレイ、NOR型フラッシュメモリや、フラッシュメモリ以外のDRAM等の半導体メモリにおいて、それら周囲にダミーセル(この場合はトランジスタ)が形成された場合であっても、例えば、ダミーセルのゲートの電圧を固定できれば、そのダミーセルを非選択状態とするために新たなMOSトランジスタを必要とすることはない。このようにRe−RAMであるために上記説明したようなMOSトランジスタCSWDが必要となる。同様にダミーワード線WLdに対応付けられて新たに形成されたMOSトランジスタ50乃至54についても同様である。
そして、本実施形態ではMOSトランジスタCSWDを追加した場合について説明したが、該MOSトランジスタCSWDを設けることで回路規模が大きくなってしまうことから、例えばMOSトランジスタCSW0乃至CSW15がビット線BL0乃至BL15を選択可能としつつ、ダミービット線BLdを選択可能な構成としてもよい。これにより、回路規模の増加を抑制することが出来、ダミーセルに対する不良解析を行うことができる。そのためには、メモリセル及びダミーセルに対するアドレスの割付を再構築すればよい。
また、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの少なくともいずれかに接続されたダミーセルが正常に動作可能であった場合、このダミーセルを通常のメモリセルMCとして使用するものとして出荷することも可能である。当然ながら、通常のメモリセルMCとして使用しないダミーセルに対しては、ロウデコーダ11及びセンスアンプ12によって非選択電位V1、V2が常時与えられる。
また、上記第1の実施形態を含め、本実施形態でも、ダミービット線BLd及びダミーワード線WLdをそれぞれ3本としたが、これらダミービット線BLd及びダミーワード線WLdに接続されたダミーセルが正常に動作可能と判断した場合、次の製造時には、それらダミービット線BLd及びダミーワード線WLdの本数を、減らすことも可能である。つまり、それまで、ダミービット線BLd、ダミーワード線WLdとされたビット線BL、ワード線WLを、上記説明したビット線BL0〜BL15、ワード線WL0〜WL15のいずれかと機能させてもよい。
[第3の実施形態]
次に本発明の第3の実施形態に係る半導体記憶装置ついて説明する。本実施形態に係る半導体記憶装置は、上記第2の実施形態において、更にダミービット線FAT_DMY_BL及びダミーワード線FAT_DMY_WLをセンスアンプ12及びロウデコーダ11によって選択可能としたものである。以下では、第2の実施形態と異なる点についてのみ説明する
<メモリセルアレイ10の構成について>
図16は、本実施形態に係るReRAMのメモリセルアレイ10の回路図である。図示するように本実施形態に係るメモリセルアレイ10は、第1の実施形態において図3を用いて説明した構成において、センスアンプ12の選択対象とする信号線をそれまでのビット線BL0からダミービット線FAT_DMY_BLに切り替えたものである。つまり、ビット線BL0乃至BL15のうちいずれか1つをMOSトランジスタCSWから切り離し、そのビット線BLに対応するMOSトランジスタCSWをダミービット線FAT_DMY_BLに接続するものである。すなわち本実施形態ではダミービット線FAT_DMY_BLは、MOSトランジスタCSW0を介してセンスアンプ12に接続される。
次に本発明の第3の実施形態に係る半導体記憶装置ついて説明する。本実施形態に係る半導体記憶装置は、上記第2の実施形態において、更にダミービット線FAT_DMY_BL及びダミーワード線FAT_DMY_WLをセンスアンプ12及びロウデコーダ11によって選択可能としたものである。以下では、第2の実施形態と異なる点についてのみ説明する
<メモリセルアレイ10の構成について>
図16は、本実施形態に係るReRAMのメモリセルアレイ10の回路図である。図示するように本実施形態に係るメモリセルアレイ10は、第1の実施形態において図3を用いて説明した構成において、センスアンプ12の選択対象とする信号線をそれまでのビット線BL0からダミービット線FAT_DMY_BLに切り替えたものである。つまり、ビット線BL0乃至BL15のうちいずれか1つをMOSトランジスタCSWから切り離し、そのビット線BLに対応するMOSトランジスタCSWをダミービット線FAT_DMY_BLに接続するものである。すなわち本実施形態ではダミービット線FAT_DMY_BLは、MOSトランジスタCSW0を介してセンスアンプ12に接続される。
同様に、ロウデコーダ11の選択対象とする信号線をそれまでのワード線WL0からダミーワード線FAT_DMY_WLに切り替えたものである。すなわち、ロウデコーダ11は、ダミーワード線FAT_DMY_WLを選択可能とされる。つまり、ワード線WL0乃至WL15のうちいずれか1つをロウデコーダ11から切り離し、そのワード線WLに対応するワード線駆動部42をダミーワード線FAT_DMY_WLに接続するものである。具体的には、ロウコーダ11を構成するMOSトランジスタ51、MOSトランジスタ53の電流経路の一端から出力される電圧を、それまでのワード線WL0からダミーワード線FAT_DMY_WLに転送するものである。
つまりマット21においてデータを保持する記憶部として機能するメモリセルMCを犠牲にすることで、ダミービット線FAT_DMY_BL及びダミーワード線FAT_DMY_WLに接続されたダミーセルの電気特性を検査可能とするものである。以下これをスワップ(swap)と呼ぶことがある。勿論、スワップ対象はビット線BL0及びワード線WL0に限らず、その他のビット線及びワード線であっても良い。
<信号配線の平面及び断面構成について>
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。なお、上記第1の実施形態と同一の構成については説明を省略する。
次に、上記説明した信号配線の幾つかについての平面パターンと断面構成を説明する。なお、上記第1の実施形態と同一の構成については説明を省略する。
<ビット線BLの平面図及び断面図について>
図16におけるビット線BL、ダミービット線BLd及びFAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図17及び図18を用いて説明する。図17は、図16において特にビット線BL、ダミービット線BLd及びFAT_DMY_BLに着目した平面図である。そして、以下着目するビット線BL0を、その他のビット線BLよりも強調(太線により)して示す。また図18は、図16における18−18線に沿った断面図である。
図16におけるビット線BL、ダミービット線BLd及びFAT_DMY_BLの平面パターン及び断面構造について、図17及び図18を用いて説明する。図17は、図16において特にビット線BL、ダミービット線BLd及びFAT_DMY_BLに着目した平面図である。そして、以下着目するビット線BL0を、その他のビット線BLよりも強調(太線により)して示す。また図18は、図16における18−18線に沿った断面図である。
図示するようにダミービット線FAT_DMY_BLには、上記第1、第2の実施形態で説明したような第1、第2の非選択電位V1、V2が供給されることはない。MOSトランジスタCSW0の不純物拡散層106の一方とダミービット線FAT_DMY_BLとを接続するコンタクトプラグCPzia及びコンタクトプラグCPviaが、ダミービット線FAT_DMY_BL上に形成される。このため、金属配線層102がダミービット線BLdを跨ぐように形成されている。本実施形態においても図17に示すビット線BL、ダミービット線BLd及びFAT_DMY_BLは、例えば半導体基板から第3層目の金属配線によって形成される。
図18に示すようにFAT_DMY_BLは、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層101に接続されている。更に金属配線層101は、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層102に接続されている。第1層目の金属配線層102は、半導体基板103上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。そして、この金属配線層102はダミービット線BLdを跨ぐようにしてダミービット線FAT_DMY_BLからビット線BLが形成される領域にまで達している。半導体基板103と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
またビット線BL0は、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層110に接続されている。更に金属配線層110は、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層111に接続されている。第1層目の金属配線層110は、半導体基板103上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。そして、この金属配線層111に、第3の非選択電位(V3)が供給される。第3の非選択電位とは、例えば電圧VUBSRCである。
半導体基板103の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AAとなる。活性領域AA上には、MOSトランジスタCSW0が形成される。MOSトランジスタCSW0は、活性領域AAの表面内に形成された不純物拡散層106と、隣接する不純物拡散層106間の活性領域AA上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極105とを備えている。
そして不純物拡散層106の一方は、コンタクトプラグCPFATを介して金属配線層102に接続されている。不純物拡散層106の他方は、図示せぬコンタクトプラグや金属配線により、センスアンプ12に接続される。
<ワード線駆動部42の平面及び断面構成について>
次に、本実施形態に係る構成において、図7の領域A3とその周囲対応する領域における配線の平面パターン及び断面構造について、図19及び図20を用いて説明する。上記第1の実施形態と同様、図19は、領域A3とその周囲における配線等の平面図であり、図20は図19における20−20線に沿った断面図である。なお、上記第1、第2の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。また、これらMOSトランジスタ50、51を構成する各部材及びその周辺を構成する各部材について、第1の実施形態における半導体基板(図示せぬ)73、不純物拡散層74−1(図示せぬ)、コンタクトプラグCP13−1、CP13a−1、CP13b−1、金属配線層71−1、72−1、をそれぞれ半導体基板(図示せぬ)123、不純物拡散層124−1(図示せぬ)、不純物拡散層124−2(図示せぬ)、コンタクトプラグCP17−1、CP17a−1、CP17b−1、金属配線層130−1、131−1とする。つまり参照符号は異なるが構成は同一であることから説明を省略する。
次に、本実施形態に係る構成において、図7の領域A3とその周囲対応する領域における配線の平面パターン及び断面構造について、図19及び図20を用いて説明する。上記第1の実施形態と同様、図19は、領域A3とその周囲における配線等の平面図であり、図20は図19における20−20線に沿った断面図である。なお、上記第1、第2の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。また、これらMOSトランジスタ50、51を構成する各部材及びその周辺を構成する各部材について、第1の実施形態における半導体基板(図示せぬ)73、不純物拡散層74−1(図示せぬ)、コンタクトプラグCP13−1、CP13a−1、CP13b−1、金属配線層71−1、72−1、をそれぞれ半導体基板(図示せぬ)123、不純物拡散層124−1(図示せぬ)、不純物拡散層124−2(図示せぬ)、コンタクトプラグCP17−1、CP17a−1、CP17b−1、金属配線層130−1、131−1とする。つまり参照符号は異なるが構成は同一であることから説明を省略する。
また、以下着目するダミーワード線FAT_DMY_WL及びワード線WL0について、ダミーワード線WLdよりも強調(太線により)して示す。図20は図19における20−20線に沿った断面図である。
図19に示すように、ダミーワード線FAT_DMY_WLには、コンタクトプラグCPzia、CPvia、金属配線層121、及び金属配線層122介して電圧VROWまたは電圧VROWSRCが供給される。つまり、ダミーワード線FAT_DMY_WLに電圧VROWまたは電圧VROWSRCが供給されるよう、金属配線層122−1が活性領域AA−1にまで延びるように形成される。この金属配線層122−1は、活性領域AA−1上における共通接続された不純物拡散層124−1にコンタクトプラグCPFAT(図示せぬ)を介して接続される。
また、金属配線層77には、コンタクトプラグCP18−1及び金属配線層131−1が接続される。つまり、金属配線層77から供給された、電圧VROWがこのコンタクトプラグCP18及び金属配線層131−1を介してワード線WL0に供給される。
また、これらMOSトランジスタ53を構成する各部材及びその周辺を構成する各部材について、第1の実施形態における不純物拡散層74−2(図示せぬ)、コンタクトプラグCP13−2、CP13a−2、CP13b−2、金属配線層71−2、72−2、をそれぞれ、不純物拡散層94−2、コンタクトプラグCP17−2、CP17a−2、CP17b−2、金属配線層130−2、131−2とする。つまり参照符号は異なるが構成は同一であることから説明を省略する。
ワード線WL0に対応する金属配線層131−1には、コンタクトプラグCP18−2が形成される。そして、このコンタクトプラグCP18−2にはワード線WL0に接続される金属配線層131−2が接続される。つまり、金属配線層128−2から、コンタクトプラグCP18−2、金属配線層131−2、及びコンタクトプラグCPvia、及びCPziaを介して、ワード線WL0には電圧VROWが転送される。図19においても、ワード線WL、ダミーワード線WLd、及びFAT_DMY_WLは、例えば半導体基板から第3層目の金属配線によって形成される。
図20に示すようにダミーワード線FAT_DMY_WLは、コンタクトプラグCPziaを介して、第2層目の金属配線層121−1に接続されている。更に金属配線層121−1は、コンタクトプラグCPviaを介して、第1層目の金属配線層122−1に接続されている。第1層目の金属配線層122−1は、活性領域AA−1上に形成された金属配線のうち、最も下層の金属配線である。活性領域AA−1と第1層目の金属配線との間、第1層目の金属配線と第2層目の金属配線との間、及び第2層目の金属配線と第3層目の金属配線との間には、層間絶縁膜が形成される。
半導体基板123の表面内には、素子分離領域STIが形成され、この素子分離領域STIによって周囲を取り囲まれた領域が、活性領域AA−1となる。活性領域AA−1上には、MOSトランジスタ50及び51が形成される。MOSトランジスタ50、51は活性領域AA−1の表面内に形成され、それぞれ互いの一方が共通接続された不純物拡散層124−1と、隣接する不純物拡散層124−1間の活性領域AA−1上に図示せぬゲート絶縁膜を介在して形成されたゲート電極125−1とを備えている。
そして共通接続される不純物拡散層124−1は、コンタクトプラグCPFATを介して金属配線層122−1に接続されている。そして、MOSトランジスタ50の不純物拡散層124−1の他方には、図示せぬコンタクトプラグや金属配線により、電圧VROWが供給される。またMOSトランジスタ51の不純物拡散層124−1の他方には、図示せぬコンタクトプラグや金属配線を介してノードN1に接続される。
本実施形態に係る半導体記憶装置であると、上記第2の実施形態に係る効果に加え、更に詳細な品質チェックをすることが出来る。本実施形態に係る半導体記憶装置は、ビット線FAT_DMY_BLをセンスアンプ12により選択することが出来る。同様にダミーワード線FAT_DMY_WLについても、ロウデコーダ11により選択可能とされる。つまり、本来であれば、データを保持するメモリセルMCに接続された、例えばビット線BL0またはワード線WL0に所定の電圧を転送するMOSトランジスタの出力先を上記ダミービット線FAT_DMY_BLやダミーワード線FAT_DMY_WLとする。
これにより、ダミービット線FAT_DMY_BL及びダミーワード線FAT_DMY_WLにそれぞれ接続されたダミーセルについても、センスアンプ12及びロウデコーダ11により選択可能となる。つまり、上記第2の実施形態と比べ、更にFAT_DMY_BL、FAT_DMY_WLに接続されたダミーセルのセル特性についても検知することが出来る。このことから、センスアンプ12により検知可能であったマット21の周囲に形成されたダミーセルについても、その電気特性を調べることで、メモリセルアレイ10のどこが不良かを明確に捕らえることが出来る。
これは、上記第2の実施形態でも説明したように、製品として出荷する際に、不良メモリセルMCが存在するマット21を使用不可とすることで歩留まりの高い半導体記憶装置を製造することができる。
また、メモリセルMCの電気特性の結果から、更にFAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLに接続されたダミーセルが正常に動作可能な電気特性を有するものだったとする。この場合、これら領域A1に形成されたダミーセルについても、データを記憶する保持部として機能させて出荷することも可能である。
上記第1乃至第3の実施形態では、ダミーセルが正常に動作しさえすれば、データを記憶するメモリセルとして機能させてもよいと述べたが、通常“ダミーセル”は、市場に流出した後は、データを記憶するメモリセルとして機能することはなく、つまりデータを記憶する機能を持たない。つまり、市場に流出する前段階における品質チェック時において、ダミービット線BLd、FAT_DMY_BL、ダミーワード線WLd、FAT_DMY_WLにそれぞれ接続されたダミーセルの不良検知が行われた後は、例え、そのダミーセルがロウデコーダ11やセンスアンプ12により選択可能に接続されていたとしても、そのダミーセルに論理アドレスを与えられることはない。つまり、ダミーセルとは、ホスト機器からアクセス不可能なセルである。もし仮に不良検知の結果、ダミーセルが正常に動作し、そのダミーセルをデータを記憶するメモリセルとして機能させるには、そのダミーセルに論理アドレスを与えてやればよい。
なお、上記第1乃至第3の実施形態では、ReRAMについて説明したが、不揮発性のNAND型メモリセルアレイ、NOR型フラッシュメモリや、フラッシュメモリ以外のDRAM等の半導体メモリなどに適用することも可能である。
なお、上記第1乃至第3の実施形態において、FAT_DMY_BL、及びFAT_DMY_WLのどちらか片方がマット21の周囲に形成されていてもよいし、両方形成されていてもよい。
そして、このときマット21の周囲に形成されるFAT_DMY_BL、及びFAT_DMY_WLの本数は、1本に限らず、2本以上であってもよい。
つまり、FAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLがそれぞれ複数本形成されていてもよいし、複数形成されるFAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WLの本数は同一でなくてもよい。更には、FAT_DMY_BLまたはFAT_DMY_WLのいずれかのみが複数本形成されていてもよい。
また、上記第1乃至第3の実施形態において、ダミービット線BLd0乃至BLd2、ダミーワード線WLd0乃至WL2としたが、この本数は3本以上であってもよく、数に制限はない。
また、上記第1の実施形態において、FAT_DMY_BL、及びダミービット線BLdの一端が共通接続されていたが、これらビット線BLに第1の非選択電圧(V1)が与えられれば、共通接続されていなくてもよい。これはFAT_DMY_WLとダミーワード線WLdとについても同様である。すなわち、FAT_DMY_WL、及びダミーワード線WLdの一端が共通接続されていたが、これらワード線WLに第2の非選択電圧(V2)が与えられれば、共通接続されていなくてもよい。これは上記説明したように、FAT_DMY_BL及びFAT_DMY_WL、並びにダミービット線BLd、並びにとダミーワード線WLdがそれぞれ複数本形成された場合においても同様である。
なお、本願発明は上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出されうる。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出されうる。
10…メモリセルアレイ、11…ロウデコーダ、12…センスアンプ、13…電圧発生回路、14…制御部、15…カラムデコーダ、21…マット、30…アドレスデコード部、31…ワード線選択部、32…ブロック選択部、40…ワード線ドライバ、41…第1ドライバ、42…ブロック駆動部、43…第2ドライバ、44…ワード線駆動部、61、62、71−1、72−1、81、82、91−1、92−1、101、102、110、111、121−1、122−1、130−1、131−1…金属配線層、50〜54…MOSトランジスタ、64、74−1、74−2、84、94−1、94−2、106、124−1…不純物拡散層
Claims (5)
- 第1の方向に沿って形成された第1信号線と、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って形成された第2信号線と、
前記第1信号線に隣接しつつ前記第1方向に沿って形成された第1ダミー配線と、
前記第2信号線に隣接しつつ前記第2方向に沿って形成された第2ダミー配線と、
前記第1信号線と前記第2信号線とが交差する第1領域に設けられ、前記第1信号線と前記第2信号線によって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含むメモリセルと、
前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とが交差する第2領域に設けられ、前記第1ダミー配線と前記第2ダミー配線とによって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含む第1ダミーセルと、
前記第1、第2信号線に電圧印加可能なデコーダと
を具備し、前記第1、第2ダミー配線の電位は、前記第1ダミーセルの前記整流素子に逆バイアスが生じるように固定される
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記第1ダミー配線及び前記第1信号線に隣接しつつ前記第1方向に沿って形成された第3ダミー配線と、
前記第2ダミー配線及び前記第2信号線に隣接しつつ前記第2方向に沿って形成された第4ダミー配線と、
前記第3ダミー配線と前記第4ダミー配線とが交差する第3領域に設けられ、前記第3ダミー配線と前記第4ダミー配線とによって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含む第2ダミーセルと
を更に備え、前記第3、第4ダミー配線の電位は、前記第1ダミーセルの前記整流素子に逆バイアスが生じるように固定される
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記第1ダミー配線及び前記第1信号線に隣接しつつ前記第1方向に沿って形成された第3ダミー配線と、
前記第2ダミー配線及び前記第2信号線に隣接しつつ前記第2方向に沿って形成された第4ダミー配線と、
前記第3ダミー配線と前記第4ダミー配線とが交差する第3領域に設けられ、前記第3ダミー配線と前記第4ダミー配線とによって電圧が印加される、整流素子と可変抵抗素子とを含む第2ダミーセルと
を更に備え、前記デコーダは、前記第3、第4ダミー配線に対しても電圧印加可能とされ、前記第2ダミーセルの前記整流素子に対して、順バイアス及び逆バイアスを印加可能である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 - 第1の方向に沿って形成された第1信号線と、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って形成された第2信号線と、
前記第1信号と前記第2信号線とが交差する第1領域に設けられ、整流素子と可変抵抗素子とを含むメモリセルを備えたメモリセルアレイと、
前記第1信号線に隣接しつつ前記第1方向に沿って形成され、前記第1信号線よりも線幅の大きな第1ダミー配線と、
前記第1ダミー配線と前記第2信号線とが交差する第2領域に設けられ、前記第1ダミー配線と前記第2信号線によって電圧が印加され、整流素子と可変抵抗素子とを含むダミーセルと、
前記第1信号線と接続される第1コンタクトプラグと、
前記第1ダミー配線と接続される第2コンタクトプラグと、
前記第2信号線及び前記第1ダミー配線に電圧を印加可能とされ、前記ダミーセルの前記整流素子に逆バイアスまたは順バイアスのいずれかが生じるように前記2信号線と前記第1ダミー配線に対して電圧を印加するデコーダと、
前記デコーダから転送された前記電圧を転送可能とされ、第1不純物拡散層に前記第2コンタクトプラグが接続された第1MOSトランジスタと
を具備し、前記第1信号線の電位は、前記第1コンタクトプラグを介して前記メモリセルの前記整流素子に逆バイアスが生じるように固定される
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記第1ダミー配線及び前記第1信号線にそれぞれ隣接し、前記第1方向に沿って形成された第2ダミー配線と、
前記第2ダミー配線に前記電圧を転送可能な第2MOSトランジスタと
を更に具備することを特徴とする請求項4記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP2009297097A JP2011138581A (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 半導体記憶装置 |
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Family Applications (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013200937A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置及びその制御方法 |
US9190146B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-11-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Variable resistance memory system with redundancy lines and shielded bit lines |
JPWO2016181609A1 (ja) * | 2015-05-13 | 2018-03-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
2009
- 2009-12-28 JP JP2009297097A patent/JP2011138581A/ja not_active Withdrawn
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