JP2011132582A - 焼結体スパッタリングターゲット、光記録媒体用薄膜の製造方法及び光記録媒体用薄膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲット。
【選択図】なし
Description
また、大容量化、高速記録化のため高反射率で高熱伝導特性を有する純Ag又はAg合金が反射層材に使用されるようになったが、このような反射層も保護層材であるZnS−SiO2膜と接するように配置されている。したがって、この場合も同様に、ZnS−SiO2膜からの硫黄成分の拡散により、純AgまたはAg合金反射層材も腐食劣化させる要因となり、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こしていた。
以上のようなことから、ZnSの使用すなわち硫黄成分を含有しない透明導電材料が提案されている(特許文献1及び2参照)。しかし、特許文献1は、光学特性及び非晶質性が劣る領域を含む問題があり、また特許文献2は、十分な成膜速度が得られず、非晶質性に劣る領域を含むという問題があった。
1)インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲット
2)相対密度が90%以上で、バルク抵抗率が100Ωcm以下である上記1)記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。
3)インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲットを、O2を1〜10vol%含有するArガス(ガス圧1.0Pa以下)の雰囲気中でスパッタリングすることを特徴とする光記録媒体用薄膜の製造方法
4)波長405nmにおける消衰係数(k)が0.1以下である上記3)記載の光記録媒体用薄膜の製造方法、を提供する。
5)インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある光記録媒体用薄膜
6)波長405nmにおける消衰係数(k)が0.1以下である上記5)記載の光記録媒体用薄膜、を提供する。
また、本発明のターゲットは、スパッタリングによる成膜速度が速く、成膜された薄膜は、記録層との密着性、機械特性に優れ、且つ透過率が高く、非硫化物系で構成することにより、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難い光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)の特性を有する。
これによって、光情報記録媒体の特性を向上させることが可能であり、さらに生産性を大幅に改善することが可能である。
また、透過率を向上させることが出来るため、書換え速度の速い相変化記録媒体や青色レーザー系の相変化記録媒体用保護層材に適する。
本発明のスパッタリングターゲットは、スパッタリング成膜時に、ダスト(発塵)の少ないという大きな特徴を有している。
また、保護膜自体の膜厚を薄くすることも可能となるため、生産性向上、基板加熱防止効果をさらに発揮できる。
また、大容量化、高速記録化のため、高反射率で高熱伝導特性を有する純Ag又はAg合金が反射層材に使用されるようになったが、この隣接する反射層への硫黄成分の拡散も無くなり、同様に反射層材が腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす原因が一掃されるという優れた効果を有する。
焼結前には、原料となる酸化物粉末を800〜1300°Cで仮焼することが望ましい。この仮焼後、ボールミル等で1μm以下に粉砕し、微粉砕スラリーを作製して焼結原料とする。酸化物粉末は粒径が小さいことが望ましいが、特にこの数値に制限する必要はない。目的とするターゲットの品質に応じて変更することが可能である。
さらに、本発明のスパッタリングターゲットの密度向上は、空孔を減少させ結晶粒を微細化し、ターゲットのスパッタ面を均一かつ平滑にすることができるので、スパッタリング時のパーティクルやノジュールを低減させ、さらにターゲットライフも長くすることができるという著しい効果を有し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができる。
4N相当で平均粒径1μmのIn2O3粉末、4N相当で平均粒径2μmのSnO2粉末、3Nで平均粒径5μmのNiO粉末を準備し、表1に示す各種の組成となるように調合し、湿式ボールミル(乾燥ブレンダーを用いても良い)で混合した後、1100°Cで仮焼した。さらに、この仮焼粉を、さらに平均粒径1μm以下になるまで、湿式ボールミルにておよそ20時間処理かけた微粉砕し、スラリーを作製した。
スパッタ膜の膜組成の各金属元素の原子比は、ターゲットのそれとほぼ同等となり、屈折率は2.08〜2.28であった。
また、後述する比較例に比べて、消衰係数又はノジュール個数において、優位性が見られ、いずれも良好な値を示した。
表1に示すように、本願発明の条件とは異なる原料粉の成分及び組成比の原料粉を準備し、これを実施例と同様の条件で、ターゲットを作製し、かつこのターゲットを用いてスパッタ膜を形成した。なお、比較例6のみ、スパッタリング条件を変えた(スパッタガスを変えた条件)とした。この結果を、同様に表1に示す。
比較例1については、焼結体ターゲット及びスパッタ膜のSnの原子比が本願発明から逸脱するものであるが、消衰係数(405nm)が0.12と悪くなった。
比較例2については、焼結体ターゲット及びスパッタ膜のSnの原子比及びNiの原子比が本願発明から逸脱するものであるが、消衰係数(405nm)が0.11と悪くなった。また、比抵抗が100Ωcmより大きい値となり、DCスパッタ出来ないという問題があった(表1の「−」の表示参照)。
比較例4については、焼結体ターゲット及びスパッタ膜のNiの原子比が本願発明から逸脱するものであるが、ノジュールの個数が12.2個/cm2と悪くなった。ノジュールの増加は、異常放電が起こり易くなり、ターゲットに割れが生ずるという問題を生ずるものである。
比較例6については、焼結体ターゲット及びスパッタ膜のInの原子比、Snの原子比、Niの原子比は、いずれも本願発明を満足するものであるが、成膜条件(スパッタガスをArのみにしてスパッタリング実施)を本願発明の条件を有していない場合である。この場合に、消衰係数は0.19と悪くなった。
また、本発明のターゲットは、スパッタリングによる成膜速度が速く、成膜された薄膜は、記録層との密着性、機械特性に優れ、且つ透過率が高く、非硫化物系で構成することにより、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難い光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)の特性を有する。これによって、光情報記録媒体の特性を向上させることが可能であり、生産性を大幅に改善することが可能である。さらに、従来に較べて環境の汚染を防止することが可能であるという大きな効果を有する。
したがって、本願発明は、非晶質性光学薄膜、特に相変化型の光情報記録媒体の保護層を形成するスパッタリングターゲットとして有用である。
Claims (6)
- インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲット。
- 相対密度が90%以上で、バルク抵抗率が100Ωcm以下である請求項1記載の焼結体スパッタリングターゲット。
- インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲットを、O2を1〜10vol%含有するArガス(ガス圧1.0Pa以下)の雰囲気中でスパッタリングすることを特徴とする光記録媒体用薄膜の製造方法。
- 波長405nmにおける消衰係数(k)が0.1以下である請求項3記載の光記録媒体用薄膜の製造方法。
- インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある光記録媒体用薄膜。
- 波長405nmにおける消衰係数(k)が0.1以下である請求項5記載の光記録媒体用薄膜。
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