JP5172868B2 - スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5172868B2 JP5172868B2 JP2010002444A JP2010002444A JP5172868B2 JP 5172868 B2 JP5172868 B2 JP 5172868B2 JP 2010002444 A JP2010002444 A JP 2010002444A JP 2010002444 A JP2010002444 A JP 2010002444A JP 5172868 B2 JP5172868 B2 JP 5172868B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering target
- oxide
- recording medium
- optical information
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 39
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 24
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 12
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001025261 Neoraja caerulea Species 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
Description
しかし、今日Blue-Rayに代表される書き換え型DVDは、さらに書き換え回数の増加、大容量化、高速記録化が強く求められている。
また、大容量化、高速記録化のため高反射率で高熱伝導特性を有する純AgまたはAg合金が反射層材に使用されるようになったが、このような反射層も保護層材であるZnS−SiO2と接するように配置されている。
したがって、この場合も同様に、ZnS−SiO2からの硫黄成分の拡散により、純AgまたはAg合金反射層材も腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす要因となっていた。
上記のような問題を解決するため、保護層材に硫化物を含まない酸化物のみの材料へと置き換え、ZnS−SiO2と同等以上の光学特性、非晶質安定性を有する材料系を見出すことが急務となっていた。
ところが、この高周波スパッタリング(RF)装置は、装置自体が高価であるばかりでなく、スパッタリング効率が悪く、電力消費量が大きく、制御が複雑であり、成膜速度も遅いという多くの欠点がある。
また、成膜速度を上げるため、高電力を加えた場合、基板温度が上昇し、ポリカーボネート製基板の変形を生ずるという問題がある。また、ZnS−SiO2は膜厚が厚いために起因するスループット低下やコスト増も問題となっていた。
しかし、特許文献1は、光学特性及び非晶質性が劣る領域を含む問題があり、また特許文献2は、十分な成膜速度が得られず、非晶質性に劣る領域を含むという問題があった。
また、本材料系を使用することにより、光情報記録媒体の特性改善、生産性の大幅な向上が可能となるという優れた効果を有する。
上記のように、In2O3とZnO又はIn2O3とZnOと3価の酸化物で構成されるZnOを主成分とするホモロガス構造を有する材料は、光学特性及び膜の非晶質性が安定しており、相変化型光記録媒体の保護層材に適している。
本材料系にさらにTa 2 O 5 を適量添加することにより、より非晶質性が安定し、透過率を向上させることが出来るため、書換え速度の速い相変化記録媒体や青色レーザー系の相変化記録媒体用保護層材に適する。
また、本発明のスパッタリングターゲットは、InXMYO3(ZnO)m、m≧1、X+Y=2、M=Al、Gaの何れか1種又は2種、のホモロガス構造を有し、これにTaの元素の酸化物を含有する材料から構成することもできる。これによって、さらに光学特性(屈折率、透過率)を改善することができる。
また、この場合、同様にTaの元素をAとしたとき、それぞれの元素比がそれぞれA/(In+Zn+M+A)=0.06〜0.65、Zn/(In+Zn+M+A)=0.14〜0.76、In/(In+Zn+M+A)=0.005〜0.56、M/(In+Zn+M+A)=0.005〜0.56、で構成される酸化物であることが望ましい。これによって、非晶質安定性を維持し、且つ光学特性(屈折率、透過率)をさらに改善できる。
上記に述べるスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成する光情報記録媒体を提供することができる。さらに、上記スパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されている光情報記録媒体を作製することができる。
また、DCスパッタリング装置は価格が安く、制御が容易であり、電力の消費量も少なくて済むという利点がある。保護膜自体の膜厚を薄くすることも可能となるため、生産性向上、基板加熱防止効果をさらに発揮できる。
また、大容量化、高速記録化のため、高反射率で高熱伝導特性を有する純AgまたはAg合金が反射層材に使用されるようになったが、この隣接する反射層への硫黄成分の拡散も無くなり、同様に反射層材が腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす原因が一掃されるという優れた効果を有する。
本発明のスパッタリングターゲットの密度向上は、空孔を減少させ結晶粒を微細化し、ターゲットのスパッタ面を均一かつ平滑にすることができるので、スパッタリング時のパーティクルやノジュールを低減させ、さらにターゲットライフも長くすることができるという著しい効果を有し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができる。
4N相当で5μm以下のIn2O3粉、Ta2O5粉、Al2O3粉、Ga2O3粉及び4N相当で平均粒径5μm以下のZnO粉を準備し、表1及び表2に示す組成となるように調合して、湿式混合し、乾燥後、1100°Cで仮焼した。さらに、この仮焼粉を平均粒径1μm相当まで湿式微粉砕した後、バインダーを添加してスプレードライヤーで造粒した。
この造粒粉を冷間で加圧成形し、酸素雰囲気、1300°Cで常圧焼結し、この焼結材を機械加工でターゲット形状に仕上げた。
このターゲットの構成成分、組成比(In/(In+Zn+M+A)、A/(In+Zn+M+A)、Zn/(In+Zn+M+A)、M/(In+Zn+M+A))を表1及び表2に示す。
成膜サンプルの透過率(波長633nm)%、屈折率(波長633nm)、非晶質性(成膜サンプルのアニール処理(600°C×30min、Ar雰囲気)を施した、XRD(Cu−Kα、40kV、30mA)による測定における2θ=20−60°の範囲の未成膜ガラス基板に対する最大ピーク強度で表した)、さらにスパッタ方式及び成膜速度(Å/sec)の測定した結果等を、まとめて表1及び表2に示す。
スパッタ膜の透過率は、91〜99%(633nm)に達し、屈折率は2.0〜2.1であり、また特定の結晶ピークは見られず、安定した非晶質性(1.0〜1.4)を有していた。
本実施例のターゲットは、ZnSを使用していないので、硫黄の拡散・汚染による光情報記録媒体の特性劣化は生じない。また、後述する比較例に比べて、成膜サンプルの透過率、屈折率、非晶質の安定性、ターゲット密度、成膜速度がいずれも良好な値を示し、選択される成分組成によっては、DCスパッタも可能であった。
表1及び表2に示すように、本願発明の条件とは異なる原料粉の成分及び組成比の材料、特に比較例3においてはZnS原料粉を準備し、これを実施例と同様の条件で、ターゲットを作製し、かつこのターゲットを用いてスパッタ膜を形成した。
この結果を、同様に表1及び表2に示す。
比較例2はZn酸化物量が少なく、またTa酸化物量が多いために、成膜速度が0.3Å/secと著しく悪い結果となった。
また、特に比較例3はZnSが多く含有されており、硫黄による汚染の危険のある材料であった。
さらに、非晶質性が安定化するとともにターゲットに導電性が付与され、相対密度を90%以上の高密度化によって、材料によっては安定したDCスパッタを可能とする。そして、このDCスパッタリングの特徴である、スパッタの制御性を容易にし、成膜速度を上げ、スパッタリング効率を向上させることができるという著しい効果がある。さらにまた、成膜の際にスパッタ時に発生するパーティクル(発塵)やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、光ディスク保護膜をもつ光記録媒体を低コストで安定して製造できるという著しい効果がある。
Claims (6)
- ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Taの元素の酸化物を含有する材料から成り、Taの元素をAとしたとき、それぞれの元素比がA/(In+Zn+A)=0.06〜0.65、Zn/(In+Zn+A)=0.14〜0.76、In/(In+Zn+A)=0.06〜0.62で構成される酸化物であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- (In2O3)(ZnO)m、m≧1のホモロガス構造を有し、これにTaの元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とする請求項1記載のスパッタリングターゲット。
- InXMYO3(ZnO)m、m≧1、X+Y=2、M=Al、Gaの何れか1種又は2種、のホモロガス構造を有し、これにTaの元素の酸化物を含有する材料から成り、Taの元素をAとしたとき、それぞれの元素比がそれぞれA/(In+Zn+M+A)=0.06〜0.65、Zn/(In+Zn+M+A)=0.14〜0.76、In/(In+Zn+M+A)=0.005〜0.56、M/(In+Zn+M+A)=0.005〜0.56、で構成される酸化物であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- 相対密度が90%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成することを特徴とする光情報記録媒体。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されていることを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010002444A JP5172868B2 (ja) | 2010-01-08 | 2010-01-08 | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010002444A JP5172868B2 (ja) | 2010-01-08 | 2010-01-08 | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004039131A Division JP4628685B2 (ja) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | 光情報記録媒体用スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010116628A JP2010116628A (ja) | 2010-05-27 |
JP5172868B2 true JP5172868B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=42304453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010002444A Expired - Lifetime JP5172868B2 (ja) | 2010-01-08 | 2010-01-08 | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5172868B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014152369A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性酸化物および半導体酸化物膜 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000195101A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Japan Energy Corp | 光ディスク保護膜及び同保護膜形成用スパッタリングタ―ゲット |
KR101514766B1 (ko) * | 2001-07-17 | 2015-05-12 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟 및 투명 도전막 |
-
2010
- 2010-01-08 JP JP2010002444A patent/JP5172868B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010116628A (ja) | 2010-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4828529B2 (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP4699504B2 (ja) | スパッタリングターゲット、光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法 | |
JP4628685B2 (ja) | 光情報記録媒体用スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 | |
JP4711244B2 (ja) | スパッタリングターゲット | |
JP4417913B2 (ja) | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JP4376868B2 (ja) | 光情報記録媒体薄膜製造用スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JP5329537B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び非晶質性光学薄膜 | |
JP4642494B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 | |
JP3909342B2 (ja) | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JP5172868B2 (ja) | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JP5337016B2 (ja) | 焼結体スパッタリングターゲット、光記録媒体用薄膜の製造方法及び光記録媒体用薄膜 | |
JP4494400B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 | |
JP4745319B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
WO2014069367A1 (ja) | 導電性酸化物焼結体及び該導電性酸化物を用いた低屈折率膜 | |
JP4279707B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用保護膜 | |
JP5476636B2 (ja) | スパッタリングターゲットの製造方法及びスパッタリングターゲット | |
JP4260651B2 (ja) | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 | |
JP2005251236A (ja) | スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体用保護膜及びその製造方法 | |
KR100799073B1 (ko) | 스퍼터링 타겟트와 광 정보기록매체 및 그 제조방법 | |
JP5389852B2 (ja) | 光情報記録媒体の保護膜 | |
KR100826454B1 (ko) | 스퍼터링 타겟트와 광 정보기록매체 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100820 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5172868 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |