JP2011106921A - ガスセンサ用基板、ガスセンサ用パッケージ、およびガスセンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】触媒5と検出対象ガスとの接触に起因する触媒反応により発熱反応が生じ、この発熱反応により発生する熱によって発熱抵抗体8の抵抗値が変化し、この抵抗値の変化に基づいて検出対象ガスを検知するガスセンサ1に用いられるガスセンサ用基板7であって、触媒5を担持するための担持部71が設けられた基板72を備え、発熱抵抗体8は、担持部71の近傍の基板72に設けられており、基板72には、触媒5の発熱反応により発生した熱によって発熱抵抗体8の温度を上昇させるための切欠部Cが形成されている。
【選択図】図4
Description
なお、中空Sが真空状態であると、より断熱効果を有することになるので、好ましい。
図6は、変更例1に係るガスセンサ用基板7Aを構成する各層の表裏の状態を示した図である。なお、図6において、図4と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
図7は、変更例2に係るガスセンサ用基板7Bを構成する各層の表裏の状態を示した図である。なお、図7において、図4と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
上述の実施形態に係るガスセンサ1は、接触燃焼式のガスセンサの例について説明したが、これに限定されない。すなわち、半導体式のガスセンサであってもよい。
上述の実施形態に係るガスセンサ1または変更例3に係るガスセンサに、温度ヒューズをさらに付加してもよい。温度ヒューズは、例えば、ガスセンサ用基板7の上面に設けられる。触媒5の発熱反応により発生した熱によって温度ヒューズの温度が上昇すると、温度ヒューズを構成する可容体である配線が溶融断線する。ここで、ガスセンサ1に備えられる図示しない制御部が、当該配線の溶融断線を検知すると、変更例4に係るガスセンサ1は、外部に向けて警報を発する。なお、警報を発することに代えてまたは加えて、変更例4に係るガスセンサ1は、検出対象ガスが放出されているガス管のバルブを閉めるように、図示しないバルブ制御部(バルブを制御する部材)を指示してもよい。もしくは、ガス器具の電源をオフにするように制御してもよい。
上述の実施形態では、ガスセンサ用基板7の形状が、直方体状である例について説明したが、これに限定されない。すなわち、触媒5が担持部71で担持し易いように、担持部71が蓋体6に向かって突出していてもよい。
2 ベース基板
3 枠体
5 触媒
7,7A,7B,7C ガスセンサ用基板
8a 発熱体
71 担持部
72,72a 基板
7a 第1層
7b 第2層
7c 第3層
8 発熱抵抗体
C 切欠部
S 中空
Claims (12)
- 触媒と検出対象ガスとの接触に起因する触媒反応により発熱反応が生じ、この発熱反応により発生する熱によって抵抗体の抵抗値が変化し、この抵抗値の変化に基づいて検出対象ガスを検知するガスセンサに用いられるガスセンサ用基板であって、
前記触媒を担持するための担持部が設けられた基板を備え、
前記抵抗体は、前記担持部の近傍の前記基板に設けられており、
前記基板には、前記触媒の発熱反応により発生した熱によって前記抵抗体の温度を上昇させるための切欠部が形成されていることを特徴とするガスセンサ用基板。 - 触媒と検出対象ガスとの接触に起因する触媒反応により発熱反応が生じ、この発熱反応により発生する熱によって抵抗体の抵抗値が変化し、この抵抗値の変化に基づいて検出対象ガスを検知するガスセンサに用いられるガスセンサ用基板であって、
前記触媒を担持するための担持部が設けられた基板を備え、
前記抵抗体は、前記担持部の近傍の前記基板に設けられており、
前記基板には、前記担持部および前記抵抗体を含む部位よりも外側の部位に、切欠部が形成されていることを特徴とするガスセンサ用基板。 - 金属酸化物半導体を主成分とするガス感応体と、前記ガス感応体を活性化させるための発熱体とを有し、検出対象ガスによって前記ガス感応体の電気的特性が変化し、この電気的特性の変化に基づいて検出対象ガスを検知するガスセンサに用いられるガスセンサ用基板であって、
前記ガス感応体を担持するための担持部が設けられた基板を備え、
前記発熱体は、前記担持部の近傍の前記基板に設けられており、
前記基板には、前記発熱体の熱によって前記ガス感応体の温度を上昇させるための切欠部が形成されていることを特徴とするガスセンサ用基板。 - 金属酸化物半導体を主成分とするガス感応体と、前記ガス感応体を活性化させるための発熱体とを有し、検出対象ガスによって前記ガス感応体の電気的特性が変化し、この電気的特性の変化に基づいて検出対象ガスを検知するガスセンサに用いられるガスセンサ用基板であって、
前記ガス感応体を担持するための担持部が設けられた基板を備え、
前記発熱体は、前記担持部の近傍の前記基板に設けられており、
前記基板には、前記担持部および前記ガス感応体を含む部位よりも外側の部位に、切欠部が形成されていることを特徴とするガスセンサ用基板。 - 前記基板は、第1層と、前記第1層に積層された第2層と、前記第2層に積層された第3層とを少なくとも有し、
前記第3層の表面には、前記担持部が設けられており、かつ前記第3層の裏面には、前記担持部と対向する部位に、前記抵抗体が設けられており、
前記第2層には、前記担持部と対向する部位に、前記切欠部が形成されており、
前記第2層に形成された前記切欠部が前記第1層と前記第3層とによって中空に構成されており、
前記中空の気圧は、外部の気圧よりも低い、請求項1または2に記載のガスセンサ用基板。 - 前記基板は、第1層と、前記第1層に積層された第2層と、前記第2層に積層された第3層とを少なくとも有し、
前記第3層の表面には、前記担持部が設けられており、かつ前記第3層の裏面には、前記担持部と対向する部位に、前記発熱体が設けられており、
前記第2層には、前記担持部と対向する部位に、前記切欠部が形成されており、
前記第2層に形成された前記切欠部が前記第1層と前記第3層とによって中空に構成されており、
前記中空の気圧は、外部の気圧よりも低い、請求項3または4に記載のガスセンサ用基板。 - 前記基板の第2層の厚みは、前記基板の第1層の厚み、および前記基板の第3層の厚みよりも大きい、請求項5または6に記載のガスセンサ用基板。
- 前記切欠部は、前記担持部の両端に形成されている、請求項1〜7のいずれか一項に記載のガスセンサ用基板。
- 前記切欠部は、前記担持部の一部分を除いて当該担持部を取り囲むようにして形成されている、請求項1〜8のいずれか一項に記載のガスセンサ用基板。
- 前記基板は、セラミックからなる、請求項1〜9のいずれか一項に記載のガスセンサ用基板。
- 貫通孔が形成されたベース基板と、
前記貫通孔を取り囲むようにして前記ベース基板の上面に設けられた枠体と、
前記枠体の内側であって、かつ前記貫通孔を跨ぐようにして前記ベース基板の上面に設けられた、請求項1〜10のいずれか一項に記載のガスセンサ用基板と、を備えたガスセンサ用パッケージ。 - 請求項11に記載のガスセンサ用パッケージと、
前記担持部に設けられた触媒またはガス感応体と、を備えたガスセンサ。
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JP2009261101A JP2011106921A (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | ガスセンサ用基板、ガスセンサ用パッケージ、およびガスセンサ |
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