JP2011099875A - 外観検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 外観検査装置を大型化を防止し、かつ検査時間の長くなることを防止することである。
【解決手段】 外観検査装置１は、ベース本体３上に浮上ステージ４と、基板搬送ステージ５とが敷設されており、ガラス基板Ｗをベース本体３の長手方向に沿って一端部から他端部に至るまで搬送可能になっており、マクロ検査部１０と欠陥観察部１１とが搬送方向に沿って配設されており、これら検査部１０，１１間の距離は、ガラス基板Ｗの搬送方向の長さよりも短くなっている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶ディスプレイのフラットパネルディスプレイ等の基板の検査に用いられる外観検査装置に関する

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のようなフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の製造工程では、ＦＰＤ用の基板の外観を検査する工程を有し、この検査工程に使用される外観検査装置としては、一軸ステージに沿って、欠陥検出部と、欠陥レビュー部とを配置したものがある（例えば、特許文献１参照）。欠陥検出部は、検出カメラと、透過照明とから構成され、欠陥レビュー部は、カラーカメラと、透過照明とから構成され、欠陥検出部で検出された欠陥をカラー画像で目視による確認ができるようになっている。

さらに、基板全体を巨視的に観察するマクロ検査と、顕微鏡を用いて比較的に小さい欠陥等の有無を検査するミクロ検査とを併用して外観検査する手法がある。このような外観検査は、２軸ステージ上に基板を載置し、基板を２方向に移動させながら基板表面の巨視的な画像（マクロ画像）を取得し、その後に２軸ステージ上で移動させて、基板をミクロ観察系に搬送し、基板表面の微視的な顕微鏡拡大画像（ミクロ画像）を取得するように構成されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２０００−９６６１号公報 特開２０００−３５３１９号公報

しかしながら、特許文献１に開示されているような外観検査装置は、基板を一方向に搬送して後戻りできないために上流側の欠陥検出部と下流側の欠陥レビュー部との間隔を基板の長さより離すことが必須条件になっている。このため、２つの検査部でステージを共有してはいるが、外観検査装置の大きさは、異なる検査部を備えた２つの検査装置同士を足した大きさになっていた。また、特許文献２に開示されているような場合も、２次元のマクロ照明光を利用してマクロ検査を行っているために、このマクロ観察領域とミクロ観察領域とをオーバーラップさせることができず、特許文献１に開示されている外観検査装置と同様に２つの検査部の間隔を基板の長さより離す必要がある。特に特許文献２の場合には、基板をＸＹの２次元方向に移動させて基板全面の検査を行う構成をとっているため、ミクロ検査部では基板の大きさの約４倍のスペースが必要になるので、被検体である基板が大型化すると、外観検査装置が占める面積が非常に大きくなる。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、外観検査装置の大型化を防止し、かつ検査時間の長くなることを防止することである。

上記の課題を解決する本発明は、大型のガラス基板を載置可能で、前記ガラス基板を第１の方向に搬送する基板搬送部と、前記第１の方向に沿って配設された複数の光学装置とを備え、前記光学装置は、前記ガラス基板表面の画像を撮像する撮像装置と、種類の異なる複数の光学素子とを有し、前記第１の方向に隣り合う２つの前記光学装置は、前記ガラス基板の前記第１の方向の長さよりも短い間隔で配置されていることを特徴とする外観検査装置とした。

本発明によれば、ガラス基板の製造工程に必要な検査項目を実施する光学装置を複数搭載しながらも、各光学装置がその検査領域の一部がオーバーラップするように配置されているので、装置全体としての占有面積を小さくすることができる。さらに、一枚のガラス基板に対して、一方の光学装置で検査を行いながら、他方の検査装置による検査を開始することができるので、検査に要する時間を短縮することができる。

本発明を実施するための最良の形態について以下に説明する。
（第１の実施の形態）
図１に示すように、外観検査装置１は、床面に除振装置２を介して設置されるベース本体３を備え、ベース本体３上には、上向きにエアーを吹き出してＦＰＤ用ガラス基板を浮上させる浮上ステージ４と、浮上ステージ４に沿うＦＰＤ用ガラス基板の縁部を吸着保持して浮上ステージ４の長手方向（Ｘ方向）に、浮上したＦＰＤ用ガラス基板を強制的に搬送させる基板搬送ステージ５とからなる基板搬送部が設けられている。基板搬送ステージ５は、基板搬送ロボット等により搬入されたワークであるガラス基板Ｗをアライメント機構により基準位置に位置決めした状態でガラス基板Ｗの側縁部を吸着保持する。

浮上ステージ４の搬送経路の長手方向に沿って、第１の光学装置であるマクロ検査部１０と、第２の光学装置である欠陥観察部１１とが、順番に配設されている。マクロ検査部１０は、浮上ステージ４を幅方向（Ｙ方向）で跨ぐようにベース本体３に取り付けられた一対の脚部１２ａ，１２ａに水平梁部１２ｂを架橋した門型フレーム１２と、門型フレーム１２の脚部１２ａ間に架け渡された照明部１３と、門型フレーム１２の水平梁部１２ｂから浮上ステージ４の一端部４ａ側に向かって張り出したミラー支持部材１４の先端に固定された光学素子であるミラー１５と、門型フレーム１２の水平梁部１２ｂの略中央に固定された撮像装置であるラインセンサカメラ１６とを有している。照明部１３は、例えば、特開２０００−６５７５３号公報に記載されたような、ライン状の照明光を照射する、例えば、円柱状のロッドレンズと、その両端面に光源を配置したものである。ライン照明光の照射幅は、ガラス基板Ｗ上でラインセンサカメラ１６の撮像領域の長さと略等しく、本実施の形態では、大型のガラス基板Ｗを一度に撮像できるようにガラス基板Ｗの幅に合わせてあり、このライン照明光のガラス基板Ｗに対する反射光の光路上に、ミラー１５が配設され、このミラー１５によりガラス基板Ｗ上で反射した光が浮上ステージ４に対して略平行に折り返されてラインセンサカメラ１６に入射する。

欠陥観察部１１は、浮上ステージ４を幅方向（Ｙ方向）で跨ぐようにベース本体３に取り付けられた一対の脚部２１ａ，２１ａに水平梁部２１ｂを架橋した門型フレーム２１と、門型フレーム２１の水平梁部２１ｂにＹ方向に平行に敷設されたガイドレールに沿って移動自在な顕微鏡２２とを有している。顕微鏡２２は、下方に向けて支持された光学素子である対物レンズ２３と、対物レンズ２３で取り込んだガラス基板Ｗの表面の像を撮像する撮像装置であるカメラ２４とを有する。このカメラ２４の出力は、モニタ２５に接続されている。ここで、両光学装置間のＸ方向の距離は、ガラス基板ＷのＸ方向の長さよりも小さい。この場合の両光学装置間のＸ方向の距離とは、マクロ検査部１０のライン照明光がガラス基板Ｗに照射される検査領域と、欠陥観察部１１の顕微鏡２２による検査領域とのＸ方向の距離に相当する長さである。このように両光学装置が干渉しない程度に近接して配置することは、外観検査装置の小型化を図る上で好ましい。

なお、この外観検査装置１の制御を行うコンピュータ１７は、各ステージ４，５の制御を行うステージ制御部２６と、マクロ検査部１０と、欠陥観察部１１とに接続されており、観察者の操作を受け付ける操作部１７ａと、モニタ２７とを備えている。コンピュータ１７には、マクロ検査部１０のラインセンサカメラ１６で取得したライン状の画像データから欠陥を抽出すると共に、各画像データを順番に足し合わせてガラス基板Ｗの検査範囲全体の画像を作成したり、欠陥観察部１１の顕微鏡２２で取り込まれた欠陥画像に対して
予め登録されている設計パターンとのパターンマッチングを行って欠陥を抽出したりする画像処理部が設けられている。なお、モニタ２５，２７に欠陥観察部１１のミクロ画像（顕微鏡画像）を表示させて、目視により欠陥を判定することができる。

また、ガラス基板Ｗは、ガラス製の平面基板が用いられ、このガラス基板Ｗ上に配線や、フィルタなどのパターンが半導体技術を用いて作製される。ガラス基板Ｗの欠陥とは、パターンの一部が切れていたり、パターン同士が短絡したり、異物が付着している微視的なものと、フィルタの膜や、製造過程で一時的に塗布されるレジスト膜の膜ムラが発生しているような巨視的なものとがあげられる。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、基板搬送ステージ５をベース本体３の一端部側に待機させ、浮上ステージ４からエアーを吹き出させてから、不図示の基板搬送ロボットによって検査対象となるガラス基板Ｗを浮上ステージ４上に搬入する。このガラス基板Ｗを浮上させた状態でアライメント機構により基準位置に位置決めする。位置決めされたガラス基板Ｗの一辺を基板搬送ステージ５で吸着保持した後に、基板搬送ステージ５をＸ方向に等速度で移動させる。このガラス基板Ｗに対して、マクロ検査部１０の照明光が照射され、その反射光がミラー１５を介してラインセンサカメラ１６により撮像される。基板搬送ステージ５の移動に伴って基板表面がＸ方向に沿って、ガラス基板Ｗの後端部分まで撮像されると、コンピュータ１７によってガラス基板Ｗ全面のマクロ画像が作成され、モニタ２７に出力される。

そして、ラインセンサカメラ１６から出力される１ライン分の画像データに基づいて隣接する３点以上の画像を比較して欠陥を抽出し、その座標を演算して登録すると共に、モニタ２７に表示されているマクロ画像に欠陥の存在を示す強調表示などを行う。なお、欠陥の検出は、観察者がモニタ２７を見ながら目視で行い、操作部を操作して登録しても良い。

ここで、各検査部１０，１１間の距離は、ガラス基板ＷのＸ方向の長さよりも短いので、マクロ検査部１０による画像取得が終了すると、ガラス基板Ｗが欠陥観察部１１の測定領域に進入する。このガラス基板Ｗを基板搬送ステージ５により、欠陥観察部１１の検査開始位置まで戻す。この後、欠陥観察部１１は、マクロ検査部１０で検出された各欠陥の位置データに基づいて基板搬送ステージ５と顕微鏡２２を相対的に２次元移動させて、検査対象となった欠陥上に顕微鏡２２の対物レンズ２３を位置決めする。この欠陥を顕微鏡２２で拡大してカメラ２４で撮像する。具体的には、コンピュータ１７から欠陥と検出された位置の座標を取得し、そのＹ座標に合わせて顕微鏡２２をＹ方向にスライドさせ、ガラス基板ＷのＸ座標に一致したところで基板搬送ステージ５を止めて欠陥に顕微鏡２２を位置合わせする。この欠陥を顕微鏡２２で拡大し、顕微鏡２２の視野中心に欠陥を合わせて、検査者がボタン操作や、マウス操作を行って、モニタ２５又はモニタ２７に表示されたマクロ画像上で、欠陥を指定したら、指定した欠陥の位置データに基づいて基板搬送ステージ５と、顕微鏡２２をＸＹ方向に移動制御し、指定された欠陥に顕微鏡２２を位置合わせして拡大画像を取得する。そして、全てのマクロ観察、及びミクロ観察が終了したら、ガラス基板Ｗを搬出し、検査を終了する。

この実施の形態によれば、マクロ検査部１０と、欠陥観察部１１とをガラス基板Ｗの移動経路（搬送路）に沿って配設し、かつ両光学装置間の距離をガラス基板Ｗの移動方向の長さよりも短く設定したので、外観検査装置１の装置面積を小さくすることができる。また、マクロ検査部１０でマクロ画像を取得した後、同じガラス基板Ｗを欠陥観察部１１の検査開始位置（基準位置）に戻すことができ、ガラス基板Ｗを載せ換える時間とアライメントをし直す時間が不要になるため、別々の検査装置で検査を行う場合に比べて検査時間を短くすることができる。

なお、顕微鏡２２のカメラ２４が高解像度の静止画を取り込むことが可能で、マクロ検査部１０のラインセンサカメラ１６により取り込まれた画像データの処理と、このマクロ検査部１０で抽出された欠陥位置に顕微鏡２２を位置決めする処理とをガラス基板Ｗが両光学装置間の距離だけ搬送される時間内で処理することができれば、ガラス基板Ｗを一方向に一定速度で搬送しながら、同時に検査を行うようにしても良い。この場合、マクロ検査部１０で抽出された欠陥の座標データに基づいて、そのＹ座標データにより顕微鏡２２をＹ方向に移動させ、基板搬送ステージ５がマクロ検査部１０を欠陥を検出した位置から両光学装置間の距離分だけガラス基板Ｗが搬送された位置で顕微鏡２２で取り込まれた拡大像を撮像することになる。このようにすれば、マクロ検査部１０でマクロ画像を取り込んでいる間に欠陥観察部１１でミクロ画像を取り込むことができるため、さらに検査時間を短縮できる。

また、図２に示す外観検査装置１のように、第２の検査部として、門型フレーム２１の水平梁部２１ｂに複数のミクロ検査用カメラ２４ａをＹ方向に一列に配列した構成としても良い。これらミクロ検査用カメラ２４ａは、その全てがモニタ２５に接続されており、個々に取得した拡大像を表示できるようになっている。なお、ミクロ検査用カメラ２４ａの数は、４つに限定されない。また、ミクロ検査用カメラ２４ａは、Ｘ方向に複数列千鳥配置しても良い。顕微鏡２２が複数あっても全ての検査領域に対応できない場合には、ミクロ検査用カメラ２４ａを、Ｙ方向にスライド自在に門型フレーム２１に取り付けることも可能である。この外観検査装置１では、二つの検査部１０，２８が、ガラス基板Ｗの搬送方向に、ガラス基板Ｗの長さ以下の間隔で配置されているので、前記と同様の効果が得られる。さらに、ミクロ検査部２８が複数のミクロ検査用カメラ２４ａを有するので、マクロ欠陥の他にミクロ欠陥を自動的に取得できる。

（第２の実施の形態）
図３に示す外観検査装置１は、第１の光学装置として図１と同様の欠陥観察部１１を備え、第２の光学装置として図２と同様のミクロ検査部２８を備えている。欠陥観察部１１は、門型フレーム１２の水平梁部１２ｂに顕微鏡２２がＹ方向にスライド自在に取り付けられている。欠陥観察部１１とミクロ検査部２８との間の距離、及びその他の構成は、前記の外観検査装置１と同じである。

この外観検査装置１では、第２の光学装置であるミクロ検査部２８側からガラス基板Ｗを搬入し、アライメント機構により位置決めされたガラス基板Ｗを基板搬送ステージ５により、ミクロ検査部２８側から欠陥観察部１１側に搬送させ、最初にミクロ検査部２８において取得されたミクロ画像データをコンピュータ１７で画像処理し、ガラス基板Ｗ全面のミクロ欠陥を自動取得する。この際に、ミクロ検査用カメラ２４ａは、Ｙ方向に適宜往復移動する。ミクロ検査部２８で自動的に取得されたガラス基板Ｗ上のミクロ欠陥の大きさ、欠陥位置、座標、欠陥の種類などのミクロ欠陥データは、コンピュータ１７の記録部に記録される。ミクロ検査部２８で取得される各ミクロ欠陥の位置座標データに基づいて基板搬送ステージ５と欠陥観察部１１の顕微鏡２２をＸＹ方向の２次元に移動させて、欠陥位置に顕微鏡２２を合わせ、顕微鏡２２で拡大された欠陥画像をカメラ２４で撮像する。

この実施の形態では、ミクロ検査部２８でガラス基板Ｗ上の欠陥の有無し、この検査結果に基づいて欠陥位置に欠陥観察部１１の顕微鏡２２を自動的に合わせて拡大像を取得することができる。さらに、２つの光学装置間の距離がガラス基板Ｗの長さより短いので、前記第１の実施の形態と道央に外観検査装置の小型化が図れると共に、検査時間の短縮化が図れる。

（第３の実施の形態）
図４に示す外観検査装置は、第２の光学装置としてミクロ検査部２８を備え、第２の実施の形態（図３）の第１の光学装置を欠陥修正部４０に置き換えた以外は、第２の実施の形態と同じ構成であり、同一の構成に同一符号を付して説明を省略する。
欠陥修正部４０は、門型フレーム１２の水平梁部１２ｂに顕微鏡４２がＹ方向にスライド自在に取り付けられている。顕微鏡４２は、鏡筒４１と、鏡筒４１の下面側に設けられた対物レンズ４３と、鏡筒４１の上面側に設けられたＣＣＤ（Charge Coupled Devices）などの撮像装置であるカメラ４４とから構成されている。この鏡筒４１にビームスプリッタを介して対物レンズ４３の共通光路上にレーザ修正ヘッド４５が光学的に接続されている。カメラ４４は、モニタ４６に接続されており、レーザ修正ヘッド４５は、コンピュータ１７の制御に基づいて所定波長のレーザ光を出力するように構成されている。なお、対物レンズ４３を通して基板表面の拡大像と、基板表面に対するレーザ照射とを行えるように、鏡筒４１内にはビームスプリッタや、ミラーなどの光路偏向素子が設けられている。

外観検査を行う際には、ガラス基板Ｗを移動させ、ミクロ検査部２８で基板表面のミクロ欠陥を自動的に取得し、基板上の欠陥の座標をコンピュータ１７に登録する。このように登録された欠陥データに基づいて顕微鏡４２と基板搬送ステージ５をＸＹ方向に相対的に移動させて、欠陥位置に対物レンズ４３を合わせる。顕微鏡４２で拡大された欠陥像をカメラ４４で撮像し、この欠陥像をモニタ４６に表示させて修正するか否かを判定し、修正が必要であると判定された欠陥に対してはレーザ修正ヘッド４５のレーザ光源からレーザ光を照射して修正を行う。具体的には、欠陥修正部４０は、コンピュータ１７から欠陥の座標を取得し、そのＹ座標に合致する位置に顕微鏡４２を移動させる。そして、ガラス基板Ｗの欠陥に対物レンズ４３を一致させ、その場所の拡大像を対物レンズ４３、及びカメラ４４を介して取得して、モニタ４６に表示させる。検査者がモニタ４６の像から欠陥の種類や、大きさ、位置を再度確認し、修正が必要か否かを判断する。修正が必要と判断した場合には、修正箇所を顕微鏡４２の視野中心に合わせ、スリットを介してレーザ光を照射する領域の大きさに成形し、レーザ修正ヘッド４５からレーザ光を出射させ、対物レンズ４３で集光しつつ基板表面に照射する。この実施の形態では、ミクロ検査部２８によって欠陥を抽出することができ、欠陥に対しては適宜レーザ修正を行うことができる。ミクロ検査部２８と欠陥修正部４０とからなる２つの光学装置間の距離が、ガラス基板Ｗの長さより短いので、前記の第１、第２の実施の形態と同様の効果が得られる。

（第４の実施の形態）
図５に示す外観検査装置１は、第３の実施の形態（図４）の第１の光学装置と第２の光学装置との間に第１の実施の形態（図１）と同様のマクロ検査部１０を配置した構成以外は、第３の実施の形態と同じ構成であり、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。

ガラス基板ＷのＸ方向に沿って、第１の光学装置である欠陥修正部４０と、第３の光学装置であるマクロ検査部１０と、第２の光学装置であるミクロ検査部２８とが順番に配設されている。隣り合う光学装置間のＸ方向の距離は、ガラス基板ＷのＸ方向の長さよりも短くなっている。この実施の形態では、一台の装置でガラス基板Ｗのミクロ観察と、マクロ観察と、レーザを用いた修正とを行うことができ、各部１０，２８，４０が近接配置されているので、外観検査装置１を小型化でき、かつ検査時間を短縮できる。欠陥修正部４０と、マクロ検査部１０とが、ガラス基板Ｗの移動方向に前後に配設されているのは、両部１０，４０は、ガラス基板Ｗの全面に対して処理を行うために、前後に並んで配置した方が検査時間を短縮できるからである。

なお、本発明は前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、各光学装置は、Ｘ方向に隣り合う２つの光学装置において、一端部側の光学装
置は一端部側に光学素子、及び撮像装置を配置し、他端部側の光学装置は他端部側に光学素子、及び撮像装置を配置しても良い。さらに、Ｘ方向の隣り合う２つの光学装置が、門型フレームを共有し、門型フレームの一端部側に一方の光学装置の光学素子、及び撮像装置を配置し、門型フレームの他端部側に他方の光学装置の光学素子、及び撮像装置を配置しても良い。このように構成すると、光学装置間の距離をさらに短くすることができる。

マクロ検査部１０は、照明部１３を門型フレーム１２に回動自在に支持しても良い。このようにすると、正反射による干渉像と、照明光の入射角度をラインセンサカメラ１６からみて正反射となる角度からずらしたときに得られる回折像とを取得できる。例えば、ガラス基板Ｗをマクロ検査部１０に対して往復移動させ、往路で回折像を取得し、復路で干渉像を取得することが可能になる。
また、各光学装置の数、組み合わせ、配置順番に任意のものを選択することができる。この場合に、欠陥観察部１１に分光装置を取り付け、分光分析が行えるようにしても良い。さらに、ガラス基板Ｗの検査対象がカラーフィルタである場合には、カラーフィルタの色を検査する分光装置付きの欠陥観察部１１と、欠陥を検査する欠陥観察部１１，２８と、ムラを検査するマクロ検査部１０とをガラス基板Ｗの移動経路に沿って適宜配設すると良い。

図６に示すように、基板搬送部は、ガラス基板Ｗを位置決めして保持し、Ｘ方向に往復移動自在なステージ５０でも良い。このステージ５０は、ベース本体３上にＸ方向に平行に敷設されたガイドレール５１に沿って往復移動するように構成されている。

本発明の実施の形態に係る外観検査装置の構成を示す図である。 マクロ検査部とミクロ検査部とを備える外観検査装置を示す図である。 欠陥検査部とミクロ検査部とを備える外観検査装置を示す図である。 欠陥修正部とミクロ検査部とを備える外観検査装置を示す図である。 欠陥修正部とマクロ検査部とミクロ検査部とを備える外観検査装置を示す図である。 基板搬送部の一例を示す図である。

１ 外観検査装置
３ ベース本体
４ 浮上ステージ（基板搬送部）
５ 吸着保持ステージ（基板搬送部）
１０ マクロ検査部（光学装置）
１１，２８ ミクロ検査部（光学装置）
１３ 照明部
１５ ミラー（光学素子）
１６ カメラ（撮像装置）
２２，４２ 顕微鏡
２３，４３ 対物レンズ（光学素子）
２４，４４ カメラ（撮像装置）
４０ 欠陥修正装置（光学装置）
５０ ステージ（基板搬送部）
Ｗ ガラス基板
Ｘ 第１の方向
Ｙ 第２の方向

Claims (4)

1. ガラス基板を搬送路に沿う第１の方向に搬送する基板搬送部と、
   前記基板の搬送路の幅方向を跨ぐように架橋される第１及び第２の門型フレームと、
   前記第１の門型フレームに設けられ、前記第１の方向と直交する第２の方向に平行なライン照明光を前記基板に照射する照明部と、前記基板で反射する前記ライン照明光を撮像してマクロ画像を取得するラインセンサカメラとを有するマクロ検査部と、
   前記第２の門型フレームに設けられ、前記第２の方向に複数並設したミクロ検査用カメラによって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得する欠陥観察部と、
   を備え、
   前記第１及び第２の門型フレームにそれぞれ設けられる前記マクロ検査部と欠陥観察部とが、前記基板の第１の方向の長さよりも短い間隔で配置されることを特徴とする外観検査装置。
2. ガラス基板を搬送路に沿う第１の方向に搬送する基板搬送部と、
   前記基板の搬送路の幅方向を跨ぐように架橋される第１及び第２の門型フレームと、
   前記第１の門型フレームに設けられ、前記第１の方向と直交する第２の方向に平行なライン照明光を前記基板に照射する照明部と、前記基板で反射する前記ライン照明光を撮像してマクロ画像を取得するラインセンサカメラとを有するマクロ検査部と、
   前記第２の門型フレームに設けられ、前記第２の方向に移動可能な顕微鏡によって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得する欠陥観察部と、
   を備え、
   前記第１及び第２の門型フレームにそれぞれ設けられる前記マクロ検査部と欠陥観察部とが、前記基板の第１の方向の長さよりも短い間隔で配置されることを特徴とする外観検査装置。
3. ガラス基板を搬送路に沿う第１の方向に搬送する基板搬送部と、
   前記基板の搬送路の幅方向を跨ぐように架橋される第１及び第２の門型フレームと、
   前記第１の門型フレームに設けられ、前記第１の方向と直交する第２の方向に複数並設したミクロ検査用カメラによって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得する第１の欠陥観察部と、
   前記第２の門型フレームに設けられ、前記第２の方向に移動可能な顕微鏡によって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得する第２の欠陥観察部と、
   を備え、
   前記第１及び第２の門型フレームにそれぞれ設けられる前記第１の欠陥観察部と前記第２の欠陥観察部とが、前記基板の第１の方向の長さよりも短い間隔で配置されることを特徴とする外観検査装置。
4. ガラス基板を搬送路に沿う第１の方向に搬送する基板搬送部と、
   前記基板の搬送路の幅方向を跨ぐように架橋される第１及び第２の門型フレームと、
   前記第１の門型フレームに設けられ、前記第１の方向と直交する第２の方向に複数並設したミクロ検査用カメラによって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得する欠陥観察部と、
   前記第２の門型フレームに設けられ、前記第２の方向に移動可能な顕微鏡によって前記基板上の欠陥を撮像して拡大画像を取得するとともに前記欠陥に対してレーザ光を照射する欠陥修正部と、
   を備え、
   前記第１及び第２の門型フレームにそれぞれ設けられる前記欠陥観察部と前記欠陥修正部とが、前記基板の第１の方向の長さよりも短い間隔で配置されることを特徴とする外観検査装置。

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