JP2011096572A - X線管 - Google Patents

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Abstract

【課題】信頼性の高いX線管を提供することを目的とする。
【解決手段】 陰極10と、X線を放出する陽極ターゲット20と、陽極ターゲットと接続され管軸TAに沿った方向に延出し、第1金属部材31と、第1金属部材に接続され管軸に沿った方向に延出し、管軸に垂直な方向に陰極を囲み第1金属部材の熱膨張率より低い熱膨張率を有する第2金属部材32と、第2金属部材および陰極と接続され、環状に形成され電気絶縁性を示すセラミック部材33と、を有し、陰極および陽極ターゲットを収容する真空外囲器30と、第1金属部材と接するように配置され、管軸に垂直な方向に第2金属部材を囲み第2金属部材の熱伝導率より高い熱伝導率を有するアダプタ40と、セラミック部材とアダプタとの間に配置された伝熱媒体50と、第1金属部材と接続され、冷却路を形成する冷却機構60と、を備えている。
【選択図】 図1

Description

この発明は、X線を発生するX線管に関する。
一般に、X線管を備えたX線管装置は、医療診断システムや工業診断システム等に用いられている。X線管は、陰極と、陽極ターゲットと、陰極および陽極ターゲットを収容した真空外囲器と、を有している。陰極および陽極ターゲット間に高電圧を印加することにより、陰極側から放出された電子が陽極ターゲットに衝突し、陽極ターゲットからX線が放射される。
陰極から放出された電子が陽極ターゲットに衝突すると、陽極ターゲットは高温になる。高電圧プラグを陰極に接続し陰極と陽極ターゲットとの間に高電圧を印加する場合において、陰極の熱が高電圧プラグに伝わり、高電圧プラグの絶縁部分が変形し、絶縁破壊が生じる恐れがある。
高電圧コネクタの冷却を目的として、例えば、特許文献1によれば、高電圧コネクタがX線管の真空ケーシングに設けられた高電圧接続部に被せ嵌めるために設けられている形式のものにおいて冷却剤のための冷却通路が設けられている構成が開示されている。
また、例えば、特許文献2によれば、高圧ケーブル端部および高電圧端子を収納し、内部に充填された絶縁封止部材により絶縁して保持するハウジングと、ハウジング内壁に固定され、高電圧端子に熱的に接触し絶縁封止部材より熱伝導率の大きい高熱伝導絶縁部材と、を有した構成が開示され、高熱伝導絶縁部材が陽極から高電圧端子を経て伝達される熱をハウジングに放熱する技術が開示されている。
また、例えば、特許文献3によれば、外囲器から突出する支持体の他端側でかつ外囲器と給電部との間を管容器に接続する接続部により、支持体を保持するとともに絶縁材に蓄積された熱をこれに接触する支持体を介して放熱し、支持体の熱を絶縁材や管容器に伝達して管容器から放熱しやすくし、支持体の熱の放出特性を向上させ、給電部の温度を低減させる技術が開示されている。
さらに、例えば、特許文献4によれば、X線管の高電圧絶縁体を包囲するポッティング材料を熱伝導性の高い材料で形成し、ポッティング材料の外面を冷却させ、X線管を低温で作動させる技術が開示されている。
特開平8−96889号公報 特開2008−293868号公報 特開2007−42434号公報 特開2001−504988号公報
上記のように、陽極ターゲットは高温になるため、陽極ターゲットを直接または間接的に冷却する必要がある。また、陰極に高電圧を印加する場合、陰極は高温になるため、陽極ターゲットと同様に、陰極を直接または間接的に冷却する必要がある。
しかしながら、この場合、陽極ターゲットと、陰極とをそれぞれ独立して冷却する必要があり、冷却に複雑な機構が必要であるという問題がある。このため、簡単な構造で陽極ターゲットと、陰極とに生じる熱を効率よく外部に放出することのできる技術が求められている。
この発明の目的は、陰極および陽極ターゲットに生じる熱を効率よく外部に放出させることが可能な信頼性の高いX線管を提供することにある。
この発明の一態様によれば、電子を放出する陰極と、前記陰極から放出される電子が入射されることによりX線を放出する陽極ターゲットと、前記陽極ターゲットと接続され管軸に沿った方向に延出し、X線放射窓を有する第1金属部材と、前記第1金属部材に接続され管軸に沿った方向に延出し、前記管軸に垂直な方向に前記陰極を囲み前記第1金属部材の熱膨張率より低い熱膨張率を有する第2金属部材と、前記第2金属部材および前記陰極と接続され、前記陰極から前記管軸に垂直な方向に突出するように環状に形成され電気絶縁性を示すセラミック部材と、を有し、前記陰極および前記陽極ターゲットを収容する真空外囲器と、前記第1金属部材と接するように配置され、前記管軸に垂直な方向に前記第2金属部材を囲み前記第2金属部材の熱伝導率より高い熱伝導率を有するアダプタと、前記セラミック部材と前記アダプタとの間に配置された伝熱媒体と、前記第1金属部材と接続され、前記陽極ターゲットから放出される熱が直接または第1金属部材を介して間接的に伝導され、前記陰極から放出される熱が前記セラミック、前記伝熱媒体、前記アダプタおよび前記第1金属部材を介して間接的に伝導される冷却液が流れる冷却路を形成する冷却機構と、を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、陰極および陽極ターゲットに生じる熱を効率よく外部に放出させることが可能な信頼性の高いX線管を提供することができる。
図1は、この発明の一実施の形態に係るX線管の構成を概略的に示す断面図であり、X線管に接続される高電圧プラグを併せて示す分解断面図である。 図2は、図1に示したX線管の上面図である。 図3は、この発明の一実施の形態に係るX線管の他の構成を概略的に示す断面図である。 図4は、図1に示したA領域の拡大断面図である。
以下、この発明の一実施の形態に係るX線管について図面を参照して説明する。
図1に示すように、X線管1は、陰極10、陽極ターゲット20、陰極10および陽極ターゲット20を収納した真空外囲器30を有している。
陰極10は、電子放出源としてのフィラメント11と、集束電極12と、を有している。フィラメント11は、陽極ターゲット20に衝突される電子(熱電子)を放出する。集束電極12は、フィラメント11から放出される電子の軌道を取り囲むように配置され、フィラメント11から放出される電子を集束する。陰極10に、相対的に負の高電圧が印加されている。フィラメント11には、フィラメント電流が与えられている。
陽極ターゲット20は、陰極10と対向するように配置されている。陽極ターゲット20は、例えばモリブデン(Mo)や、タングステン(W)によって形成されている。陽極ターゲット20は、陰極10と対向する側に位置したターゲット層20Lを有している。ターゲット層20Lには、電子が衝突される。陽極ターゲット20に、相対的に正の電圧が印加される。陽極ターゲット20と陰極10との間に電位差が生じると、陰極10から放出された電子は加速集束され陽極ターゲット20に衝突するため、陽極ターゲット20はX線を放出する。
真空外囲器30は、陰極10および陽極ターゲット20を収容している。真空外囲器30は、密閉されている。真空外囲器30の内部は、真空状態に維持されている。つまり、真空外囲器30は、陰極10および陽極ターゲット20を真空状態に保持している。真空外囲器30は、第1金属部材31と、第2金属部材32と、セラミック部材33と、を有している。
第1金属部材31は、管軸TAを中心軸とする筒状に形成されており、管軸TAに沿った方向に延出し、陰極10および陽極ターゲット20を囲むように配置されている。詳しくは、第1金属部材31は、筒部31aと、筒部31aの一端に接続され、開口を有した板部31b、筒部31aの他端に接続され環部31cと、を有し、これらが一体となって形成されている。真空側において、板部31bには、開口を塞ぐように陽極ターゲット20が接続されている。第1金属部材は、X線放射窓31Wを有している。X線放射窓31Wは、筒部31aの開口を塞ぐように設けられている。X線放射窓31Wは、陽極ターゲット20から放出されるX線を透過して外部に放出させる。
第2金属部材32は、管軸TAを中心とする筒状に形成され、管軸TAに沿った方向に延出している。第2金属部材は、第1金属部材と同軸的に設けられている。第2金属部材32は、第1金属部材31の環部31cに接続されている。第2金属部材32において、環部31cに接続される箇所が第2金属部材32の側面または内面でないことはいうまでもない。第2金属部材32は、管軸TAに垂直な方向に陰極10を囲んでいる。第2金属部材32の厚みは小さい。第2金属部材32の厚みは、第2金属部材32の管軸TAに沿った方向の長さより短い。第2金属部材32は、後述する低熱膨張率を有するセラミック部材33と接合するため、第1金属部材31の熱膨張率より低い熱膨張率を有する材料、例えばコバールなど金属によって形成されている。
セラミック部材33は、第2金属部材32の一端を塞ぐように配置され、第2金属部材32および陰極10と気密に接続されている。セラミック部材33は、電気絶縁性を示すものである。セラミック部材33は、陰極10の外面から管軸TAに垂直な方向に突出するように形成されている。セラミック部材の真空側の面と反対側の面は、平坦である。
陰極10は、さらに第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bを有している。第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bは、それぞれフィラメント11および集束電極12に接続されている。第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bは、外面がセラミック部材33に接続され、真空外囲器30の外側まで延出している。第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bと、第2金属部材32とは、セラミック部材33によって電気的に絶縁されている。つまり、セラミック部材33は、陰極10と、第2金属部材32に接続された陽極ターゲット20とを電気的に絶縁する高電圧絶縁部材である。
X線管は、さらに、アダプタ40、伝熱媒体50を備えている。
アダプタ40は、第1金属部材31の環部31c上に配置されている。アダプタ40は、管軸TAに垂直な方向に、第2金属部材32を囲んでいる。ここでは、アダプタ40は、枠状に形成され、管軸TAに沿った方向に延出している。アダプタ40の一端は、第1金属部材31の環部31cと接する。アダプタ40を固定するため、アダプタ40は、例えば環部31cにろう付あるいはねじ止めされている。図2示すように、アダプタ40の他端には、陰極10と陽極ターゲット20に高電圧を印加する高電圧プラグを固定する固定用ネジ穴40Aが設けられている。アダプタ40は、第2金属部材32の熱伝導率より高い熱伝導率を有する。アダプタ40は、例えば銅(Au)、真鍮、アルミニウム(Al)等の金属によって形成されている。
伝熱媒体50は、セラミック部材33とアダプタ40との間に配置され、第2金属部材32およびアダプタ40と接している。伝熱媒体50は、高熱伝導率を有する例えば銅(Au)によって形成されている。なお、伝熱媒体50は、アダプタ40および第2金属部材32との接触を確実にするため、金属でメッシュ状またはバネ性を有する形状に形成されることが望ましい。
X線管1は、さらに陽極ターゲット20を冷却する冷却機構60を備えている。冷却機構60は、一部が真空外囲器30の第1金属部材31と接続されている。冷却機構60は、冷却液が流れる冷却路60Pを形成している。ここでは、冷却液には、陽極ターゲット20から放出される熱が直接的に伝達される。また、冷却液には、陰極から放出される熱がセラミック部材33、第2金属部材52、伝熱媒体50、アダプタ40および第1金属部材31を介して間接的に伝達される。冷却液は、例えば、純水、水溶液、絶縁油である。純水および水溶液は、絶縁油と比較して、熱伝導率が高いため、冷却水として純水および水溶液を用いると、陽極ターゲット20をより冷却することができる。
高電圧プラグ70は、陰極10に高電圧を与えるためのものである。高電圧プラグ70は、蓋部71と、蓋部71に充填されたエポキシ樹脂72と、エポキシ樹脂72とセラミック部材33との間に位置した電気絶縁材としてのシリコーンプレート73と、高電圧ケーブル74を有している。シリコーンプレート73は、開口部を有している。
高電圧ケーブル74は、エポキシ樹脂72で覆われ、第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13とB対向している。第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bは、シリコーンプレート73の開口部を介して高電圧ケーブル74に接続されている。シリコーンプレート73は、セラミック部材33に密着されている。
X線管1の動作時には、X線管1に高電圧プラグが接続される。高電圧プラグ70は、アダプタ40に設けられた固定用ネジ穴40Aおよび図示しないネジを用いることによって固定される。陽極ターゲット20には、相対的に正の電圧が印加される。ここでは、陽極ターゲット20は、接地されている。また、高電圧プラグ70は、第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bに接続され、第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bを介して、フィラメント11および集束電極12に相対的に負の高電圧が印加される。これにより、陰極10と陽極ターゲット20との間に高電圧が印加され、フィラメント11から放出された電子が陽極ターゲット20に衝突し、X線が発生し、X線放射窓31WからX線が放出される。
X線管1の動作時において、電子が陽極ターゲット20に衝突することによって生じる熱は、陽極ターゲット20が冷却液と接しているため、冷却液を媒介として、X線管1の外部へ放出される。
一方、陰極10に負の高電圧を印加されることによって発生する熱は、第1陰極導入端子13Aおよび第2陰極導入端子13Bと接続されたセラミック部材33に伝達される。セラミック部材33に伝達された熱は、第2金属部材32がコバールなどの金属によって形成されているため、第2金属部材32を介して第1金属部材31に十分に伝達できない。しかし、伝熱媒体50は、高い熱伝導率を有するため、陰極10からセラミック部材33に伝達された熱は、第2金属部材32、伝熱媒体50およびアダプタ40を介して、第1金属部材31に伝達される。第1金属部材31に伝達された熱は、冷却液を媒介として、X線管1の外部へ放出される。つまり、陰極10で発生した熱は、セラミック部材33、第2金属部材32、伝熱媒体50、アダプタ40、第1金属部材31を介して、冷却機構60の冷却液を媒介として、X線管1の外部へ放出される。
これにより、X線管1と高電圧プラグとの接続部を冷却することが可能となり、X線管1と高電圧プラグとの高電圧接続の安定化を確保することができる。以上説明したように、本実施形態において、信頼性の高いX線管1を得ることができる。
また、本実施形態において、陽極ターゲット20を冷却する冷却機構60の冷却路60Pを陰極10まで引き伸ばすことなく、陰極10で発生した熱を放熱することができる。つまり、X線管1の大きさを変えることなく、1つの冷却機構60により、陰極10および陽極ターゲット20に生じる熱を外部に効率よく放出することができる。
ここでは、伝熱媒体50が第2金属部材32と接するように配置されている例について説明したが、この例に限らず、図4に示すように、伝熱媒体50は、セラミック部材33に接するように配置されていてもよい。このとき、第2金属部材32は、セラミック部材33と密接されているが、セラミック部材33と伝熱媒体50との間に介在していないため、陰極10で発生した熱を効率良く放熱することができる。
ここでは、真空外囲器30の第1金属部材31が略筒状に形成され、陽極ターゲット20と接続されているが、第1金属部材は、筒状に形成されていなくてもよく、種々変形可能である。板部31bに形成された開口は閉塞されていてもよい。このとき、真空側の第1金属部材31の板部31b上に陽極ターゲット20を配置すればよい。これにより、陽極ターゲット20に生じる熱は、第1金属部材31(板部31b)を介して冷却液に伝導されるため、上記実施形態と同様の効果が得られる。
また、ここでは、真空外囲器30の第1金属部材31が1つのX線放射窓31Wを有している例について説明したが、この例に限らず、複数のX線放射窓31Wを有していてもよい。複数のX線放射窓31Wを有することにより、X線を複数方向に放射することができる。
なお、第2金属部材32の厚み(内径と外径との差)は小さく、アダプタ40の厚みより小さい。このため、第1金属部材31と第2金属部材32との間に熱膨張係数に大きな差があり、第1金属部材31と第2金属部材32とが接続されにくい場合においても、第1金属部材31と第2金属部材32の気密性を維持することができる。
なお、本実施の形態において、セラミック部材33が管軸TAに垂直な一平面上に広がるように環状に形成されているため、X線管1の全長を短くすることができ、X線管1の小型化が可能になる。また、陰極10からアダプタ40への熱の伝導パスを短くできるため、陰極10で発生した熱を効率良く放出することができる。さらに、本実施の形態において、セラミック部材33の真空側の面と反対側の面が平坦に形成されているため、X線管1の小型化が可能になる。
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
10…陰極 20…陽極ターゲット TA…管軸 30…真空外囲器 31…第1金属部材 31W…X線放射窓 32…第2金属部材 33…セラミック部材 40…アダプタ 50…伝熱媒体 60…冷却機構

Claims (8)

  1. 電子を放出する陰極と、
    前記陰極から放出される電子が入射されることによりX線を放出する陽極ターゲットと、
    前記陽極ターゲットと接続され管軸に沿った方向に延出し、X線放射窓を有する第1金属部材と、前記第1金属部材に接続され管軸に沿った方向に延出し、前記管軸に垂直な方向に前記陰極を囲み前記第1金属部材の熱膨張率より低い熱膨張率を有する第2金属部材と、前記第2金属部材および前記陰極と接続され、前記陰極から前記管軸に垂直な方向に突出するように環状に形成され電気絶縁性を示すセラミック部材と、を有し、前記陰極および前記陽極ターゲットを収容する真空外囲器と、
    前記第1金属部材と接するように配置され、前記管軸に垂直な方向に前記第2金属部材を囲み前記第2金属部材の熱伝導率より高い熱伝導率を有するアダプタと、
    前記セラミック部材と前記アダプタとの間に配置された伝熱媒体と、
    前記第1金属部材と接続され、前記陽極ターゲットから放出される熱が直接または第1金属部材を介して間接的に伝導され、前記陰極から放出される熱が前記セラミック、前記伝熱媒体、前記アダプタおよび前記第1金属部材を介して間接的に伝導される冷却液が流れる冷却路を形成する冷却機構と、
    を備えたX線管。
  2. 前記冷却液は、純水である請求項1に記載のX線管。
  3. 前記冷却液は、主要な成分が水である水溶液であり、
    前記陽極は、接地されている請求項1に記載のX線管。
  4. 前記第2金属部材は、筒状に形成され、
    前記セラミック部材および前記伝熱媒体は、前記第2金属部材の厚さ方向に、前記第2金属部材を挟んで対向している請求項1のX線管。
  5. 前記伝熱媒体は、前記セラミック部材に接している請求項1のX線管。
  6. 前記第2金属部材は、筒状に形成され、
    前記アダプタは、枠状に形成され、
    前記第2金属部材の厚さは、前記アダプタの厚さより小さい請求項1のX線管。
  7. 前記伝熱媒体は、金属でメッシュ状またはバネ性を有する形状に形成されている請求項1のX線管。
  8. 前記セラミック部材の真空側の面と反対側の面は、平坦である請求項1に記載のX線管。
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