JP2011086795A - 基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理システム - Google Patents
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Abstract
【課題】設置スペースを小さくできる低いコストの基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理システムを提供する。
【解決手段】基板搬送装置1は、基板Wの複数枚を収納する収納部4と、基板Wを位置決め支持する支持部が形成されたトレイTの複数枚を収納可能なトレイ用の収納部5と、両収容部4,5の基板WまたはトレイTを搬送する搬送ロボット6と、トレイTへの基板Wの移載が行われる移載ステージ7とを備える。搬送ロボット6は、ロボットハンド62の下面にベルヌーイチャック機構、上面にトレイ支持部が設けられている。このロボットハンド62にてトレイTを移載ステージ7に受け渡した後、このトレイTをアライメントするアライメント機構を更に備える。そして、この基板搬送装置1と、真空搬送室21と、ロードロック室及び真空処理室とを有する真空処理装置2とを、同一の基台3上に一体に配置している。
【選択図】図1
【解決手段】基板搬送装置1は、基板Wの複数枚を収納する収納部4と、基板Wを位置決め支持する支持部が形成されたトレイTの複数枚を収納可能なトレイ用の収納部5と、両収容部4,5の基板WまたはトレイTを搬送する搬送ロボット6と、トレイTへの基板Wの移載が行われる移載ステージ7とを備える。搬送ロボット6は、ロボットハンド62の下面にベルヌーイチャック機構、上面にトレイ支持部が設けられている。このロボットハンド62にてトレイTを移載ステージ7に受け渡した後、このトレイTをアライメントするアライメント機構を更に備える。そして、この基板搬送装置1と、真空搬送室21と、ロードロック室及び真空処理室とを有する真空処理装置2とを、同一の基台3上に一体に配置している。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理システムに関し、特に、トレイ上に複数枚の基板をセットした状態で複数の処理室間を移送して所定の処理を行うための基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理システムに関する。
半導体装置の製造工程においては、処理すべき基板(例えば、シリコンウエハやサファイア基板)の複数枚を同時搬送して処理したり、または、装置構成を変更することなく外形寸法の異なる基板に対し同一の処理を同時に行うために、基板の複数枚を保持し得るトレイを用い、このトレイごと各処理室間を搬送して、成膜処理、エッチング処理や熱処理等の各種処理を施すことが一般に知られている。
従来、このようなトレイを用いて各種処理を行う場合、このトレイに対する基板の移載は作業者の手作業で行われていた。このため、トレイへのウエハの移載作業が非常に面倒であると共に、移載不良が発生し易いという問題があった。
そこで、基板を収納可能なカセットと、この基板を支持可能な支持部がその上面に区画されたトレイと、トレイへの基板の移載が行われる移載ステージと、カセットからの基板をトレイに移載する基板搬送用ロボットと、トレイを移載ステージに移送するトレイ搬送用ロボットと、を備えた基板搬送装置が特許文献1で知られている。このものでは、基板搬送ロボットの基板を保持する箇所がベルヌーイチャック機構で構成され、移載ステージには、基板の受け渡し位置に合致するようにトレイを位置合わせするアライメント手段が設けられている。
然し、上記特許文献1記載のものでは、基板搬送用ロボットと、トレイ搬送用ロボットとを別個に備えているため、設置スペースが大きくなるだけなく、コスト高を招くという不具合がある。
本発明は、以上の点に鑑み、設置スペースを小さくできる低いコストの基板搬送装置及びこの基板搬送装置を備えた真空処理システムを提供することをその課題とするものである。
上記課題を解決するために、本発明の基板搬送装置は、基板の複数枚を収納可能な基板用の収納部と、複数枚の基板を位置決め支持する支持部が形成されたトレイの複数枚を収納可能なトレイ用の収納部と、基板用及びトレイ用の両収容部に収納された基板またはトレイを搬送し得る搬送ロボットと、トレイへの基板の移載が行われる移載ステージとを、備え、前記搬送ロボットは、その先端にロボットハンドを有し、このロボットハンドの下面にチャック機構が設けられていると共に、ロボットハンドの上面に、トレイが支持されるトレイ支持部が設けられ、このロボットハンドにてトレイを移載ステージに受け渡した後、基板をトレイに移載する際に、このトレイの支持部が基板の受け渡し位置に一致するようトレイをアライメントするアライメント機構を更に備えたことを特徴とする。
本発明によれば、ロボットハンドの下面に、基板保持部たるチャック機構が設けられていると共に、ロボットハンドの上面に、トレイが支持されるトレイ支持部が設けられいる搬送ロボットを用いるため、単一の搬送ロボットにて基板及びトレイの移載ステージへの移送や、トレイへの基板の移載を行い得る。このため、設置スペースを小さくでき、その上、装置を構成する部品の点数を減らして低コスト化を図ることができる。
また、上記課題を解決するために、本発明の真空処理システムは、請求項1記載の基板搬送装置と、搬送ロボットを配置した中央の真空搬送室と、この搬送室を囲うように配置されたロードロック室及び真空処理室とを有する真空処理装置とを、同一の基台上に一体に配置してなることを特徴とする。
以下、処理対象物を、半導体発光素子形成用のサファイア基板(以下、「基板」という)とし、この基板Wに対してエッチング処理する場合を例に、本発明の実施形態の基板搬送装置を備えた真空処理システムSを説明する。
図1を参照して、真空処理システムSは、基板搬送装置1と真空処理装置2とを、同一基台3に前後(図1中、上下方向)に並設して構成される。基板搬送装置1は、基板Wの複数枚を収納可能な基板用の収納部4と、基板の複数を位置決め支持するトレイTの複数枚を収納可能なトレイ用の収納部5と、基板用及びトレイ用の両収容部に収納された基板W及びトレイTを搬送し得る搬送ロボット6と、トレイTへの基板Wの移載が行われる移載ステージ7とを備える。
トレイTは、真空処理装置の処理室内で実施される処理に応じて、熱伝導が良く、その処理に影響を与えない材料、例えば、酸化シリコン、ステンレスやアルミニウム等の材料から形成され、円板から構成される。トレイTの上面(基板Wの処理面側)には、基板Wの輪郭に一致する凹部T1が同一円周上に位置させて形成され、基板Wの支持部を構成する(本実施形態では、4個の支持部が形成されている)。これにより、これらの凹部T1に、基板Wの処理面を上にした状態で基板Wを落とし込むことで、トレイTに基板Sが位置決め支持される。
基板用の収納部4は、基台3のうち前側に設けた天板31上でかつ前後方向前側(図1中、下側)に、この前後方向と直交する左右方向に沿って並設した持ち運び自在なカセットKから構成され、カセットK自体が、本実施形態での基板用の収納部4となる。この場合、カセットKのうち一部には複数枚の基板Wが収納され、残りのカセットには、処理済みの基板Wが収納できるようになっている。他方、トレイ用の収納部5は、天板31上でかつ前後方向と直交する左右方向の一端(図1中、左端)に配置されている。本実施形態では、トレイ用の収納部5は前後方向に2個並設されており、例えば、一方には処理前のトレイTが収納され、他方はトレイTが収納できるように空となっている。また、トレイ用の収容部5は、箱状の形態を有し、特に図示しないが、その側板内壁には、トレイTを支持する上下複数段の棚部が設けられている。
搬送ロボット6は、天板31の中央部に配置され、ロボットアーム61と、このロボットアーム61の先端に設けれたロボットハンド62とを有する多関節式のものである。また、ロボットアーム61が連結されて回転軸63には、直動モータやエアーシリンダからなる図示省略の昇降手段が連結され、ロボットハンド62を上下動できるようになっている。
図2に示すように、ロボットハンド62は、ロボットアーム61より幅広に形成された板状部材から構成されている。なお、ロボットハンド62の幅は、搬送ロボット6を作動させたときにトレイTがずれたり、落下したりしないようにトレイTの面積に応じて適宜設定される。また、ロボットハンド62の下面には、ベルヌーイ式のチャック機構62aが設けられていると共に、ロボットハンド62の上面は、トレイTが載置されてトレイTを支持するトレイ支持部62bとして構成されている。チャック機構62aは、ロボットハンド62の先端側の下面中央に形成された負圧発生用の逆凹状の空間621と、逆凹状の空間を画成する板状部材下面中央に形成した気体噴出孔622と、気体噴出孔622に連通するように板状部材の側面に穿設した気体通路623と、気体通路623に連通する気体供給管624とを備える。
そして、気体噴出孔622から、エアやアルゴンなどの気体を噴出させ、この気体噴出作用に伴うベルヌーイ効果を発生させる。これにより、ロボットハンド62の空間621下方と、と基板Wの上面との間に正圧と負圧の均衡状態をつくり、基板Wの下面に作用する大気圧との圧力バランスによって基板Wを浮遊させ、基板Wがロボットハンド62の下方で非接触で保持される。この場合、基板Wの位置決めは、例えば、同一の出願人により特許出願がなされ、出願公開された特開2006−19544号公報記載のものが利用できるため、ここでは、詳細な説明を省略する。また、本実施形態では、ベルヌーイ式のものを例に説明するが、これに限定されるものではなく、例えば、真空パッド等により基板Wを吸着保持するもので構成することができる。
トレイ支持部62bの所定位置には、トレイTの輪郭の一部に一致した所定高さの突条625が設けられている。ロボットハンド62先端から突条625までの長さは、トレイ支持部62bにトレイTが載置されたとき、トレイTの重心がトレイ支持部62b上に存するように設定される。そして、例えば、トレイ用の収納部5からトレイTを取り出す場合には、突条625にトレイTの外周を当接させることでロボットハンドTが確実にトレイ支持部62bで支持されるようにしている。なお、トレイ支持部62bを構成する板状部材の上面には高摩擦材料を設けるようにしてもよい。
図3に示すように、移載ステージ7は、上下に重ねた基板用及びトレイ用の両収納部4、5に、搬送ロボット6を挟んで対向するように配置され、上下動及び回転駆動自在に設けられたリフター71と、リフター71の円形の支持部71a上に設けられたテーブル72とを備え、これらの部品が、基板Wの受け渡し位置に一致するようにトレイTのアライメントを行うアライメント機構を構成する。テーブル72には、ロボットハンド62の進退を許容する切り込み部72aが形成されている。また、テーブル72の外周には、トレイTの中心位置をテーブル72の中心位置に位置決めする位置合わせ機構部72bを備え、この位置合わせ機構部72bにてトレイTを位置決めした後、リフター71によりテーブル72を回転駆動して、トレイTの凹部T1への基板Wの受け渡し位置に一致するようにトレイTの位相合わせが行われるようになっている。なお、このアライメント機構の構成及びそのアライメント動作については、同一の出願人により特許出願がなされ、出願公開された特開2006−19544号公報に記載されているため、ここでは、詳細な説明を省略する。
真空処理装置2は、フログレッグ式等の公知の真空搬送ロボット21aが配置され、基台3に固定された中央の真空搬送室21と、この搬送室21を囲うように、搬送室21の側壁にゲートバルブVを介して左右のロードロック室22l、22r及び2個の真空処理室23a、23bとが設けられている。
ロードロック室22l、22rは、その基板投入口(図示せず)が搬送ロボット6の回転軸63と対向するように配置されている。また、真空処理室23a、23bには、反応性イオンエッチングを行う公知の部品(図示せず)が組み込まれ、基板Wに対してエッチング処理をなし得る。
次に、本発明の実施形態の基板搬送装置1を備えた真空処理システムSの作動を説明する。先ず、複数枚の基板Sが収納されたカセットKと空のカセットKとを基台3の天板31上の所定位置にそれぞれ載置する。この作業は、例えば手作業で行うことができる。また、トレイ用の収納部5の一方(例えば、5a)には、複数枚のトレイTが予め収納されている。この状態から、搬送ロボット6にてトレイ用の収納部5aから一枚のトレイTを取り出し、移載ステージ7に移送する。その際、支持テーブル71aは上動位置に存し、この状態でテーブル72上にトレイTを受け渡す。その後、テーブル72を下動させて基台3の天板31に載置されると、位置合わせ機構部72bにて位置決め及び位相合わせされて保持される。
次に、搬送ロボット6にてカセットKから一枚の基板Wが取り出されてトレイT上に移送され、トレイTの凹部T1に落とし込むことでセットされる。そして、リフター71によりテーブル72を適宜回転させて位相合わせを行いつつこの作業を順次繰り返し、トレイTの各凹部T1に基板Wがセットされる。全ての凹部T1に基板Wがセットされると、テーブル72を再度上動し、この上動位置にて搬送ロボット6のロボットハンド62でテーブル72から基板SがセットされたトレイTを受け取る。そして、いずれか一方のロードロック室22lへと移送する。なお、ロードロック室22lへとトレイTが移送されると、搬送ロボット6により、上記と同様にして次のトレイTが移載ステージ7へと移送され、引き続き、このトレイTに処理前の基板Wがセットされ、その後、他方のロードロック室22rへと移送される。
他方、ロードロック室22lに搬送されたトレイTは、所定真空度まで真空引きされた後、真空搬送ロボット21により、真空処理室23aへと移送され、エッチング処理が行われる。エッチング処理後、真空搬送ロボット21により真空処理室23aから取り出されたトレイTは、再度一方のロードロック室22lに移送される。そして、ロードロック室22lの大気開放後、搬送ロボット6により取り出されて移載ステージ7に移送される。この場合、テーブル72は上動位置に存し、この状態でテーブル72上にトレイTを受け渡す。そして、搬送ロボット6のチャック機構62aにて基板WがトレイTから取り出され、空のカセットKへの処理後の基板Wが戻される。この手順が繰り返された後、全ての基板Wが取り出されると、上記と同様にして処理前の基板Wが再度セットされる。これらを繰り返すことでカセットK内の基板Wが順次エッチング処理される。
以上説明したように、本実施形態の基板搬送装置1を備えた真空処理システムSによれば、ロボットハンド62の下面にチャック機構62aが設けられていると共に、ロボットハンド62の上面がトレイ支持部62bとなる構成を採用したため、単一の搬送ロボット6にて基板W及びトレイTを搬送できる。このため、基板搬送装置1の設置スペースを小さくでき、その上、装置を構成する部品の点数を減らして低コスト化を図ることができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、2個の真空処理室23a、23bを設けたものを例に説明しているが、これに限定されるものではない。真空処理室23a、23bは3個以上設けることができ、また、エッチング処理をするものに代えて、スパッタリングや蒸着処理を行い得るように構成することもできる。
また、本実施形態では、トレイ用の収納部5を2つ設けたものを例に説明したが、設置面積が増加しない範囲で複数設けることもできる。
1…基板搬送装置、2…真空処理装置、4…基板用の収納部(カセットK)、5…トレイ用の収納部、6…搬送ロボット、62…ロボットハンド、62a…ベルヌーイ式のチャック機構、62b…トレイ支持部、7…移載ステージ、71…リフター(アライメント機構)72a…テーブル(アライメント機構)、S…真空処理システム、T…トレイ、W…基板(処理対象物)、21…搬送室、22…ロードロック室、23…処理室
Claims (2)
- 基板の複数枚を収納可能な基板用の収納部と、
複数枚の基板を位置決め支持する支持部が形成されたトレイの複数枚を収納可能なトレイ用の収納部と、
基板用及びトレイ用の両収容部に収納された基板またはトレイを搬送し得る搬送ロボットと、
トレイへの基板の移載が行われる移載ステージとを、備え、
前記搬送ロボットは、その先端にロボットハンドを有し、このロボットハンドの下面にチャック機構が設けられていると共に、ロボットハンドの上面に、トレイが支持されるトレイ支持部が設けられ、
このロボットハンドにてトレイを移載ステージに受け渡した後、基板をトレイに移載する際に、このトレイの支持部が基板の受け渡し位置に一致するようトレイをアライメントするアライメント機構を更に備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1記載の基板搬送装置と、
搬送ロボットを配置した中央の真空搬送室と、この搬送室を囲うように配置されたロードロック室及び真空処理室とを有する真空処理装置とを、同一の基台上に一体に配置してなることを特徴とする真空処理システム。
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2009
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