JP2011085399A - オフセット量校正方法および表面性状測定機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面性状測定機において接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を求めるオフセット量校正方法。段差を有する格子パターンを表面に形成した校正用治具をステージ上にセットする工程と、接触式検出器によって校正用治具の格子パターンを測定し、格子パターンの基準位置を求める工程と、画像プローブによって校正用治具の格子パターンを撮像し、格子パターンの基準位置を求める工程と、各工程によって求められた基準位置の差からオフセット量を求める工程とを備える。
【選択図】図8
Description
また、被測定物によっては、スタイラスと被測定物とが干渉(衝突)し、スタイラスや被測定物の破損を招く場合も想定される。
これは、最初に、画像プローブによって被測定物の画像を取り込み、この取り込んだ被測定物の画像から測定開始位置を指定すると、接触式検出器のスタイラスが被測定物の測定開始位置に接するように、相対移動機構の移動軌跡が算出、記憶される。測定が指令されると、記憶された移動軌跡に従って相対移動機構が動作され、接触式検出器のスタイラスが被測定物の測定開始位置に自動的に接触される。
従って、接触式検出器のスタイラスを被測定物の測定開始位置に自動的にセッティングできるから、つまり、従来のように、測定者が、目視でスタイラスの先端と被測定物の測定開始位置の相対位置を調整しながら、スタイラスの先端を被測定物の測定開始位置にセッティングしなくてもよいから、測定者への負担を軽減できるとともに、スタイラスと被測定物との干渉を防止できる。
そのため、画像プローブから接触式検出器への切換時、あるいは、接触式検出器から画像プローブへの切換時に、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を補正した制御を行わなければならないため、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を正確に把握しておくことが、高精度測定を実現するうえで重要となる。
従って、接触式検出器の測定によって求めた校正用パターンの基準位置と、画像プローブの撮像によって求めた校正用パターンの基準位置との差から、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を求めるようにしたから、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を正確、かつ、簡易に求めることができる。
また、第2の校正測定工程において、画像プローブによって校正用治具の分割領域を撮像し、つまり、分割領域を跨ぐように走査することにより、分割領域のエッジを複数検出する。そして、得られたエッジ検出値に対して直線を当てはめるとともに、この当てはめられた2本の直線の交点座標を求めれば、その交点座標から校正用パターンの基準位置を求めることができる。
従って、基板の表面に2本の交差する直線で4分割形成された分割領域の一方の対角分割領域が他方の対角分割領域の表面よりも高い段差に形成された校正用パターンを有する校正用治具を用いたので、比較的簡単かつ安価な校正用治具で、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を正確に求めることができる。
また、第2の校正測定工程において、画像プローブによって校正用治具の円形領域を撮像し、つまり、円形領域の内外を跨ぐように走査することにより、円形領域のエッジを3箇所以上検出する。そして、得られたエッジ検出値に対して円を当てはめるとともに、この当てはめられた円の中心座標を求めれば、その中心座標から校正用パターンの基準位置を求めることができる。
従って、基板の表面に、円形領域を有し、この円形領域の内側および外側のいずれか一方が他方の表面よりも高い段差に形成された校正用パターンを有する校正用治具を用いたので、比較的簡単かつ安価な校正用治具で、接触式検出器と画像プローブとのオフセット量を正確に求めることができる。
従って、接触式検出器のスタイラスを被測定物の測定開始位置に自動的にセッティングできるから、つまり、従来のように、測定者が、目視でスタイラスの先端と被測定物の測定開始位置の相対位置を調整しながら、スタイラスの先端を被測定物の測定開始位置にセッティングしなくてもよいから、測定者への負担を軽減できるとともに、スタイラスと被測定物との干渉を防止できる。
本実施形態に係る表面性状測定機は、図1および図2に示すように、設置台1と、この設置台1の上面に固定されたベース2と、このベース2上に載置され上面に被測定物を載置するステージ10と、被測定物の表面に接触されるスタイラス24を有する接触式検出器20と、被測定物の表面画像を撮像する画像プローブ30と、接触式検出器20および画像プローブ30とステージ10とを相対移動させる相対移動機構40と、制御装置50とを備える。
X軸駆動機構48は、駆動機構本体48AにX軸方向と平行に設けられXスライダ47を移動可能に支持したガイドレール48Bと、このガイドレール48Bに沿ってXスライダ47を往復移動させる駆動源(図示省略)等を含んで構成されている。
プローブヘッド33は、図4に示すように、対物レンズ35と、この対物レンズ35の外周に配置された光源としてのLED36と、対物レンズ35を透過した被測定物からの反射光を受光し被測定物の画像を撮像するCCDセンサ37と、LED36の周囲を覆うカバー38とを含んで構成されている、
入力装置51は、例えば、携帯型のキーボードやジョイスティックなどによって構成され、各種動作指令やデータの入力のほか、画像プローブ30で取得した画像から、スタイラス24をセットする位置(測定開始位置)を指定できるようになっている。
表示装置52には、画像プローブ30で取得した画像が表示されるとともに、接触式検出器20によって得られた形状や粗さデータが表示される。
記憶装置53には、測定プログラム等を記憶したプログラム記憶部54、接触式検出器20のスタイラス24と画像プローブ30のオフセット量OFx,OFy,OFzを記憶したオフセット記憶手段としてのオフセット量記憶部55、および、測定時に取り込んだ画像データや測定データなどを記憶するデータ記憶部56などが設けられている。
校正用治具70は、図6に示すように、略四角板状の固定用台座71と、ガラス製の基板73と、この基板73を固定用台座71に固定する2本の金具72とから構成されている。
固定用台座71は、内部中央部に基板73の裏面をステージ10から浮かすための開口71Aを備えている。
基板73は、表面に段差を有する校正用パターンとしての格子パターン74を備えている。格子パターン74は、図7に示すように、2本の交差する直線、ここでは、2本の直交する直線で4分割形成された分割領域75A,75B,75C,75Dを有し、この分割領域75A,75B,75C,75Dのうち一方の対角分割領域75A,75Cが他方の対角分割領域75B,75Dの表面よりも高い段差に形成されている。具体的には、一方の対角分割領域75A,75Cに、Crなどの材料によって膜厚が約1,100Å(オングストローム)程度の薄膜が形成され、これにより、分割領域75A,75B,75C,75D間には段差AB,BC,CD,ADを有する格子パターン74が形成されている。
接触式検出器20と画像プローブ30とのオフセット量を求めるには、図8のフローチャートに従って処理を行う。
ステップ(以下、STと略す)1において、校正用治具70をステージ10上にセットする(校正用治具セット工程)。
ST2において、接触式検出器20のスタイラス24によって校正用治具70の格子パターン74を測定し、格子パターン74の基準位置、ここでは、中心位置を求める(第1の校正測定工程)
これには、図9に示すように、接触式検出器20のスタイラス24を格子パターン74の分割領域75A〜75Dを跨ぐように相対移動させて、分割領域75A〜75D間の段差AB,CD、AD,BCの位置を複数箇所(少なくとも2箇所以上)測定する(ST2−1)。得られた段差位置測定値に対して直線X,Yを当てはめ、この当てはめられた2本の直線X,Yの交点座標から格子パターン74の基準位置P1を求める(ST2−2)。
これには、図10に示すように、画像プローブ30によって校正用治具70の分割領域75A〜75Dを撮像して分割領域75A〜75D間の段差AB,CD,AD,BC、つまり、エッジの位置を複数箇所(少なくとも2箇所以上)検出する(ST3−1)。得られたエッジ検出値に対して直線X,Yを当てはめ、この当てはめられた2本の直線X,Yの交点座標から格子パターン74の基準位置P2を求める(ST3−2)。
測定にあたっては、入力装置51からの指令で、画像プローブ30によって被測定物の画像を取得する。すると、被測定物の画像データがデータ記憶部56に格納されたのち、表示装置52に表示される。
本実施形態によれば、被測定物の表面に接触されるスタイラス24を有する接触式検出器20と、被測定物の表面画像を撮像する画像プローブ30とを備えたので、画像プローブ30によって被測定物の画像を取り込んだのち、この取り込んだ画像を基に、接触式検出器20のスタイラス24を被測定物の測定箇所に自動的に接触させるようにしたので、従来のように、測定者が、目視でスタイラスの先端と被測定物の測定箇所の相対位置を調整しながら、スタイラスの先端を被測定物の測定開始位置にセッティングしなくてもよいから、測定者への負担を軽減できるとともに、スタイラス24と被測定物との干渉を防止できる。
しかも、接触式検出器20のスタイラス24の先端と画像プローブ30とのオフセット量OFx,OFy,OFzはオフセット量記憶部55に記憶され、このオフセット量記憶部55に記憶されたオフセット量を考慮して、接触式検出器20のスタイラス24が被測定物の測定開始位置に接触するように、相対移動機構40の移動軌跡が算出され、この移動軌跡に従って相対移動機構40が動作されるから、接触式検出器20のスタイラス24を被測定物の測定開始位置に正確に接触させることができる。
このようにして、接触式検出器20と画像プローブ30とのオフセット量を求めるようにしたので、簡易かつ安価な構成で、接触式検出器20と画像プローブ30とのオフセット量を正確に求めることができる。
例えば、画像プローブ30によって取得した画像から、線幅や孔径などを測定することができるほか、画像プローブ30のオートフォーカス機能を用いて、対物レンズ35の光軸方向の寸法(段差寸法)なども測定できる。
しかも、接触式検出器20および画像プローブ30は、共に、Xスライダ47にオフセットして取り付けられているから、接触式検出器20および画像プローブ30を別々に移動させる機構を設ける場合に比べ、構造を簡素化でき、安価に構成できる。
本発明は、前述の実施形態に限定されるものでなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明に含まれる。
このような円形パターン76を有する校正用治具80を用いて、接触式検出器20と画像プローブ30とのオフセット量を求めるには、図12のフローチャートに従って処理を行う。
ST12において、接触式検出器20のスタイラス24によって校正用治具80の円形パターン76を測定し、円形パターン76の基準位置を求める(第1の校正測定工程)。
これには、図13に示すように、接触式検出器20のスタイラス24を円形領域77Aを跨ぐように相対移動させ、例えば、円形領域77Aの中心から外側へ向かって相対移動させ、円形領域77Aと外側領域77Bとの間の段差ABの位置を複数箇所(少なくとも3箇所以上)測定する(ST12−1)。得られた段差位置測定値に対して円(理想円)を当てはめ、この当てはめられた円の中心座標から円形パターン76の基準位置P1を求める(ST12−2)。
これには、図14に示すように、画像プローブ30によって校正用治具80の円形領域77Aを撮像して円形領域77Aのエッジ、つまり、段差ABの位置を複数箇所(少なくとも3箇所以上)検出する(ST13−1)。そして、得られたエッジ検出値に対して円を当てはめ、この当てはめられた円の中心座標から校正用パターンの基準位置P2を求める(ST13−2)。
従って、基板73の表面に、円形領域77Aを有し、この円形領域77Aの内側および外側のいずれか一方が他方の表面よりも高い段差に形成された円形パターン76を有する校正用治具80を用いたので、比較的簡易かつ安価な構成で、接触式検出器20と画像プローブ30とのオフセット量を正確に求めることができる。
例えば、光源としてのLED36は、画像プローブとは別に設けてもよい。また、対物レンズ35を交換可能にして、倍率の異なる対物レンズ35に交換できるようにすれば、被測定物の測定箇所の大きさに応じて最適な作業が実施できる。
また、接触式検出器20と画像プローブ30とを別々の相対移動機構によって独立的に移動させるようにしてもよい。
20…接触式検出器、
24…スタイラス、
30…画像プローブ、
35…対物レンズ、
36…LED(光源)
37…CCDセンサ
40…相対移動機構、
41…Y軸駆動機構(第1移動機構)、
42…コラム、
43…Zスライダ、
44…Z軸駆動機構(第2移動機構)、
47…Xスライダ(スライド部材)、
48…X軸駆動機構(第3移動機構)
55…オフセット量記憶部(オフセット量記憶手段)
70…校正用治具、
73…基板、
74…格子パターン(校正用パターン)、
75A〜75D…分割領域、
76…円形パターン(校正用パターン)、
77A…円形領域、
77B…外側領域、
80…校正用治具、
AB,BC,CD,AD…段差、
OFx,OFy,OFz…オフセット量、
P1,P2…基準位置。
Claims (4)
- 被測定物を載置するステージと、前記被測定物の表面に接触されるスタイラスを有する接触式検出器と、前記被測定物の表面画像を撮像する画像プローブと、前記接触式検出器および前記画像プローブと前記ステージとを相対移動させる相対移動機構と、前記相対移動機構の駆動を制御するとともに、前記接触式検出器から得られる測定データおよび前記画像プローブで取得された画像データを処理する制御装置とを備えた表面性状測定機において、前記接触式検出器と前記画像プローブとのオフセット量を求めるオフセット量校正方法であって、
段差を有する校正用パターンを表面に形成した校正用治具を前記ステージ上にセットする校正用治具セット工程と、
前記接触式検出器によって前記校正用治具の校正用パターンを測定し、校正用パターンの基準位置を求める第1の校正測定工程と、
前記画像プローブによって前記校正用治具の校正用パターンを撮像し、校正用パターンの基準位置を求める第2の校正測定工程と、
前記第1の校正測定工程によって求められた基準位置と前記第2の校正測定工程によって求められた基準位置との差からオフセット量を求めるオフセット量算出工程と、
を備えたことを特徴とするオフセット量校正方法。 - 請求項1に記載のオフセット量校正方法において、
前記校正用治具は、基板と、この基板の表面に2本の交差する直線で4分割形成された分割領域を有し、この分割領域の一方の対角分割領域が他方の対角分割領域の表面よりも高い段差に形成された校正用パターンとを含んで構成され、
前記第1の校正測定工程では、前記接触式検出器のスタイラスを前記校正用治具の分割領域を跨ぐように相対移動させて、前記分割領域の段差位置を複数測定し、得られた段差位置測定値に対して直線を当てはめ、この当てはめられた2本の直線の交点座標から校正用パターンの基準位置を求め、
前記第2の校正測定工程では、前記画像プローブによって前記校正用治具の分割領域を撮像して分割領域のエッジを複数検出し、得られたエッジ検出値に対して直線を当てはめ、この当てはめられた2本の直線の交点座標から校正用パターンの基準位置を求める、
ことを特徴とするオフセット量校正方法。 - 請求項1に記載のオフセット量校正方法において、
前記校正用治具は、基板と、この基板の表面に形成された円形領域を有し、この円形領域の内側および外側のいずれか一方が他方の表面よりも高い段差に形成された校正用パターンとを含んで構成され、
前記第1の校正測定工程では、前記接触式検出器のスタイラスを前記校正用治具の円形領域を跨ぐように相対移動させて、前記円形領域の段差位置を3箇所以上測定し、得られた段差位置測定値に対して円を当てはめ、この当てはめられた円の中心座標から校正用パターンの基準位置を求め、
前記第2の校正測定工程では、前記画像プローブによって前記校正用治具の円形領域を撮像して円形領域のエッジを3箇所以上検出し、得られたエッジ検出値に対して円を当てはめ、この当てはめられた円の中心座標から校正用パターンの基準位置を求める、
ことを特徴とするオフセット量校正方法。 - 被測定物を載置するステージと、前記被測定物の表面に接触されるスタイラスを有する接触式検出器と、前記被測定物の表面画像を撮像する画像プローブと、前記接触式検出器および前記画像プローブと前記ステージとを相対移動させる相対移動機構と、前記相対移動機構の駆動を制御するとともに、前記接触式検出器から得られる測定データおよび前記画像プローブで撮像された画像データを処理する制御装置とを備えた表面性状測定機において、
前記請求項1〜請求項3のいずれかのオフセット量校正方法で求められたオフセット量を記憶するオフセット量記憶手段を備え、
前記制御装置は、前記画像プローブによって取り込まれた前記被測定物の画像を基に測定開始位置が指定されると、前記オフセット量記憶手段に記憶されたオフセット量を補正値として、前記接触式検出器のスタイラスが前記被測定物の測定開始位置に接するように、前記相対移動機構の移動軌跡を算出して記憶する移動軌跡算出手段と、この移動軌跡算出手段で求められた移動軌跡に従って前記相対移動機構を動作させるスタイラスセット手段とを含んで構成されている、
ことを特徴とする表面性状測定機。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2722643A1 (en) | 2012-10-19 | 2014-04-23 | Mitutoyo Corporation | Double cone stylus, touch probe, and method of calibrating double cone stylus |
JP2016095297A (ja) * | 2014-10-23 | 2016-05-26 | コグネックス・コーポレイション | タッチプローブに対してビジョンシステムを校正するためのシステム及び方法 |
JP2019532276A (ja) * | 2016-09-09 | 2019-11-07 | クオリティー ヴィジョン インターナショナル インコーポレイテッドQuality Vision International, Inc. | 複数のセンサを備えた測定機用関節式ヘッド |
CN111070204A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 精工爱普生株式会社 | 机器人系统、机器人的校准治具、机器人的校准方法 |
WO2020196063A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ヘキサゴン・メトロジー株式会社 | Cnc加工装置のキャリブレーション方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6692658B2 (ja) | 2016-02-25 | 2020-05-13 | 株式会社ミツトヨ | 内壁測定装置及びオフセット量算出方法 |
JP6769764B2 (ja) * | 2016-07-19 | 2020-10-14 | 株式会社ミツトヨ | 測定プローブ及び測定装置 |
JP6512456B2 (ja) * | 2016-12-27 | 2019-05-15 | トヨタ自動車株式会社 | 水平多関節型ロボット用の校正治具および校正方法 |
US11867668B2 (en) * | 2020-06-29 | 2024-01-09 | Illinois Tool Works Inc. | Thickness correction for video extensometer systems and methods |
JP7438056B2 (ja) * | 2020-08-07 | 2024-02-26 | 株式会社ミツトヨ | 校正方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1062155A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 座標測定機におけるワークng箇所再測定方法及びその装置 |
JPH11351858A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Mitsutoyo Corp | 非接触三次元測定装置 |
JP2003097939A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Ricoh Co Ltd | 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム |
DE102006014509A1 (de) * | 2006-03-22 | 2007-09-27 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Prüfkörper und Verfahren zum Einmessen eines Koordinatenmessgerätes |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62265520A (ja) | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Mitsutoyo Corp | 2つの検出子を備えた三次元測定機 |
JPH0792385B2 (ja) | 1991-09-27 | 1995-10-09 | 株式会社ミツトヨ | 表面粗さ測定装置 |
DE4327250C5 (de) | 1992-09-25 | 2008-11-20 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Verfahren zur Koordinatenmessung an Werkstücken |
JP2794258B2 (ja) | 1992-12-17 | 1998-09-03 | 株式会社フジクラ | V溝の測定方法 |
US5955661A (en) | 1997-01-06 | 1999-09-21 | Kla-Tencor Corporation | Optical profilometer combined with stylus probe measurement device |
JP3511450B2 (ja) * | 1997-09-12 | 2004-03-29 | 株式会社ミツトヨ | 光学式測定装置の位置校正方法 |
JP3602965B2 (ja) | 1998-06-09 | 2004-12-15 | 株式会社ミツトヨ | 非接触三次元測定方法 |
JP3678916B2 (ja) | 1998-06-09 | 2005-08-03 | 株式会社ミツトヨ | 非接触三次元測定方法 |
JP3482362B2 (ja) | 1999-01-12 | 2003-12-22 | 株式会社ミツトヨ | 表面性状測定機、表面性状測定機用の傾斜調整装置および表面性状測定機における測定対象物の姿勢調整方法 |
US7693325B2 (en) | 2004-01-14 | 2010-04-06 | Hexagon Metrology, Inc. | Transprojection of geometry data |
EP2224204B1 (de) | 2004-12-16 | 2021-05-26 | Werth Messtechnik GmbH | Verfahren zum Messen von Werkstückgeometrien mit einem Koordinatenmessgerät |
JP4639135B2 (ja) | 2005-10-19 | 2011-02-23 | 株式会社ミツトヨ | プローブ観察装置、表面性状測定装置 |
-
2009
- 2009-10-13 JP JP2009236122A patent/JP5350169B2/ja active Active
-
2010
- 2010-10-08 US US12/900,788 patent/US8654351B2/en active Active
- 2010-10-12 EP EP10187328.9A patent/EP2312263B1/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1062155A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 座標測定機におけるワークng箇所再測定方法及びその装置 |
JPH11351858A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Mitsutoyo Corp | 非接触三次元測定装置 |
JP2003097939A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Ricoh Co Ltd | 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム |
DE102006014509A1 (de) * | 2006-03-22 | 2007-09-27 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Prüfkörper und Verfahren zum Einmessen eines Koordinatenmessgerätes |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2722643A1 (en) | 2012-10-19 | 2014-04-23 | Mitutoyo Corporation | Double cone stylus, touch probe, and method of calibrating double cone stylus |
US9341460B2 (en) | 2012-10-19 | 2016-05-17 | Mitutoyo Corporation | Double cone stylus, touch probe, and method of calibrating double cone stylus |
JP2016095297A (ja) * | 2014-10-23 | 2016-05-26 | コグネックス・コーポレイション | タッチプローブに対してビジョンシステムを校正するためのシステム及び方法 |
JP2019532276A (ja) * | 2016-09-09 | 2019-11-07 | クオリティー ヴィジョン インターナショナル インコーポレイテッドQuality Vision International, Inc. | 複数のセンサを備えた測定機用関節式ヘッド |
CN111070204A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 精工爱普生株式会社 | 机器人系统、机器人的校准治具、机器人的校准方法 |
CN111070204B (zh) * | 2018-10-22 | 2022-10-18 | 精工爱普生株式会社 | 机器人系统、机器人的校准治具、机器人的校准方法 |
WO2020196063A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ヘキサゴン・メトロジー株式会社 | Cnc加工装置のキャリブレーション方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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