JP7438056B2 - 校正方法 - Google Patents

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Description

本発明は、校正方法に関する。
測定対象物の寸法、及び形状などの測定を行う測定機器として座標測定機が知られている。座標測定機は、測定の精度を維持するために、ボールプレートなどの基準器を用いて校正される(例えば、特許文献1を参照)。
特許第4584029号公報
ボールプレートに設けられた複数の基準球は、予め定められた間隔に配置されている。基準球の間隔を校正するために座標測定機を使用して基準球の間隔を校正することが考えられる。しかしながら、座標測定機にはスケール誤差が存在するため、座標測定機を用いてボールプレートの複数の基準球の間隔を測定する場合、間隔を高い精度で測定することができないという問題があった。
そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、基準器の校正の精度を向上させることを目的とする。
本発明の第一の態様に係る校正方法は、複数の測定対象物体を有する基準器における前記複数の測定対象物体の間隔を座標測定機で校正する方法であって、前記座標測定機のスケール誤差を測定するための測定体と、前記測定体と連結された反射体と、を有する測定物を、前記スケール誤差の測定方向における第1位置に載置するステップと、前記測定物が前記第1位置にある状態で、レーザ干渉計が前記反射体にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射体までの第1距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定体の前記測定方向における第1座標を測定するステップと、前記第1位置と異なる第2位置まで前記測定方向に前記測定物を移動させるステップと、前記測定物が前記第2位置にある状態で、前記レーザ干渉計が前記反射体にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射体までの第2距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定体の前記測定方向における第2座標を測定するステップと、前記第1距離と前記第2距離との差分と、前記第1座標と前記第2座標との差分とを比較することにより、前記座標測定機の誤差を特定するステップと、前記座標測定機の前記測定方向に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置するステップと、前記基準器を載置した後に、前記複数の測定対象物体の間隔を前記座標測定機で測定するステップと、前記座標測定機で前記複数の測定対象物体の間隔を測定した結果を前記誤差で補正をすることにより、前記基準器の前記複数の測定対象物体の間隔の校正値を算出するステップと、を有する。
前記第1座標を測定するステップにおいて、前記座標測定機は前記測定体の複数の位置の複数の座標を測定し、測定した前記複数の座標に基づいて前記測定体の所定の位置を示す前記第1座標を特定してもよい。
前記測定物を移動させるステップにおいて、前記複数の測定対象物体の間隔の仕様値に対応する距離だけ前記測定物を移動してもよい。
前記測定物を移動させるステップにおいて、長手方向が前記測定方向と一致するレールに沿って前記測定物を移動させてもよい。
前記基準器を載置するステップにおいて、前記測定物が載置されていた位置に前記基準器を載置してもよい。
前記基準器を載置するステップにおいて、前記第1位置及び前記第2位置に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置してもよい。
本発明の第二の態様に係る校正方法は、複数の測定対象物体を有する基準器における前記複数の測定対象物体の間隔を座標測定機で校正する方法であって、前記座標測定機のスケール誤差を測定するための測定部位と、照射されたレーザ光を反射させる反射部位と、を有する測定物を、前記スケール誤差の測定方向における第1位置に載置するステップと、前記測定物が前記第1位置にある状態で、レーザ干渉計が前記反射部位にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射部位までの第1距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定部位の前記測定方向における第1座標を測定するステップと、前記第1位置と異なる第2位置まで前記測定方向に前記測定物を移動させるステップと、前記測定物が前記第2位置にある状態で、前記レーザ干渉計が前記反射部位にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射部位までの第2距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定部位の前記測定方向における第2座標を測定するステップと、前記第1距離と前記第2距離との差分と、前記第1座標と前記第2座標との差分とを比較することにより、前記座標測定機の誤差を特定するステップと、前記座標測定機の前記測定方向に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置するステップと、前記基準器を載置した後に、前記複数の測定対象物体の間隔を前記座標測定機で測定するステップと、前記座標測定機で前記複数の測定対象物体の間隔を測定した結果を前記誤差で補正をすることにより、前記基準器の前記複数の測定対象物体の間隔の校正値を算出するステップと、を有する。
本発明によれば、基準器の校正の精度を向上させるという効果を奏する。
本実施形態に係る基準器のスケール誤差の校正方法を示すフローチャートである。 座標測定機Sのスケール誤差を特定する方法を説明するための図である。 ボールプレートPが有する複数の基準球の間隔を測定する方法を説明するための図である。 測定体14の形状の他の例を説明するための図である。 測定体14及び反射体15の形状の他の例を説明するための図である。
<校正方法の概要>
本校正方法は、複数の測定対象物体を有する基準器における複数の測定対象物体の間隔を座標測定機(すなわち三次元測定機)で校正する方法である。複数の測定対象物体は、例えば、ボールプレートが有する複数の基準球又はホールプレートが有する複数の開口である。本校正方法においては、複数の測定対象物体を測定するための座標測定機のスケール誤差を特定し、特定した座標測定機のスケール誤差と座標測定機で測定した複数の測定対象物体の間隔とに基づいて、基準器が有する複数の測定対象物体の間隔を校正する。本実施形態では、一例として、ボールプレートが備える複数の基準球のうち、2つの基準球の間隔を校正する方法を説明する。
<校正方法のフローチャート>
図1は、本実施形態に係る基準器のスケール誤差の校正方法を示すフローチャートである。図2は、座標測定機Sのスケール誤差を特定する方法を説明するための図である。図3は、基準器の一例であるボールプレートPが有する複数の基準球の間隔を測定する方法を説明するための図である。
図2は、座標測定機Sの定盤面10に、座標測定機Sのスケール誤差を測定するために用いられるツールであるレール12、スライダ13、測定体14、反射体15及びレーザ干渉計16を載置した状態を示している。本校正方法においては、図2に示すツールと座標測定機Sのプローブ11を用いてスケール誤差を特定するための測定をした後に、図3に示すように、定盤面10にボールプレートPを載置して、ボールプレートPが有する複数の基準球の間隔を測定することにより、複数の基準球の間隔を校正する。スケール誤差を特定するための演算は、例えば不図示のコンピュータによって行われる。
定盤面10は、座標測定機Sが備える定盤面である。プローブ11は、座標測定機Sが備えるプローブである。レール12は、定盤面10に載置された直方体形状の物体である。
スライダ13、測定体14及び反射体15は、スケール誤差を測定するために、座標測定機S及びレーザ干渉計16のそれぞれによって移動距離が測定される測定物である。スライダ13は、測定体14及び反射体15と結合されており、レール12の上面を移動する。測定体14は、座標測定機Sがプローブ11を接触させることにより位置を測定するための物体であり、例えば球形の部位を有する。反射体15は、レーザ干渉計16が照射したレーザを再帰反射する物体であり、レーザ干渉計16に面する平面を有する。レーザ干渉計16は、反射体15にレーザ光を照射することにより、レーザ干渉計16と反射体15との距離を測定する。図3に示す台座17は、ボールプレートPを載置するための台である。
以下、図1に示すフローチャートに沿って、校正方法の手順を説明する。
最初のステップでは、図2に示すように定盤面10にツールを載置した状態で、スライダ13をレール12の上面の位置である第1位置に載置する(S11)。具体的には、座標測定機Sのスケール誤差を測定するための測定体14と、測定体14と連結された反射体15と、を有する測定物を、スケール誤差の測定方向における第1位置に載置する。測定方向は、レール12の長手方向と一致する方向である。測定物の位置は、測定物に含まれるスライダ13、測定体14及び反射体15のいずれかの部位の位置であり、例えば測定体14が有する球体の中心位置である。
次のステップでは、測定物が第1位置にある状態で、レーザ干渉計16が第1距離を測定するとともに、座標測定機Sが第1座標を測定する(S12)。具体的には、レーザ干渉計16が反射体15にレーザ光を測定方向に照射することにより、レーザ干渉計16から反射体15までの第1距離を測定する。また、座標測定機Sが測定体の測定方向における第1座標を測定する。レーザ干渉計16による第1距離の測定と座標測定機Sによる第1座標の測定の実施順序は任意である。
図2に示すように、レーザ干渉計16は、レーザ干渉計16が発するレーザ光がレール12の長手方向に一致するように載置されている。レーザ干渉計16は、測定体14の一端に備えられた球体の中心と反射体15の一端に備えられた再帰反射体の中心とが、レーザ干渉計が発するレーザ光の光軸上に位置するように載置されている。このようにすることで、本校正方法による測定は、アッベ誤差の影響を受けにくくすることができる。
座標測定機Sは、プローブ11が測定体14に接触した位置に対応する座標を測定する。座標測定機Sは、測定方向における位置の測定精度を向上させるために、測定体14の複数の位置の複数の座標を測定し、測定した複数の座標に基づいて測定体14の所定の位置を示す第1座標を特定してもよい。座標測定機Sは、例えば、測定体14における最も外側の複数の位置の座標を順次測定し、測定した複数の位置の中心位置の座標を測定体14の位置の座標であるとする。座標測定機Sがこのように複数の座標に基づいて測定体14の位置の座標を測定することで、測定体14に接触するプローブ11の位置の違いによる測定誤差の発生を抑制できる。
第1距離及び第1座標を測定した後に、第1位置と異なる第2位置まで測定方向に測定物を移動させる(S13)。具体的には、レール12に沿ってスライダ13を第2位置まで移動させる。第2位置は、例えば、第1位置から複数の測定対象物体の間隔の仕様値に対応する距離だけ測定物をレール12に沿って移動させた位置である。具体的には、第2位置は、第1位置から、ボールプレートPが備える基準球A1、A2の間隔と同じ距離をレール12の長手方向に沿って移動させた位置である。
このように、第1位置と第2位置との距離として、校正する対象の仕様値に近い距離を用いることで、本校正方法においてボールプレートPの校正に使用される座標測定機Sの測定範囲におけるスケール誤差の測定精度を高くすることができる。また、スライダ13がレール12の長手方向に沿って移動可能に構成されていることで、本校正方法においては、任意の第1位置及び第2位置の間におけるスケール誤差を特定することができる。その結果、本校正方法は、複数の基準器のそれぞれが有する複数の測定対象物体の異なる間隔のそれぞれに対応することができる。
次のステップでは、測定物が第2位置にある状態で、レーザ干渉計16が第2距離を測定するとともに、座標測定機Sが第2座標を測定する(S14)。具体的には、レーザ干渉計16が反射体15にレーザ光を測定方向に照射することにより、レーザ干渉計16から反射体15までの第2距離を測定するとともに、座標測定機Sが測定体の測定方向における第2座標を測定する。
次のステップでは、座標測定機Sのスケール誤差を特定する(S15)。座標測定機Sのスケール誤差は、第1距離と第2距離との差分と、第1座標と第2座標との差分とを比較することにより、例えばコンピュータを用いて特定される。例えば、第1距離と第2距離との差分が「300mm+1μm」であり、第1座標と第2座標との差分に対応する距離が「300mm」である場合、座標測定機Sのスケール誤差は「-1μm」であると特定する。
以上の手順により、座標測定機Sのスケール誤差を特定した後に、スケール誤差の測定のために用いたツールを定盤面10から取り除き、スケール誤差が特定された座標測定機Sにより、定盤面10に載置したボールプレートPが備える複数の基準球A1、A2の間隔を測定する。測定した間隔と特定した座標測定機Sのスケール誤差とに基づいて、基準球A1と基準球A2との間隔の校正値を算出する。
基準器であるボールプレートPが備える複数の基準球A1、A2の間隔を測定するために、測定方向(レール12の長手方向)に複数の基準球A1、A2が位置するようにボールプレートPを載置する(S16)。具体的には、測定物が載置されていた位置にボールプレートPを載置する。より具体的には、ボールプレートPを定盤面10に載置する際に、第1位置及び第2位置に複数の測定対象物体である複数の基準球A1、A2が位置するようにボールプレートPを定盤面10に載置する。
図3に示すボールプレートPにおいては、測定対象物体である基準球A1、A2の外周が円形であり、基準球A1及び基準球A2それぞれに隣接する複数の開口を有している。この場合、第1位置及び第2位置又は第1位置及び第2位置の近傍に、基準球A1及び基準球A2が位置するようにボールプレートPを載置する。図3において、例えば、基準球A1が第1位置に対応し、基準球A2が第2位置に対応している。このようにボールプレートPを載置することで、スケール誤差が測定された位置とボールプレートPにおける測定位置とがほぼ一致するので、校正精度が向上する。
ボールプレートPを定盤面10に載置する際、図3に示すように、定盤面10の上面に載置された台座17の上面にボールプレートPを載置してもよい。ボールプレートPを台座17の上面に載置することにより、例えば、ボールプレートPにおいてプローブ11が接触する位置の高さが、測定体14の中心位置と同等の高さになるように調整することができる。このように調整することで、座標測定機Sのスケール誤差を測定した際と同等の条件下でボールプレートPを測定できるので、校正精度がさらに向上する。
次のステップでは、基準器を座標測定機Sで測定する(S17)。本実施形態においては、基準器であるボールプレートPが備える複数の測定対象物体である複数の基準球A1、A2の間隔を座標測定機Sで測定する。具体的には、座標測定機Sが基準球A1の座標と基準球A2の座標とを測定し、測定した座標の差分に対応する間隔を特定する。
本ステップは、複数の開口B1、B2の位置を測定するステップと、複数の開口B1、B2の位置の間隔に基づいて複数の測定対象物体である基準球A1、A2の間隔を特定するステップとを有してもよい。例えば、本ステップにおいては、開口B1の位置と開口B2の位置との位置を測定し、測定した開口B1と開口B2との位置の間隔に基づいて、開口B1に接する基準球A1と開口B2に接する基準球A2との間隔を特定してもよい。開口B1、B2の位置は、開口B1、B2の外周の測定により特定できるため、球体である基準球A1、A2よりも測定が容易であり、且つ、高い精度で位置を特定できる。
次のステップでは、測定器の校正値を算出する(S18)。具体的には、座標測定機Sで複数の測定対象物体である基準球A1、A2の間隔を測定した結果を、S15で特定した座標測定機Sのスケール誤差で補正することにより、基準器であるボールプレートPの複数の測定対象物体である基準球A1、A2の間隔の校正値を算出する。例えば、基準球A1と基準球A2との間隔を測定した結果が「300mm+2μm」であり、座標測定機Sのスケール誤差が「-1μm」である場合、測定した間隔をスケール誤差で補正した値は「300mm+3μm」である。この場合、基準球A1、A2の間隔の仕様値が「300mm」の場合、校正値は「3μm」と算出できる。
<第1変形例>
以上の説明においては、座標測定機Sが測定する測定体14の一端に球体が形成されている場合を例示したが、座標測定機Sが測定する測定体14の一端の形状は、球体に限らない。図4は、測定体14の形状の他の例を示す図である。図4(a)は、測定体14の一端の形状がリング状の円柱である例を示す。図4(b)は、測定体14の一端の形状がブロック(直方体)である例を示す。
図4(a)の場合、座標測定機Sは、プローブ11が、測定体14が備えるリング状の円柱の内周又は外周と接触することにより、第1座標及び第2座標を測定する。図4(b)の場合、座標測定機Sは、プローブ11が、測定体14が備えるブロックの表面である複数の平面と接触することにより、第1座標及び第2座標を測定する。このように、球体とは異なる測定体14の一端の形状を測定することで、座標測定機Sは、プローブ11が接触する位置が異なることによる測定誤差を抑制した測定を行うことができる。
<第2変形例>
以上の説明においては、測定体14と反射体15とが異なる物体である場合を例示したが、測定体14と反射体15とが単一の物体であってもよい。図5は、測定体14及び反射体15の形状の他の例を説明するための図である。図5においては、測定体14を測定部位18に置き換えている点と反射体15を反射部位19に置き換えている点とで図2と異なり、他の点において同じである。
図5における測定物は、スライダ13、測定部位18、及び反射部位19により構成されており、測定部位18と反射部位19とは結合されている。測定部位18は、座標測定機Sがプローブ11を接触させることにより位置を測定するための部位であり、例えば球形の形状である。反射部位19は、レーザ干渉計16が照射したレーザを再帰反射する部位であり、レーザ干渉計16に面する平面を有する。
図5に示す測定物を用いて本校正方法を行う場合、座標測定機Sは、測定部位18とプローブ11とを接触させることにより、測定体の測定方向における第1座標及び第2座標を測定する。レーザ干渉計16は、反射部位19にレーザ光を測定方向に照射することにより、レーザ干渉計16から反射部位19までの第1距離及び第2距離を測定する。
このような構成にすることで、座標測定機Sとレーザ干渉計16とが、同じ位置の測定対象物体を測定できるので、スケール誤差の測定精度がさらに向上する。さらに、測定物の構造を簡素化することができる。
<第3変形例>
以上の説明においては、基準器を載置するステップにおいて、第1座標と第2座標との差分と基準球A1、A2の間隔とが同じ又は近似している場合を例示したが、第1座標と第2座標との差分と基準球A1、A2の間隔とは異なっていてもよい。
その場合、座標測定機Sのスケール誤差の特定に用いた第1座標と第2座標との差分と、基準球A1、A2の間隔とを比較し、第1座標と第2座標との差分に対する基準球A1、A2の間隔の比例量を算出する。そして、算出した比例量と特定した座標測定機Sのスケール誤差とに基づいて、基準球A1、A2の間隔におけるスケール誤差を特定する。
例えば、第1座標と第2座標との差分に対応する距離が「300mm」であり、スケール誤差が「-1μm」である場合、基準球A1、A2の間隔が「600mm」ならば、スケール誤差を「-2μm」として校正値を算出する。このように校正値を算出することで、本校正方法は、例えば、基準球A1、A2の間隔がレール12の長手方向の距離より長い場合であっても、校正値を算出することができる。
<第4変形例>
以上の説明においては、座標測定機Sのスケール誤差を特定した後に基準球A1、A2の間隔を測定することで、基準球A1と基準球A2との間隔の校正値を算出したが、基準球A1、A2の間隔を測定した後に座標測定機Sのスケール誤差を特定することで、基準球A1と基準球A2との間隔の校正値を算出してもよい。
具体的には、最初に、図1に示すS16からS17の手順を行うことによりボールプレートPが備える基準球A1と基準球A2との間隔を測定する。続いて、図1に示すS11からS15の手順を行うことにより座標測定機Sのスケール誤差を特定する。そして、図1に示すS18を行うことによりボールプレートPが備える基準球A1と基準球A2との間隔の校正値を算出する。
<本実施形態に係る校正方法の効果>
以上のとおり、本実施形態に係る校正方法は、レーザ干渉計16がレーザ干渉計16から反射体15までの第1距離を測定するとともに、座標測定機Sが測定体14の第1座標を測定するステップと、測定体14及び反射体15を有する測定物を移動させるステップと、レーザ干渉計16がレーザ干渉計16から移動後の反射体15までの第2距離を測定するとともに、座標測定機Sが移動後の測定体14の第2座標を測定するステップと、測定した第1距離と第2距離との差分と、第1座標と第2座標との差分に基づいて座標測定機Sのスケール誤差を特定するステップと、座標測定機Sが基準器の測定対象物体である基準球の間隔を測定するステップと、測定した基準球の間隔と座標測定機Sのスケール誤差とに基づいて基準球の間隔の校正値を算出するステップと、を有する。
このような手順で基準器を校正することで、座標測定機Sに存在するスケール誤差を考慮して基準器が備える複数の測定対象物体の間隔の校正値を算出できるため、基準器の校正の精度を向上させることができる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、装置の全部又は一部は、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。また、複数の実施の形態の任意の組み合わせによって生じる新たな実施の形態も、本発明の実施の形態に含まれる。組み合わせによって生じる新たな実施の形態の効果は、もとの実施の形態の効果を併せ持つ。
10 定盤面
11 プローブ
12 レール
13 スライダ
14 測定体
15 反射体
16 レーザ干渉計
17 台座
18 測定部位
19 反射部位

Claims (7)

  1. 複数の測定対象物体を有する基準器における前記複数の測定対象物体の間隔を座標測定機で校正する方法であって、
    前記座標測定機のスケール誤差を測定するための測定体と、前記測定体と連結された反射体と、を有する測定物を、前記スケール誤差の測定方向における第1位置に載置するステップと、
    前記測定物が前記第1位置にある状態で、レーザ干渉計が前記反射体にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射体までの第1距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定体の前記測定方向における第1座標を測定するステップと、
    前記第1位置と異なる第2位置まで前記測定方向に前記測定物を移動させるステップと、
    前記測定物が前記第2位置にある状態で、前記レーザ干渉計が前記反射体にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射体までの第2距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定体の前記測定方向における第2座標を測定するステップと、
    前記第1距離と前記第2距離との差分と、前記第1座標と前記第2座標との差分とを比較することにより、前記座標測定機の誤差を特定するステップと、
    前記座標測定機の前記測定方向に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置するステップと、
    前記基準器を載置した後に、前記複数の測定対象物体の間隔を前記座標測定機で測定するステップと、
    前記座標測定機で前記複数の測定対象物体の間隔を測定した結果を前記誤差で補正をすることにより、前記基準器の前記複数の測定対象物体の間隔の校正値を算出するステップと、
    を有する校正方法。
  2. 前記第1座標を測定するステップにおいて、前記座標測定機は前記測定体の複数の位置の複数の座標を測定し、測定した前記複数の座標に基づいて前記測定体の所定の位置を示す前記第1座標を特定する、
    請求項1に記載の校正方法。
  3. 前記測定物を移動させるステップにおいて、前記複数の測定対象物体の間隔の仕様値に対応する距離だけ前記測定物を移動させる、
    請求項1又は2に記載の校正方法。
  4. 前記測定物を移動させるステップにおいて、長手方向が前記測定方向と一致するレールに沿って前記測定物を移動させる、
    請求項1から3のいずれか一項に記載の校正方法。
  5. 前記基準器を載置するステップにおいて、前記測定物が載置されていた位置に前記基準器を載置する、
    請求項1から4のいずれか一項に記載の校正方法。
  6. 前記基準器を載置するステップにおいて、前記第1位置及び前記第2位置に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置する、
    請求項5に記載の校正方法。
  7. 複数の測定対象物体を有する基準器における前記複数の測定対象物体の間隔を座標測定機で校正する方法であって、
    前記座標測定機のスケール誤差を測定するための測定部位と、照射されたレーザ光を反射させる反射部位と、を有する測定物を、前記スケール誤差の測定方向における第1位置に載置するステップと、
    前記測定物が前記第1位置にある状態で、レーザ干渉計が前記反射部位にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射部位までの第1距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定部位の前記測定方向における第1座標を測定するステップと、
    前記第1位置と異なる第2位置まで前記測定方向に前記測定物を移動させるステップと、
    前記測定物が前記第2位置にある状態で、前記レーザ干渉計が前記反射部位にレーザ光を前記測定方向に照射することにより、前記レーザ干渉計から前記反射部位までの第2距離を測定するとともに、前記座標測定機が前記測定部位の前記測定方向における第2座標を測定するステップと、
    前記第1距離と前記第2距離との差分と、前記第1座標と前記第2座標との差分とを比較することにより、前記座標測定機の誤差を特定するステップと、
    前記座標測定機の前記測定方向に前記複数の測定対象物体が位置するように前記基準器を載置するステップと、
    前記基準器を載置した後に、前記複数の測定対象物体の間隔を前記座標測定機で測定するステップと、
    前記座標測定機で前記複数の測定対象物体の間隔を測定した結果を前記誤差で補正をすることにより、前記基準器の前記複数の測定対象物体の間隔の校正値を算出するステップと、
    を有する校正方法。
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