JP2011080768A - ガス分析装置 - Google Patents
ガス分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011080768A JP2011080768A JP2009230771A JP2009230771A JP2011080768A JP 2011080768 A JP2011080768 A JP 2011080768A JP 2009230771 A JP2009230771 A JP 2009230771A JP 2009230771 A JP2009230771 A JP 2009230771A JP 2011080768 A JP2011080768 A JP 2011080768A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- gas
- laser
- gas analyzer
- scattered light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
【解決手段】本実施例に係るガス分析装置10Aは、燃料ガスを抜出す燃料ガス抜出し管12と、レーザ光13を発振するレーザ照射装置14と、レーザ照射装置14より発振されたレーザ光13を燃料ガス抜出し管12の測定チャンバー15内に照射する光照射手段16Aと、燃料ガスにレーザ光13を照射することで発生する散乱光17を受光する受光手段18Aと、受光した散乱光17を測定する測定部19Aと、レーザ照射装置14と光照射手段16Aとを連結し、レーザ照射装置14から発振されたレーザ光13を光照射手段16Aに導光する第1の光ファイバ20と、受光手段18Aと測定部19Aとを連結し、受光手段18Aで受光された散乱光17を測定部19Aに導光する第2の光ファイバ21と、を有する。
【選択図】図1
Description
また、第1の導光体及び第2の導光体を介してレーザ光を測定チャンバー内に照射すると共に、散乱光を測定部に伝達することができるため、制御装置等を現場環境の外側の防塵、調温、調湿された環境に設置することができる。
これにより、ガス測定装置を設置する際には、除震設備や光軸のずれを調整する調整設備を設ける必要がないため、設備費用を抑えることができると共に、メンテナンス性を向上させることもできる。
図1は、本発明による実施例1に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図であり、図2は、図1中のA−A方向から見たときの構成を簡略に示す図である。
図1に示すように、本実施例に係るガス分析装置10Aは、被測定ガスとして燃料ガス11を抜出す燃料ガス抜出し管(被測定ガス抜出し管)12と、レーザ光13を発振するレーザ照射装置(レーザ発振部)14と、レーザ照射装置14より発振されたレーザ光13を燃料ガス抜出し管12の測定チャンバー15内に照射するための光照射手段16Aと、燃料ガス11にレーザ光13を照射することで発生する散乱光17を受光する受光手段18Aと、受光した散乱光17を測定する測定部19Aと、レーザ照射装置14と光照射手段16Aとを連結し、レーザ照射装置14から発振されたレーザ光13を光照射手段16Aに導光する第1の導光体として第1の光ファイバ20と、受光手段18Aと測定部19Aとを連結し、受光手段18Aで受光された散乱光17を測定部19Aに導光する第2の導光体として第2の光ファイバ21と、を有するものである。
また、第1の光ファイバ20及び第2の光ファイバ21を介してレーザ光13を測定チャンバー15内に照射すると共に、散乱光17を測定部19Aに伝達することができるため、制御装置等の電器機器類を現場環境の外側の防塵、調温、調湿された環境に設置することができる。
また、分岐部40は、図3に示すように、2つに分岐するものに限定されるものではなく、3つ以上に分岐するようにしてもよい。
図4は、本発明による実施例2に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図である。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10Aの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
図5は、本発明による実施例3に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図である。
本実施例に係るガス分析装置10Cは、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A又は図4に示す実施例2に係るガス分析装置10Bの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
図6は、本発明による実施例4に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図である。
本実施例に係るガス分析装置10Dは、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図5に示す実施例3に係るガス分析装置10Cの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
即ち、図6に示すように、本実施例に係るガス分析装置10Dの測定チャンバー15の突出部26−3には、窓29−1、集光レンズ30−1、フィルタ31が散乱光17の入射方向順に設けられ、測定チャンバー15の突出部26−3と対向するように設けられる突出部26−4には、窓29−2、集光レンズ30−2が散乱光17の入射方向側から順に設けられている。
図7は、本発明による実施例5に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図である。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図6に示す実施例4に係るガス分析装置10Dの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
即ち、本実施例に係るガス分析装置10Eは、第2の光ファイバ21を第2の光ファイバ21−1、21−2に分岐する分岐部47を有し、第2の光ファイバ21−1に受光手段18Aで受光されるレーザ光13を除去するフィルタ48が連結され、第2の光ファイバ21−2がPD41に連結され、散乱光17を分光器35とPD41に各々導光するようにしている。
図8は、本発明による実施例6に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図である。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図7に示す実施例5に係るガス分析装置10Eの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
図11は、本発明による実施例7に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図であり、図12は、照射部の構成を簡略に示す図であり、図13は、図12のA−A方向から見た図である。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図8に示す実施例6に係るガス分析装置10F−1の構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
図16は、本発明による実施例8に係るガス分析装置の構成を簡略に示す概念図であり、図17は、図16のA−A方向から見た時の断面図である。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図8に示す実施例6に係るガス分析装置10F−1の構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図16に示す実施例8に係るガス分析装置10Hの構成と同様であるため、同一部材には同一の符号を付して重複した説明は省略する。
また、本実施例に係るガス分析装置は、図1に示す実施例1に係るガス分析装置10A乃至図16に示す実施例8に係るガス分析装置10Hの構成と同様であるため、光照射手段と、受光手段との構成を示す図のみを用いて説明する。
図20は、本発明による実施例9に係るガス分析装置の構成を一部を簡略に示す概念図であり、図21は、図20のA−A方向から見た図である。
図20に示すように、本実施例に係るガス分析装置は、第1の光ファイバ20の周囲に複数の第2の光ファイバ21が設けられ、第1の光ファイバ20と第2の光ファイバ21との先端を覆うように設けられる筒体91を有する。光照射手段16Dは、第1の光ファイバ20からレーザ光13が照射される照射部23と、第1の光ファイバ20より照射されるレーザ光13を集光するレンズ25と、で構成されている。また、受光手段18Fは、測定チャンバー15(図1参照)内に第2の光ファイバ21の先端を覆うように設けられる受光用筒体92と、受光用筒体92内の散乱光17の入射方向側に設けられ、散乱光17を集光する集光レンズ30と、散乱光17のみ通過させるフィルタ31と、で構成されている。
11 燃料ガス
12 燃料ガス抜出し管
13 レーザ光
14 レーザ照射装置(レーザ発振部)
15 測定チャンバー
16A〜16D 光照射手段
17 散乱光
18A〜18F 受光手段
19A、19B 測定部
20 第1の光ファイバ
21、21−1、21−2 第2の光ファイバ
22 煙道
23 照射部
24、61、91 筒体
25 レンズ
26−1〜26−3 突出部
27 ファイバアダプタ
28 ダンパ(遮蔽部材)
29 窓
30 集光レンズ
30a 93、95、96 リングマウント
31 フィルタ
32 受光部
33、38、53、64、75、83、94、97 不活性ガス
34、39、54、65、76、84 不活性ガス供給部(不活性ガス供給手段)
35 分光器
36 検出器
37 制御装置
41 PD
43 紫外レーザ光照射装置
44A、44B 紫外レーザ光
45 フィルタ
46 第3の光ファイバ
47 分岐部
48 フィルタ
51、62、71 内筒
52、63、72 外筒
73 孔
74、85 リングポート
77 不活性ガス供給管
80 ビーム径調整手段
81 レーザ光導光管
82a〜82d 反射板
83−1、83−2 ビーム径調整部
84−1、84−2 凹レンズ
85−1、85−2 凸レンズ
86 ハーフミラー
87 出力計
88 計測装置
92 受光用筒体
95 リングマウント
95a ガス通気通路
96a 孔
Claims (29)
- 被測定ガスを抜出す被測定ガス抜出し管と、
レーザ光を発振するレーザ発振部と、
該レーザ発振部より発振されたレーザ光を前記被測定ガス抜出し管の測定チャンバー内に照射するための少なくとも1つの光照射手段と、
前記被測定ガスにレーザ光を照射することで発生する散乱光を受光する受光手段と、
受光した散乱光を測定する測定部と、
前記レーザ発振部と前記光照射手段とを連結し、前記レーザ発振部から発振されたレーザ光を前記光照射手段に導光する第1の導光体と、
前記受光手段と前記測定部とを連結し、前記受光手段で受光された散乱光を前記測定部に導光する第2の導光体と、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1において、
前記光照射手段が、
前記第1の導光体からレーザ光が照射される照射部と、
前記測定チャンバー内に前記第1の導光体の先端を覆うように設けられる筒体と、
前記第1の導光体より照射されるレーザ光を集光するレンズと、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1又は2において、
前記受光手段が、
前記散乱光が透過可能な窓と、
前記散乱光を集光する集光レンズと、
前記散乱光のみ通過させるフィルタと、
前記散乱光を受光するための受光部と、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至3の何れか一つにおいて、
前記測定部が、
前記散乱光の特定波長の光を分光する分光器と、
分光器により分光された散乱光を検出するICCDカメラと、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1又は2において、
前記受光手段が、
前記散乱光が透過可能な窓と、
前記散乱光を集光する集光レンズと、
前記散乱光を受光するための受光部と、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項5において、
前記測定部が、フォトダイオードを有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至3の何れか一つにおいて、
前記レーザ発振部が、波長が紫外領域の紫外レーザ光を照射し、
前記第1の導光体が前記レーザ発振部より発振される紫外レーザ光の一部を除去するフィルタと連結されていることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至7の何れか一つにおいて、
前記受光手段が前記測定チャンバーに少なくとも二つ設けられることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至7の何れか一つにおいて、
前記第2の導光体が、前記散乱光を二つ以上に分岐することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1において、
前記光照射手段が、
前記第1の導光体からレーザ光が照射される照射部と、
前記測定チャンバー内に前記第1の導光体の先端を覆うように設けられる内筒と、
前記内筒を覆うように設けられる外筒と、
からなる二重管で形成されていることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10において、
前記受光手段が、
前記散乱光が透過可能な窓と、
前記散乱光を集光する集光レンズと、
前記散乱光を受光するための受光部と、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10において、
前記受光手段が、
前記測定チャンバー内に前記第2の導光体の先端を覆うように設けられる筒体と、
該筒体の前記散乱光の入口部に設けられ、前記散乱光を集光する集光レンズと、
前記散乱光を受光するための受光部と、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10において、
前記受光手段が、
前記測定チャンバー内に前記散乱光を受光するための受光部を覆うように設けられる内筒と、
前記内筒を覆うように設けられる外筒と、
からなる二重管で形成されていることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至13の何れか一つにおいて、
前記測定部が、
前記散乱光の特定波長の光を分光する分光器と、
分光器により分光された散乱光を検出するICCDカメラと、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至14の何れか一つにおいて、
前記測定部が、フォトダイオードを有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至15の何れか一つにおいて、
前記第2の導光体が、前記散乱光を二つ以上に分岐することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至16の何れか一つにおいて、
前記第2の導光体が前記受光手段で受光されるレーザ光を除去するフィルタと連結されていることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至12、14乃至17の何れか一つにおいて、
前記測定チャンバー内に不活性ガスを供給することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至18の何れか一つにおいて、
前記内筒と前記外筒との間に不活性ガスを供給することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項10乃至18の何れか一つにおいて、
前記内筒内に不活性ガスを供給することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項20において、
前記光照射手段が、
前記内筒内に前記第1の導光体から照射されるレーザ光を集光するレンズと、
前記内筒内に設けられ、周方向に複数の孔が設けられ、前記レンズを前記内筒内に支持するレンズ挟持部材とを有し、
前記内筒内に供給される不活性ガスを前記測定チャンバー内に導出することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1において、
前記第1の導光体の周囲に複数の第2の導光体が設けられ、
前記第1の導光体と前記第2の導光体との先端を覆うように設けられる筒体と、を有し、
前記光照射手段が、
前記第1の導光体からレーザ光が照射される照射部と、前記第1の導光体より照射されるレーザ光を集光するレンズと、で構成され、
前記受光手段が、前記測定チャンバー内に前記第2の導光体の先端を覆うように設けられる受光用筒体と、該受光用筒体内に設けられ、前記散乱光を集光する集光レンズと、前記散乱光のみ通過させるフィルタと、で構成されてなることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項22において、
前記受光手段が、
前記受光用筒体内に設けられ、周方向に複数の孔が設けられ、前記集光レンズを前記受光用筒体内に支持するレンズ挟持部材を有し、
前記受光用筒体内に供給される不活性ガスを前記測定チャンバー内に導出することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項22又は23において、
前記測定部が、
前記散乱光の特定波長の光を分光する分光器と、
分光器により分光された散乱光を検出するICCDカメラと、
を有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項22又は23において、
前記測定部が、フォトダイオードを有することを特徴とするガス分析装置。 - 請求項22乃至25の何れか一つにおいて、
前記第2の導光体が前記受光手段で受光されるレーザ光を除去するフィルタと連結されていることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項22乃至26の何れか一つにおいて、
複数の前記受光用筒体同士の間に形成される空間内に不活性ガスを供給し、前記測定チャンバー内に導出されることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至27の何れか一つにおいて、
前記レーザ発振部と前記第1の導光体との間に前記レーザ光のビーム径を調整するビーム径調整手段と、
複数の第1の導光体を含むレーザ光導光管と、を有し、
前記第1の導光体に前記レーザ光のレーザ出力に応じ、前記レーザ光のビーム径を調整して照射させることを特徴とするガス分析装置。 - 請求項1乃至28の何れか一つにおいて、
前記測定部、前記レーザ発振部が防塵、調温、調湿された環境に設けられることを特徴とするガス分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009230771A JP2011080768A (ja) | 2009-10-02 | 2009-10-02 | ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009230771A JP2011080768A (ja) | 2009-10-02 | 2009-10-02 | ガス分析装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014203521A Division JP5901721B2 (ja) | 2014-10-01 | 2014-10-01 | ガス分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011080768A true JP2011080768A (ja) | 2011-04-21 |
Family
ID=44074970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009230771A Pending JP2011080768A (ja) | 2009-10-02 | 2009-10-02 | ガス分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011080768A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101450845B1 (ko) | 2012-12-17 | 2014-10-15 | 지에스건설 주식회사 | 고온고압 가스화 반응기의 고체연료 입자 발광강도 측정장치 |
EP2752656A4 (en) * | 2011-09-01 | 2015-04-29 | Mitsubishi Hitachi Power Sys | MECHANISM FOR ANALYZING A FLUID COMPOSITION, DEVICE FOR MEASURING THE AMOUNT OF HEAT GENERATED AND CENTRAL ELECTRIC, AND METHOD FOR ANALYZING A LIQUID COMPOSITION |
US9551617B2 (en) | 2013-07-11 | 2017-01-24 | Shimadzu Corporation | Raman spectroscopic analyzer |
WO2019111953A1 (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ラマン散乱光取得装置、これを備える組成分析装置、及びガスタービンプラント |
JP2020034476A (ja) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | 株式会社四国総合研究所 | 濃度測定装置および濃度測定方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61281950A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-12 | Hitachi Ltd | けい光分析法及び装置 |
JPH01259242A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | ブレイクダウン分光分析プローブ |
JPH02275327A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-09 | Mitsubishi Materials Corp | セメント焼成炉監視方法及びその装置 |
JPH0448237A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス濃度計測装置 |
JPH0450639A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-19 | Nikko Kyodo Co Ltd | 光学式試料分析装置 |
JPH04274743A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Sumitomo Metal Ind Ltd | レーザー発光分析方法 |
JP2002510395A (ja) * | 1997-07-02 | 2002-04-02 | スペクトラ コード インコーポレイテッド | 高速同定ラマンシステム |
JP2002286644A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス化装置 |
-
2009
- 2009-10-02 JP JP2009230771A patent/JP2011080768A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61281950A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-12 | Hitachi Ltd | けい光分析法及び装置 |
JPH01259242A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | ブレイクダウン分光分析プローブ |
JPH02275327A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-09 | Mitsubishi Materials Corp | セメント焼成炉監視方法及びその装置 |
JPH0450639A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-19 | Nikko Kyodo Co Ltd | 光学式試料分析装置 |
JPH0448237A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス濃度計測装置 |
JPH04274743A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Sumitomo Metal Ind Ltd | レーザー発光分析方法 |
JP2002510395A (ja) * | 1997-07-02 | 2002-04-02 | スペクトラ コード インコーポレイテッド | 高速同定ラマンシステム |
JP2002286644A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス化装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2752656A4 (en) * | 2011-09-01 | 2015-04-29 | Mitsubishi Hitachi Power Sys | MECHANISM FOR ANALYZING A FLUID COMPOSITION, DEVICE FOR MEASURING THE AMOUNT OF HEAT GENERATED AND CENTRAL ELECTRIC, AND METHOD FOR ANALYZING A LIQUID COMPOSITION |
KR101450845B1 (ko) | 2012-12-17 | 2014-10-15 | 지에스건설 주식회사 | 고온고압 가스화 반응기의 고체연료 입자 발광강도 측정장치 |
US9551617B2 (en) | 2013-07-11 | 2017-01-24 | Shimadzu Corporation | Raman spectroscopic analyzer |
WO2019111953A1 (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ラマン散乱光取得装置、これを備える組成分析装置、及びガスタービンプラント |
JP2019100984A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ラマン散乱光取得装置、これを備える組成分析装置、及びガスタービンプラント |
KR20200090891A (ko) * | 2017-12-07 | 2020-07-29 | 미츠비시 히타치 파워 시스템즈 가부시키가이샤 | 라만 산란광 취득 장치, 이것을 구비하는 조성 분석 장치 및 가스 터빈 플랜트 |
JP2021152555A (ja) * | 2017-12-07 | 2021-09-30 | 三菱パワー株式会社 | ラマン散乱光取得装置、これを備える組成分析装置、及びガスタービンプラント |
KR102390528B1 (ko) | 2017-12-07 | 2022-04-25 | 미츠비시 파워 가부시키가이샤 | 라만 산란광 취득 장치, 이것을 구비하는 조성 분석 장치 및 가스 터빈 플랜트 |
US11371942B2 (en) | 2017-12-07 | 2022-06-28 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Raman scattered light acquisition device, composition analysis device comprising same, and gas turbine plant |
JP2020034476A (ja) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | 株式会社四国総合研究所 | 濃度測定装置および濃度測定方法 |
JP7141057B2 (ja) | 2018-08-31 | 2022-09-22 | 株式会社四国総合研究所 | 濃度測定装置および濃度測定方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7034302B2 (en) | Optical steam quality measurement system and method | |
EP1693665B1 (en) | Method and apparatus for trace gas detection | |
JP2011080768A (ja) | ガス分析装置 | |
CN109765468B (zh) | 一种基于光纤环形谐振腔的gis内部sf6分解组分原位检测装置 | |
KR100731864B1 (ko) | 레이저 분광 분석 장치 | |
JP2016223880A (ja) | 分析装置および排ガス処理システム | |
JP2010038560A (ja) | 元素分析装置および元素分析方法 | |
JP2010531458A5 (ja) | ||
JPH09184808A (ja) | エアロゾル分析装置 | |
JP2009270917A (ja) | レーザ式ガス分析計の取付構造 | |
CN112730383A (zh) | 一种用于在线检测的光纤阵列libs探测系统 | |
JPWO2015005075A1 (ja) | ラマン分光分析装置 | |
JP2008256585A (ja) | 元素分析装置および元素分析方法 | |
JP5901721B2 (ja) | ガス分析装置 | |
JP2012242311A (ja) | ガス分析装置 | |
KR20150051579A (ko) | 레이저 유도 플라즈마 분광 분석장치 | |
JP6364305B2 (ja) | 水素ガス濃度計測装置および方法 | |
JP2010038557A (ja) | 元素分析装置および元素分析方法 | |
JPS6146773B2 (ja) | ||
CN112129743A (zh) | 一种基于libs技术在线测量烟气汞含量系统和方法 | |
JP2005024250A (ja) | 光計測装置 | |
JP3872745B2 (ja) | 気体成分計測方法及び装置 | |
JP5325091B2 (ja) | ガス成分計測装置及びガス成分分析方法 | |
RU89233U1 (ru) | Газоанализатор | |
KR20220126944A (ko) | 진공용 박막 두께 측정 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130321 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130326 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140224 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140812 |