JP2011071209A - 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 - Google Patents
洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011071209A JP2011071209A JP2009219277A JP2009219277A JP2011071209A JP 2011071209 A JP2011071209 A JP 2011071209A JP 2009219277 A JP2009219277 A JP 2009219277A JP 2009219277 A JP2009219277 A JP 2009219277A JP 2011071209 A JP2011071209 A JP 2011071209A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drying
- cleaning
- substrate
- processed
- drying chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】まず、洗浄槽52内に収容された洗浄液DIWに被処理基板Wを接触させて洗浄処理する。次に被処理基板Wを洗浄槽52内から乾燥室10内に移動し、乾燥室10内の被処理基板Wの上端部Tを加熱装置13によって乾燥する。その後、乾燥室10内の被処理基板Wに向けて乾燥ガスG1を供給することにより、乾燥ガスG1を被処理基板Wに接触させ、被処理基板W表面の洗浄液DIWを除去する。
【選択図】図6
Description
まず図1乃至図4により、本実施の形態による洗浄・乾燥処理装置の構成について説明する。
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、具体的には上述した洗浄・乾燥処理装置50を用いた洗浄・乾燥処理方法について、図5乃至図7を用いて説明する。なお、以下の動作は制御部100によって行われる。
まず図5(a)に示すように、シャッタ66を開状態にして、洗浄槽52内にウエハWを収容した状態で薬液例えばフッ化水素酸(HF)を供給ノズル55から噴出させ、薬液(HF)をウエハWに接触させてウエハW表面に付着する酸化膜を除去する。このようにして薬液処理を行った後、洗浄槽52内の薬液を排出又は純水DIWで置換する。なお、シャッタ66を閉状態にして薬液処理を行っても良い。この場合、洗浄槽52内の薬液(HF)の乾燥室10への飛散等を阻止することができ、また、乾燥室10の内壁が薬液雰囲気によって汚染されることを防止することができる。
次に、図5(b)に示すように、シャッタ66を開状態にして、供給ノズル55から純水DIW(洗浄液)を供給して洗浄槽52内に純水DIWを充満させると共に、純水DIWを内槽52aから外槽52bにオーバーフローさせる。これにより、洗浄槽52内のウエハWは純水DIWに浸漬されて一次洗浄処理が施される(洗浄処理工程)。なおシャッタ66を閉状態にして、同様に供給ノズル55から供給される純水DIWをオーバーフローさせてウエハWを一次洗浄処理しても良い。この場合、洗浄槽52内の純水DIWの乾燥室10への飛散等を阻止することができ、また、乾燥室10の内壁が水分雰囲気によって汚染されることを防止することができる。
続いて、シャッタ66を開状態にする。次にウエハボート54を上昇させてウエハWを洗浄槽52内から乾燥室10内に移動し、ウエハWを乾燥室10内に収容する(移動工程)(図6(a)参照)。この状態で、シャッタ66を閉状態にし、ウエハWの表面に残留する薬液(例えばHF)および純水DIW(洗浄液)の除去を行う(乾燥ガス接触処理)(図6(b)(c)参照)。
ウエハWに乾燥ガスを接触させた後、シャッタ66を開状態にして、ウエハボート54を下降させて、ウエハWを洗浄槽52内に移動する。図6(d)に示すように、シャッタ66を開状態としたままで、洗浄槽52内にウエハWを収容する。この状態で供給ノズル55から純水DIWを供給するとともに、純水DIWをオーバーフローさせて二次洗浄処理を行う。あるいは、シャッタ66を閉状態にして、同様に供給ノズル55から純水DIWを供給するとともに、純水DIWをオーバーフローさせて二次洗浄処理を行っても良い。
二次洗浄処理が完了した後、シャッタ66を開状態にする。次にウエハボート54を上昇させてウエハWを洗浄槽52内から乾燥室10内に移動し、ウエハWを乾燥室10内に収容する(移動工程)(図7(a)参照)。この状態でシャッタ66を閉状態にし、ウエハWの表面に残留する純水DIWの除去を行う(乾燥処理)(図7(b)−(d)参照)。
10 乾燥室
11 乾燥室本体
12 赤外線透過部材(光透過部材)
13 赤外線ヒーター(加熱装置)
14 ガスノズル(流体供給部)
50 洗浄・乾燥処理装置
52 洗浄槽
54 ウエハボート(保持手段)
Claims (8)
- 被処理基板の洗浄・乾燥処理方法において、
洗浄槽内に収容された洗浄液に被処理基板を接触させて洗浄処理する洗浄処理工程と、
被処理基板を洗浄槽内から乾燥室内に移動する移動工程と、
乾燥室内の被処理基板の上端部を加熱装置によって乾燥する第1乾燥工程と、
乾燥室内の被処理基板に向けて乾燥流体を供給することにより、乾燥流体を被処理基板に接触させ、被処理基板表面の洗浄液を除去する洗浄液除去工程とを備えたことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 乾燥流体は、有機溶剤を含むことを特徴とする請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法。
- 洗浄液除去工程の後、被処理基板表面の有機溶剤を乾燥させる第2乾燥工程が設けられていることを特徴とする請求項2記載の洗浄・乾燥処理方法。
- 第2乾燥工程は、乾燥室内に加熱された窒素ガスを供給することにより、被処理基板表面の有機溶剤を乾燥させる工程からなることを特徴とする請求項3記載の洗浄・乾燥処理方法。
- 第2乾燥工程は、加熱装置により被処理基板表面の有機溶剤を乾燥させる工程からなることを特徴とする請求項3または4記載の洗浄・乾燥処理方法。
- 加熱装置は、赤外線を照射する赤外線ヒーターからなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載の洗浄・乾燥処理方法。
- 被処理基板を収容する乾燥室本体と、乾燥室本体内に設けられ、乾燥室本体内の被処理基板の上端部を乾燥する加熱装置と、乾燥室内の被処理基板に向けて乾燥流体を供給する流体供給部とを有する乾燥室と、
乾燥室下方に設けられ、被処理基板の洗浄液を収容する洗浄槽と、
被処理基板を保持してこの被処理基板を洗浄槽内と乾燥室内との間で移動する保持手段と、
乾燥室、洗浄槽、および保持手段を制御する制御部とを備え、
制御部は、
洗浄槽を制御して被処理基板を洗浄液に接触させて洗浄処理させ、
保持手段を制御して被処理基板を洗浄槽内から乾燥室内に移動させ、
加熱装置を制御して乾燥室内の被処理基板の上端部を乾燥させ、
流体供給部を制御して乾燥室内の被処理基板に向けて乾燥流体を供給することにより、乾燥流体を被処理基板に接触させ、被処理基板表面の洗浄液を除去させることを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 被処理基板の洗浄・乾燥処理方法に使用され、コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記録媒体において、
前記洗浄・乾燥処理方法は、
洗浄槽内に収容された洗浄液に被処理基板を接触させて洗浄処理する洗浄処理工程と、
被処理基板を乾燥室内に移動する移動工程と、
乾燥室内の被処理基板の上端部を加熱装置によって乾燥する第1乾燥工程と、
乾燥室内の被処理基板に向けて乾燥流体を供給することにより、乾燥流体を被処理基板に接触させ、被処理基板表面の洗浄液を除去する洗浄液除去工程とを備えたことを特徴とする記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009219277A JP5362503B2 (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009219277A JP5362503B2 (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011071209A true JP2011071209A (ja) | 2011-04-07 |
JP5362503B2 JP5362503B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=44016226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009219277A Expired - Fee Related JP5362503B2 (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5362503B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113539937A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-22 | 江西龙芯微科技有限公司 | 一种晶圆承载装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0677203A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-18 | Tokyo Electron Ltd | 乾燥処理装置 |
JPH08241881A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-09-17 | Sharp Corp | 基板乾燥装置 |
JPH10284459A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-23 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄・乾燥処理装置 |
JPH11354485A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置及び方法 |
JP2002299310A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2003528444A (ja) * | 1999-09-09 | 2003-09-24 | セミトゥール・インコーポレイテッド | 熱的毛細管現象式乾燥装置 |
JP2009141383A (ja) * | 2004-04-02 | 2009-06-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、記録媒体およびソフトウエア |
-
2009
- 2009-09-24 JP JP2009219277A patent/JP5362503B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0677203A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-18 | Tokyo Electron Ltd | 乾燥処理装置 |
JPH08241881A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-09-17 | Sharp Corp | 基板乾燥装置 |
JPH10284459A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-23 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄・乾燥処理装置 |
JPH11354485A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置及び方法 |
JP2003528444A (ja) * | 1999-09-09 | 2003-09-24 | セミトゥール・インコーポレイテッド | 熱的毛細管現象式乾燥装置 |
JP2002299310A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009141383A (ja) * | 2004-04-02 | 2009-06-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、記録媒体およびソフトウエア |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113539937A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-22 | 江西龙芯微科技有限公司 | 一种晶圆承载装置 |
CN113539937B (zh) * | 2021-07-09 | 2023-03-03 | 江西龙芯微科技有限公司 | 一种晶圆承载装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5362503B2 (ja) | 2013-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100395997B1 (ko) | 세정·건조처리장치,기판의처리장치및기판의처리방법 | |
KR101390900B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JP5802407B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4862903B2 (ja) | 基板処理装置、濾材の再生方法及び記憶媒体 | |
US9070549B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5371854B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP3837026B2 (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
KR20140123479A (ko) | 기판 수용 용기의 퍼지 장치 및 퍼지 방법 | |
KR20110102180A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
KR101507485B1 (ko) | 액 처리 장치 및 액 처리 방법 | |
JP3128643B2 (ja) | 洗浄・乾燥処理装置 | |
TWI584390B (zh) | A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a memory medium | |
KR101736845B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
TWI385719B (zh) | A substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program, and a recording medium | |
JP5579054B2 (ja) | ウエハ無電解めっき装置 | |
JP2010525166A5 (ja) | ||
KR101870660B1 (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
CN107924834B (zh) | 基板处理方法及基板处理装置 | |
JP5362503B2 (ja) | 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 | |
JP2002134588A (ja) | 基板搬送処理装置 | |
JP5184477B2 (ja) | 乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、乾燥処理方法、および記録媒体 | |
KR102113931B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP3156074B2 (ja) | 洗浄・乾燥処理装置 | |
KR20150138975A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
US20220208564A1 (en) | Apparatus and method for treating substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130809 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130904 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5362503 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |