JP2011064664A - コンタクトプローブ - Google Patents

コンタクトプローブ Download PDF

Info

Publication number
JP2011064664A
JP2011064664A JP2009236660A JP2009236660A JP2011064664A JP 2011064664 A JP2011064664 A JP 2011064664A JP 2009236660 A JP2009236660 A JP 2009236660A JP 2009236660 A JP2009236660 A JP 2009236660A JP 2011064664 A JP2011064664 A JP 2011064664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
tip
contact
inspected
contact probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009236660A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Kimoto
軍生 木本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2009236660A priority Critical patent/JP2011064664A/ja
Publication of JP2011064664A publication Critical patent/JP2011064664A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】 従来よりも小さな接触荷重と最小限のスクラブを付与するだけでプローブと被検査体の電気的導通を取ることができると共に、プローブへの不純物の付着を抑制してクリーニング回数を低減するコンタクトプローブを提供すること。
【解決手段】 電極パッドに接触するプローブ先端平面又は曲面上に複数の凹凸部を有し、凸部先端と該凸部に連続する凹部底面との高低差が0.15μm以上5μm以下であり、かつ、該凸部先端が鋭角である凹凸部の組が少なくとも2つ以上存在することを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、LSIなどの電子デバイスの製造工程において、ウエハ上に形成された複数のチップの回路検査に使用するコンタクトプローブ(接触子)に関し、特に、チップ上に配列される電極パッドに対しウエハ状態のままプローブを接触させ、一括してチップの電気的導通によりウエハに構成された回路検査を行うためのプローブカードに搭載されるコンタクトプローブに関するものである。
半導体技術の進歩に伴って電子デバイスの集積度が向上し、ウエハ上に形成される各チップにおいて、チップ上の電極パッドの数も増加し、それにつれてパッド面積の縮小化、パッドピッチの狭小化などによるパッド配列の微細化が進んでいる。
一方、被検査物であるLSIチップの電極パッドは、一般にアルミ合金膜や金メッキ等で形成され、その表面は酸化皮膜等で覆われている。この電極パッドにプローブの先端を接触させる際、プローブ先端がパッドに接触した後さらに垂直方向に一定の距離で押圧(オーバードライブ)されると共に、電極パッド表面を水平方向に擦る(スクラブ)ことにより酸化皮膜等が破壊され、プローブと電極パッドとの確実な導通を得るという機能を有している。
特に前述のアルミ合金膜は20nm(ナノメータ)前後の薄膜であり、その下にアルミ層が存在している。スクラブ動作等でアルミ合金膜を突き破ってアルミ層にまで到達したプローブには一般的にはアルミ屑が付着する。この屑は酸化してアルミ合金化し絶縁材として作用すると言われている。そのためプローブによる検査回数は限定され適切な間隔で電気的道通による検査の場所と異なる場所で塵や屑の除去(以下クリーニングと云う)を行っている。
前述のクリーニング動作が必要であることは、検査装置の稼働率低下のならびに、検査の信頼性を悪化する要因にもなり解決が望まれている。
従来のプローブ先端部は、プローバ装置におけるプローブ先端位置の画像認識をし易くする等の目的により、平坦であるものが多く存在する。従来のコンタクトプローブのプローブ動作に対する電極パッド表面との関係を図4に示す。プローブ先端部41が被測定面に接触し、離脱するまでの一連の動作について説明するものである。図4(a)に示すように、被測定物は、基板46の表面にアルミ電極47が配置されたものであり、アルミ電極47の表面が被測定面である。アルミ電極47の表面は空気中での放置により酸化膜40によって覆われている。最初に、被測定面の真上からコンタクトプローブの先端部41が降下し、平坦面45が被測定面に接触する。
平坦面45を被測定面に押し付けると、図4(b)に示すように、スプリング部(図示していない。)の弾性変形によって、先端部41が矢印48に示すように変位する。このとき、先端部41は被測定面に押しつけられているので、先端部41は、平坦面45を被測定面に接触させたまま、図中右向きに移動、すなわち、スクラブが行なわれる。このとき、先端部41によって酸化膜40が削り取られ、キズ44が形成されるが、同時に先端部41は、酸化膜40の下に存在するアルミ電極47と電気的接触を得ることができる。この状態でコンタクトプローブを介した検査が行なわれる。スクラブに伴い、先端部41の表面には、スクラブ屑43が付着する。
検査終了後に、コンタクトプローブを上昇する。このとき、先端部41は、図4(c)に示すように、スプリング部の弾性変形が回復する間に、図中の矢印の向きにスクラブしながら移動し、その後上昇する場合がある。
一方、プローブ先端部と電極パッドとの接触をより確実にするため、プローブ先端部を鋭利に加工し、スクラブ量を低減する反面、アルミ電極内に入り込んだ状態で電気的接続を確保することを目的としたプローブも存在する(特許文献1、特許文献2)。この場合のプローブの動作に対するパッド表面との関係を図5に示す。プローブ先端部51の先端部55は、最小幅が1μm〜2μmに加工されたものである。
プローブ先端部51が被測定面に接触し、離脱するまでの一連の動作について説明する。図5(a)に示すように、被測定物は、基板56の表面にアルミ電極57が配置されたものであり、アルミ電極57の表面が被測定面である。アルミ電極57の表面は空気中での放置により酸化膜50によって覆われている。最初に、被測定面の真上からコンタクトプローブの先端部51が降下し、先端部55が被測定面に接触する。
プローブ先端部51を被測定面に押し付けると、図5(b)に示すように、スプリング部(図示していない。)の弾性変形によって、先端部51が矢印58に示すように変位する。このとき、先端部55は被測定面に押しつけられているので、先端部55は被測定面からアルミ電極57に深く入り込んだ状態で、図中右向きに移動、すなわち、スクラブが行なわれる。このとき、先端部55によって酸化膜50及びアルミ電極57の一部が削り取られ、キズ54が形成される。この状態でコンタクトプローブを介した検査が行なわれる。図5(c)にてプローブ先端部51を離脱後、先端部51の表面には、スクラブ屑55が付着する。
特開2001−050979号公報 特開2006−208235号公報
しかしながら、被検査電極の高さのバラツキは一般に50μm以上あり、プローブカード側の高さのバラツキも考慮に入れると、約100μm程度の高さのバラツキがある。多数本のコンタクトプローブを配置したプローブカードを使用して安定で確実な電気的導通を得るためには、必然的にオーバードライブ量を大きくする必要があり、コンタクトプローブを押し付けるときに発生する被測定面への接触荷重の管理が難しく、接触荷重が大き過ぎる場合、図5(b)に示すようにアルミ電極さらにはその下にある回路への破損が生じやすいという問題が生じる。
また、接触荷重が大きいと、アルミ電極の削り量が大きくプローブ先端部に付着するアルミ屑が増し、クリーニング回数の増加すなわち検査効率の低下に繋がるとともに、除去できない屑が永久付着物となって検査不良の増加の原因となる。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、従来よりも小さな接触荷重と最小限のスクラブを付与するだけでプローブと被検査体の電気的導通を取ることができると共に、プローブへの不純物の付着を抑制してクリーニング回数を低減するコンタクトプローブを提供することを目的とするものである。
本発明の請求項1に記載のコンタクトプローブは、電極パッドに接触するプローブ先端平面又は曲面上に複数の凹凸部を有し、凸部先端と該凸部に連続する凹部底面との高低差が0.15μm以上5μm以下であり、かつ、該凸部先端が鋭角である凹凸部の組が少なくとも2つ以上存在することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載のコンタクトプローブは、電極パッドに接触するプローブ先端平面又は曲面上に、該プローブ先端平面又は曲面より0.15μm以上5μm以下の高さを有する円錐状又は角錐状の突起物を少なくとも2個以上設けたことを特徴とする
また、本発明の請求項3に記載のコンタクトプローブは、前記凹凸部又は前記突起物はプローブ先端部と同一材質であることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載のコンタクトプローブは、前記凹凸部又は突起物を含むプローブ先端部を硬質金属(例えばロジウム)によりメッキ処理したことを特徴とするものである。
本発明によれば、従来よりも小さな接触荷重と最小限のスクラブを付与するだけでプローブと被検査体の電気的導通を取ることができると共に、プローブへの不純物の付着を抑制してクリーニング回数を低減するコンタクトプローブを提供することが可能となる。
図1(a)、(b)、(c)はそれぞれ本発明による第1の実施形態であるコンタクトプローブ先端部を示す斜視図である。 図2(a)〜(d)はそれぞれ本発明のプローブの動きを示す概略動作説明図である。 図3は本発明による第2の実施形態であるコンタクトプローブ先端部を示す斜視図である。 図4(a)、(b)、(c)はそれぞれ従来のプローブの動きを示す概略動作説明図である。 図5(a)、(b)、(c)はそれぞれ従来のプローブの動きを示す概略動作説明図である。
以下、図1〜図3に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。
図1(a)は本発明による第1の実施形態のコンタクトプローブを接触面側より見た斜視図である。図1(a)において1は1つのプローブ先端部、10はプローブ1が電極パッド表面と接触する平面又は曲面である。11は、接触面10上に存在する複数の凹凸部である。図1(b)は先端面10が平面である場合の凹凸部11を含むプローブ先端部1の断面図である。図1(b)において、12は凹凸部11の凸部先端、13は凹部底面、θ1は凸部先端角を示す。凹凸部11の形状は、凸部先端12と凹部底面13との距離が0.15μm乃至5μmが適量であり、かつ、凸部先端角θ1は酸化膜22を破壊し易くするため、鋭角(90°以下)であることが望ましい。また、凹凸部11の先端面10上での配置は、概略均等に配置されることが望ましい。図1(c)は先端面10が曲面である場合の凹凸部14を含むプローブ先端部1の断面図である。図1(c)において、15は凹凸部14の凸部先端、16は凹部底面、θ2は凸部先端角を示す。凹凸部14の形状は、凸部先端15と凹部底面16との距離が0.15μm乃至5μmが適量であり、かつ、凸部先端角θ2は酸化膜22を破壊し易くするため、鋭角(90°以下)であることが望ましい。また、凹凸部14の先端面10上での配置は、概略均等に配置されることが望ましい。
図1の構造を有するコンタクトプローブのプローブ動作に対する電極パッド表面との関係を図2に示す。図2はプローブ先端部1が被測定面に接触し、離脱するまでの一連の動作について説明するものである。図2(a)に示すように、被測定物は、基板23の表面にアルミ電極21が配置されたものであり、アルミ電極21の表面が被測定面である。アルミ電極21の表面は空気中での放置により酸化膜22によって覆われている。最初に、被測定面の真上からコンタクトプローブの先端部1が降下し、先端面10が被測定面に接触する。
先端面10を被測定面に押し付けると、図2(b)に示すように、酸化膜22は硬質であるが十分薄い(約20nm)ため、比較的小さな接触荷重でも凹凸部11の凸部により酸化膜22を破壊することができる。このとき、小さな接触荷重であるため先端面10が酸化膜22を破壊するまでには至らない。
次に図1(c)に示すように、プローブのスプリング部(図示していない。)の弾性変形によって、プローブ先端部1が矢印に示すように変位する。このとき、プローブ先端部1は被測定面に押しつけられているので、プローブ先端部1は、先端面10を被測定面に接触させたまま、図中右向きに移動、すなわち、スクラブが行なわれる。このとき、凹凸部11の凸部によって突き破った酸化膜22がスクラブ動作によってさらに削り取られ、キズ24が形成されるが、同時に凹凸部11の凸部により、アルミ電極21と電気的接触を得ることができる。この状態でコンタクトプローブを介した検査が行なわれる。
検査終了後に、図4(d)に示すようにコンタクトプローブを上昇する。このとき、スクラブに伴い、プローブ先端部1の表面にはスクラブ屑25が付着するが、従来のプローブとの比較において格段に少なくすることが出来る。さらに、凹凸部11の凸部先端に付着したスクラブ屑は、次の被測定物のアルミ電極表面酸化膜を突き破る際に脱落することが期待でき、プローブへの不純物の付着を抑制してクリーニング回数を低減することが可能である。
凹凸部11は、電気抵抗値の低減のためプローブ先端部1と同一材質であることが望ましい。また、凹凸部11の耐久性を確保するために、凹凸部11を含むプローブ先端部1を硬質金属(例えばロジウム)によりメッキ処理することが望ましい。さらに、凹凸部11を複数個設けることにより、1つの凸部が接触の繰返し動作に伴い磨耗又は破損した場合でも継続して検査が可能となる。
図3は本発明による第2の実施形態のコンタクトプローブを接触面側より見た斜視図である。図3において3は1つのプローブ先端部、30はプローブ先端部3が電極パッド表面と接触する平面又は曲面である。31は、先端面30上に存在する複数の突起物である。
突起物31の形状は、電極パッド面(図3の上方向)に向かって鋭角となる円錐状又は角錐状であり、先端面30からの高さは、電極パッドに形成されたアルミ酸化膜の概略厚さである20nmを突き破るに必要十分な量として、0.15μm乃至5μmが適量である。また、複数の突起物31の先端面30上での配置は、概略均等に配置されることが望ましい。
第2の実施形態のコンタクトプローブのプローブ動作に対する電極パッド表面との関係及び効果は、図1に示した本発明による第1の実施形態のコンタクトプローブと同一であるため省略する。
本発明のコンタクトプローブは、半導体デバイスの検査用電極パッドの微小化に対応したプローブカードにおいて、従来よりも小さな接触荷重と最小限のスクラブを付与するだけでプローブと被検査体の電気的導通を取ることができ、かつ、プローブへの不純物の付着を抑制してクリーニング回数を低減できるという効果が期待できるものである。
1 プローブ先端部
10 先端面
11 凹凸部
12 凹凸部の凸部先端
13 凹凸部の凹部底面
14 凹凸部
15 凹凸部の凸部先端
16 凹凸部の凹部底面
2 電極パッド
21 アルミ層
22 アルミ酸化膜
23 基板
24 キズ
25 アルミ屑
3 プローブ先端部
30 先端面
31 突起物
41 プローブ先端部
43 アルミ屑
44 キズ
45 平坦面
46 基板
47 アルミ層
48 スクラブ方向
50 アルミ酸化膜
51 プローブ先端部
53 アルミ屑
54 キズ
55 先端部
56 基板
57 アルミ層
58 スクラブ方向

Claims (4)

  1. 被検査体に形成された複数の電極パッドに接触させてテスタ側との間で信号を送受信して前記被検査体の電気的特性検査に用いられるプローブカードにおいて、電極パッドに接触するプローブ先端平面又は曲面上に複数の凹凸部を有し、凸部先端と該凸部に連続する凹部底面との高低差が0.15μm以上5μm以下であり、かつ、該凸部先端が鋭角である凹凸部の組が少なくとも2つ以上存在することを特徴とするコンタクトプローブ。
  2. 被検査体に形成された複数の電極パッドに接触させてテスタ側との間で信号を送受信して前記被検査体の電気的特性検査に用いられるプローブカードにおいて、電極パッドに接触するプローブ先端平面又は曲面上に、該プローブ先端平面又は曲面より0.15μm以上5μm以下の高さを有する円錐状又は角錐状の突起物を少なくとも2個以上設けたことを特徴とするコンタクトプローブ。
  3. 前記凹凸部又は前記突起物はプローブ先端部と同一材質であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のコンタクトプローブ。
  4. 前記凹凸部又は突起物を含むプローブ先端部を硬質金属(例えばロジウム)によりメッキ処理したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のコンタクトプローブ。
JP2009236660A 2009-09-16 2009-09-16 コンタクトプローブ Pending JP2011064664A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009236660A JP2011064664A (ja) 2009-09-16 2009-09-16 コンタクトプローブ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009236660A JP2011064664A (ja) 2009-09-16 2009-09-16 コンタクトプローブ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011064664A true JP2011064664A (ja) 2011-03-31

Family

ID=43951054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009236660A Pending JP2011064664A (ja) 2009-09-16 2009-09-16 コンタクトプローブ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011064664A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104777335A (zh) * 2014-01-09 2015-07-15 本田技研工业株式会社 电流施加装置以及半导体元件的制造方法
KR102518123B1 (ko) * 2022-07-11 2023-04-10 성심세미콘 주식회사 전자 부품 검사용 소켓 및 소켓 핀

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09101326A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Nitto Denko Corp プローブ構造
JPH09133711A (ja) * 1995-11-08 1997-05-20 Nitto Denko Corp プローブ構造およびその製造方法
JP2008014758A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Tokyo Electron Ltd プローブの研磨部材、プローブの研磨方法、プローブカード及びプローブ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09101326A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Nitto Denko Corp プローブ構造
JPH09133711A (ja) * 1995-11-08 1997-05-20 Nitto Denko Corp プローブ構造およびその製造方法
JP2008014758A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Tokyo Electron Ltd プローブの研磨部材、プローブの研磨方法、プローブカード及びプローブ装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104777335A (zh) * 2014-01-09 2015-07-15 本田技研工业株式会社 电流施加装置以及半导体元件的制造方法
JP2015132478A (ja) * 2014-01-09 2015-07-23 本田技研工業株式会社 電流印加装置及び半導体素子の製造方法
US9417264B2 (en) 2014-01-09 2016-08-16 Honda Motor Co., Ltd. Current application device and manufacturing method of semiconductor element
KR102518123B1 (ko) * 2022-07-11 2023-04-10 성심세미콘 주식회사 전자 부품 검사용 소켓 및 소켓 핀

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100442058C (zh) 探针以及探针的制造方法
KR20040069259A (ko) 컨택트 프로브
JP2007303826A (ja) プローブ
KR20080082528A (ko) 선단 회전형 프로브 조립
TWI391667B (zh) 探針
TWI399544B (zh) Contactors for electrical testing and methods for their manufacture
JP2011064664A (ja) コンタクトプローブ
JP2006186133A (ja) 半導体装置の検査装置および検査方法
JP2008233022A (ja) コンタクトプローブ
KR101378717B1 (ko) 전기적 접촉자 및 전기적 접촉자의 접촉방법
JP2010002391A (ja) コンタクトプローブ及びその形成方法
JP2010038803A (ja) コンタクトプローブ及びコンタクトプローブの製造方法
JP2010098046A (ja) プローブカードおよび半導体装置の製造方法
JP5276836B2 (ja) プローブカード
JP2009250697A (ja) 半導体集積回路装置の製造方法およびメンブレン型のプローブ・カード
JP2006208235A (ja) コンタクトプローブ、その製造方法および使用方法ならびにそのコンタクトプローブを備えるプローブカードおよび検査装置
JP5257113B2 (ja) プローブ針
JP2001050979A (ja) プローブカード
JP2003194847A (ja) コンタクトプローブ
JP2009276145A (ja) プローブ
JP2008059831A (ja) 接触子
JP2018040752A (ja) プローブカードおよびプローブ針
JP2007078386A (ja) プローブカードおよび半導体素子検査方法
KR101097147B1 (ko) 프로브 카드의 프로브 구조물 제조방법
JP3902443B2 (ja) コンタクトプローブ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120313

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130510

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130924

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140225