JP2011048393A - マスク検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源1から出射された深紫外線領域のレーザ光を照明光として、所定のパターンが形成されたマスク200に照射する照明光学系2と、2つのTDIセンサ11,12と、照明光が照射されたマスク200の照明領域のうち、互いに異なる検出対象領域からの光を同時に、かつ各別に2つのTDIセンサ11,12に結像させる2つの結像光学系と、2つのTDIセンサ11,12によりそれぞれ検出して得られた2つの像のサイズを一致させる像倍率補正手段と、像倍率補正手段によりサイズが一致された2つの像に基づいて、マスク200の欠陥を検出する信号処理系20とを備える。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係るマスク検査装置100を示すブロック図である。図示のマスク検査装置100は、深紫外線領域のレーザ光(例えば、波長257nm)を出射する光源1と、この光源1から出射されたレーザ光を照明光として、所定のパターンが形成されたマスク200に照射する照明光学系2と、2つのTDIセンサ11,12(光検出手段)と、照明光が照射されたマスク200の照明領域のうち、互いに異なる検出対象領域からの光を同時に、かつ各別に2つのTDIセンサ11,12に結像させる2つの結像光学系と、2つのTDIセンサ11,12によりそれぞれ検出して得られた2つの像のサイズを一致させる像倍率補正手段と、像倍率補正手段によりサイズが一致された2つの像に基づいて、マスク200の欠陥を検出する信号処理系20(欠陥検出手段)とを備えている。
実施形態1のマスク検査装置100は、透過照明光学系2A側に対して単一の集光光学系5およびTDIセンサ11を組み合わせ、反射照明光学系2B側に対して単一の集光光学系6およびTDIセンサ12を組み合わせて、互いに異なる2つの検出対象領域202,203について検査するものであるが、この実施形態1のマスク検査装置100において、各照明光学系2A,2B側に対してそれぞれ2以上の集光光学系およびTDIセンサを組み合わせて、1回の走査で検査可能の検出対象領域を増加させるようにすることもできる。
図12は本発明の第3の実施形態(実施形態3)に係るマスク検査装置100を示すブロック図であり、実施形態1のマスク検査装置100において、反射照明光学系2Bと照明視野光学系2Cとを省略するとともに、透過照明光学系2Aが、図13に示すように、検出対象領域202,203を含む広い領域を照明視野として照射するように設定されたものである。
2 照明光学系
4 対物レンズ(結像光学系)
5 第1集光光学系(結像光学系)
6 第2集光光学系(結像光学系)
7 全反射ミラー
11,12 TDIセンサ(光検出手段)
20 信号処理系(欠陥検出手段)
71 第1倍率補正光学系(倍率補正手段)
72 第2倍率補正光学系(倍率補正手段)
73 倍率情報演算手段(倍率補正手段)
100 マスク検査装置
200 マスク
P 像面
Claims (8)
- 所定のパターンが形成されたマスクに照明光を照射する照明光学系と、複数の光検出手段と、前記照明光が照射された照明領域のうち、互いに異なる検出対象領域からの光を同時に、かつ各別に前記複数の光検出手段に結像させる、前記複数の光検出手段にそれぞれ対応して設けられた複数の結像光学系と、前記複数の光検出手段によりそれぞれ検出して得られた複数の像のサイズを一致させる像倍率補正手段と、前記サイズが一致された複数の像に基づいて、前記マスクの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備え、
前記複数の結像光学系は、該複数の結像光学系について共用された単一の対物レンズと、それぞれの前記結像光学系に対応した複数の集光光学系と、前記対物レンズを通った前記互いに異なる検出対象領域からの光を、前記複数の集光光学系のうち対応するものに分離して導く全反射ミラーとを有し、前記対物レンズは、前記集光光学系との間で前記検出対象領域の像面を形成するように設定され、前記全反射ミラーは、前記像面の近傍に配置され、
前記像倍率補正手段は、前記複数の像の各像倍率を取得する像倍率取得手段と、前記結像光学系の一部として設けられ、前記像倍率取得手段によって取得された前記各像の像倍率に基づいて、前記光検出手段に投影される像のサイズを調整する補正光学系である補正手段とを有することを特徴とするマスク検査装置。 - 前記照明光学系は、前記互いに異なる検出対象領域を各別に照明する2つの照明光学系であって、前記マスクに対して前記結像光学系が設けられた側とは反対の側に配設された透過照明光学系と、前記マスクに対して前記結像光学系が設けられた側に配設された反射照明光学系と、前記透過照明光学系および前記反射照明光学系のうち一方の照明光学系を、前記マスクに対して他方の照明光学系の側に配設位置を切り替える照明方向切替手段とを備えたことを特徴とする請求項1また2に記載のマスク検査装置。
- 前記像倍率取得手段は、前記複数の光検出手段によって検出された像に基づいて、前記複数の像の各像倍率を算出することにより取得することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク検査装置。
- 前記像倍率取得手段は、少なくとも前記各結像光学系と前記光検出手段との間の距離ごとに予め求められた像倍率を読み出すことにより取得することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク検査装置。
- 前記像倍率取得手段は、予め求められた前記複数の像の各像倍率が記憶されたホストコンピュータから前記検出対象領域に対応する前記各像倍率を受信することにより取得することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク検査装置。
- 前記光検出手段はTDIセンサであり、前記補正手段は、前記TDIセンサの動作周期を調整する周期補正回路であることを特徴とする請求項1から5のうちいずれか1項に記載のマスク検査装置。
- 前記互いに異なる検出対象領域は、前記マスクの厚さ方向について同一の面内における互いに異なる領域であることを特徴とする請求項1から6のうちいずれか1項に記載のマスク検査装置。
- 前記互いに異なる検出対象領域は、前記マスクの厚さ方向についての互いに異なる位置であることを特徴とする請求項1から6のうちいずれか1項に記載のマスク検査装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8736924B2 (en) | 2011-09-28 | 2014-05-27 | Truesense Imaging, Inc. | Time-delay-and-integrate image sensors having variable integration times |
KR20160044568A (ko) * | 2013-08-20 | 2016-04-25 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 마이크로리소그래피를 위한 패턴의 자격인정 |
JP2016126302A (ja) * | 2015-01-08 | 2016-07-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
KR20160150018A (ko) * | 2015-06-19 | 2016-12-28 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 검사 장치 및 검사 방법 |
JP2023508738A (ja) * | 2019-12-30 | 2023-03-03 | 上海集成電路研発中心有限公司 | 欠陥検査の装置及び方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02210250A (ja) * | 1988-10-12 | 1990-08-21 | Hitachi Ltd | ホトマスクの欠陥検出方法及び装置 |
JP2002501194A (ja) * | 1998-01-22 | 2002-01-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学検査方法及び装置 |
JP2004301751A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Toshiba Corp | パターン欠陥検査装置 |
-
2010
- 2010-11-09 JP JP2010251066A patent/JP5342537B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02210250A (ja) * | 1988-10-12 | 1990-08-21 | Hitachi Ltd | ホトマスクの欠陥検出方法及び装置 |
JP2002501194A (ja) * | 1998-01-22 | 2002-01-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学検査方法及び装置 |
JP2004301751A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Toshiba Corp | パターン欠陥検査装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8736924B2 (en) | 2011-09-28 | 2014-05-27 | Truesense Imaging, Inc. | Time-delay-and-integrate image sensors having variable integration times |
US8964088B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-02-24 | Semiconductor Components Industries, Llc | Time-delay-and-integrate image sensors having variable intergration times |
US9049353B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-06-02 | Semiconductor Components Industries, Llc | Time-delay-and-integrate image sensors having variable integration times |
US9503606B2 (en) | 2011-09-28 | 2016-11-22 | Semiconductor Components Industries, Llc | Time-delay-and-integrate image sensors having variable integration times |
KR20160044568A (ko) * | 2013-08-20 | 2016-04-25 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 마이크로리소그래피를 위한 패턴의 자격인정 |
JP2016532902A (ja) * | 2013-08-20 | 2016-10-20 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | マイクロリソグラフィパターン認定 |
KR102112901B1 (ko) * | 2013-08-20 | 2020-05-19 | 케이엘에이 코포레이션 | 마이크로리소그래피를 위한 패턴의 자격인정 |
JP2016126302A (ja) * | 2015-01-08 | 2016-07-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
KR20160150018A (ko) * | 2015-06-19 | 2016-12-28 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 검사 장치 및 검사 방법 |
JP2023508738A (ja) * | 2019-12-30 | 2023-03-03 | 上海集成電路研発中心有限公司 | 欠陥検査の装置及び方法 |
JP7340703B2 (ja) | 2019-12-30 | 2023-09-07 | 上海集成電路研発中心有限公司 | 欠陥検査の装置及び方法 |
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