JP2016532902A - マイクロリソグラフィパターン認定 - Google Patents
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Abstract
Description
この出願は、米国特許法第119条(e)項の下で、2013年8月20日に出願されたRui−Fang Shiらの先行米国仮出願第61/867,939号、表題「Qualifying Patterns for Microlithographic Fabrication Prior to High Volume Manufacturing」の優先権を主張するものであり、その出願は、あらゆる目的のために参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
で畳み込まれたマスクパターンP(x,y)によって定義される。従って、帯域制限マスクパターンは、修正版のマスクパターン関数P(x,y)である。
Claims (25)
- フォトリソグラフィレチクルを認定する方法であって、
光学レチクル検査具を使用して、前記レチクルの各パターン領域から異なる結像構成で少なくとも2つの像を取得することと、
前記レチクルの各パターン領域からの各少なくとも2つの像に基づいて、レチクルパターンを再構築することと、
各再構築されたレチクルパターンについて、そのような再構築されたレチクルパターン上で2つ以上の異なるプロセス条件を用いてリソグラフィプロセスをモデル化して、2つ以上の対応するモデル化されたテストウェハパターンを生成することと、
各2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンを分析して、前記レチクルパターンのホットスポットパターンであって、そのようなホットスポットパターンで形成されるウェハパターンを変える前記異なるプロセス条件の影響を受けやすい、前記レチクルパターンのホットスポットパターンを識別することと、を含む、方法。 - 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、反射像及び透過像を含む、請求項1に記載の方法。
- 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、異なる瞳形状及び/または異なる焦点条件を有する少なくとも2つの反射像を含む、請求項1に記載の方法。
- 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、情報であって、その情報から、マスクパターンの振幅及び位相が数学的反復プロセスによって決定され得る、情報を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記2つ以上の異なるプロセス条件が、2つ以上の異なる露光及び焦点設定を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記2つ以上の異なる露光及び焦点設定が、焦点露光マトリックス(FEM)からの複数の露光及び焦点設定を含む、請求項5に記載の方法。
- モデル化することが、フォトレジスト材料をモデル化することを含む、請求項5に記載の方法。
- モデル化することが、エッチングまたは化学機械平坦化(CMP)プロセスをモデル化することを含む、請求項7に記載の方法。
- ホットスポットパターンが、そのようなレチクルを用いた大量ウェハ製作の開始前に、またはそのようなレチクルを用いたあらゆるウェハ製作前に識別される、請求項1に記載の方法。
- 複数のOPC(光近接効果補正)後設計パターンに基づいて、複数の基準レチクルパターンをシミュレーションすることと、
2つ以上の対応するモデル化された基準ウェハパターンを生成するように、各基準レチクルパターン上でモデル化動作を行うことと、を更に含み、
分析することが、各モデル化されたテストウェハパターンをその対応する基準ウェハパターンと比較することと、そのような比較から結果として生じる差異が所定の閾値を超えるときに、そのようなモデル化されたテストパターンのホットスポットパターンを識別することと、を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記基準及びテストレチクルパターンの複数の初期ホットスポット位置を識別することと、初期ホットスポット位置のみに対応するモデル化されたテスト及び基準ウェハパターンを生成することと、を更に含む、請求項10に記載の方法。
- 各ホットスポットパターンが、その対応する2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンが前記2つ以上の異なるプロセス条件の所定の量だけ異なるときに識別される、請求項1に記載の方法。
- 各2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンを分析することが、複数の対応するOPC後設計パターンを分析して、前記レチクルを製作するために使用される設計に対する前記2つ以上の異なるプロセス条件の効果を前記レチクルに対する前記2つ以上の異なるプロセス条件の効果と区別することを含む、請求項1に記載の方法。
- 識別されたホットスポットパターンに対応しないウェハパターンよりも低い閾値を有する前記識別されたホットスポットパターンに対応するそのようなレチクルを用いて製作されるウェハパターンを検査することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 識別されたホットスポットパターンに対応する設計パターンを修正することと、そのような修正された設計パターンに基づいて新たなレチクルを製作することと、を更に含む、請求項1に記載の方法。
- フォトリソグラフィレチクルを認定するための検査システムであって、
入射ビームを生成するための光源と、
レチクルの上に前記入射ビームを導くための照明光学モジュールと、
前記入射ビームに応答して異なる結像構成で、前記レチクルの各パターン領域から少なくとも1つのセンサに2つ以上の出力ビームを導くための収集光学モジュールと、
前記2つ以上の出力ビームを検出し、かつ前記2つ以上の出力ビームの2つ以上の像または信号を生成するための少なくとも1つのセンサと、
以下の動作、
前記レチクルの各パターン領域からの各少なくとも2つの像に基づいて、レチクルパターンを再構築する動作と、
各再構築されたレチクルパターンについて、そのような再構築されたレチクルパターン上で2つ以上の異なるプロセス条件を用いてリソグラフィプロセスをモデル化して、2つ以上の対応するモデル化されたテストウェハパターンを生成する動作と、
各2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンを分析して、前記レチクルパターンのホットスポットパターンであって、そのようなホットスポットパターンで形成されたウェハパターンを変える前記異なるプロセス条件の影響を受けやすい、前記レチクルパターンのホットスポットパターンを識別する動作と、を行うように構成されたコントローラと、を備える、検査システム。 - 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、反射像及び透過像を含む、請求項16に記載のシステム。
- 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、異なる瞳形状及び/または異なる焦点条件を有する少なくとも2つの反射像を含む、請求項16に記載のシステム。
- 異なる結像条件での前記少なくとも2つの像が、情報であって、その情報からマスクパターンの振幅及び位相が数学的反復プロセスによって決定され得る、情報を含む、請求項16に記載のシステム。
- 2つ以上の異なる露光及び焦点設定が、焦点露光マトリックス(FEM)からの複数の露光及び焦点設定を含み、モデル化することが、フォトレジスト材料をモデル化することを含む、請求項16に記載のシステム。
- ホットスポットパターンが、そのようなレチクルを用いた大量ウェハ製作の開始前に、またはそのようなレチクルを用いたあらゆるウェハ製作前に識別される、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラが、
複数のOPC(光近接効果補正)後設計パターンに基づいて、複数の基準レチクルパターンをシミュレーションするように、かつ
2つ以上の対応するモデル化された基準ウェハパターンを生成するように、各基準レチクルパターン上でモデル化動作を行うように更に構成され、
分析することが、各モデル化されたテストウェハパターンをその対応する基準ウェハパターンと比較することと、そのような比較から結果として生じる差異が、所定の閾値を超えるときに、そのようなモデル化されたテストパターンのホットスポットパターンを識別することと、を含む、請求項16に記載のシステム。 - 前記コントローラが、前記基準及びテストレチクルパターンの複数の初期ホットスポット位置を識別するように、かつ初期ホットスポット位置のみに対応するモデル化されたテスト及び基準ウェハパターンを生成するように更に構成される、請求項22に記載のシステム。
- 各ホットスポットパターンが、その対応する2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンが前記2つ以上の異なるプロセス条件の所定の量だけ異なるときに識別される、請求項16に記載のシステム。
- 各2つ以上のモデル化されたテストウェハパターンを分析することが、複数の対応するOPC後設計パターンを分析して、前記レチクルを製作するために使用される設計に対する前記2つ以上の異なるプロセス条件の効果を前記レチクルに対する前記2つ以上の異なるプロセス条件の効果と区別することを含む、請求項16に記載のシステム。
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