JP2011035252A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板の表面の一部に第1導電型ドーパントを含有する第1導電型ドーパント拡散剤を塗布する工程と、第1導電型ドーパント拡散剤から半導体基板の表面に第1導電型ドーパントを拡散させることによって第1導電型ドーパント拡散層を形成する工程と、第1導電型ドーパント拡散層の形成後の第1導電型ドーパント拡散剤の残部の少なくとも一部を拡散抑制マスクとして半導体基板の表面に第2導電型ドーパントを拡散させることによって第2導電型ドーパント拡散層を形成する工程とを含む半導体装置の製造方法である。
【選択図】図1
Description
以下に、図1(a)〜図1(l)の模式的断面図を参照して、本発明の半導体装置の一例である裏面電極型太陽電池セルの製造方法の他の一例について説明する。
なお、上記の一般式(1)において、R1は、メチル基、エチル基またはフェニル基を示す。また、上記の一般式(1)において、R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などの炭素数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を示す。また、上記の一般式(1)において、nは0〜4の整数を示す。
図2に、上記のようにして作製された裏面電極型太陽電池セルの裏面の一例の模式的な平面図を示す。
本実施の形態においては、ボロンを含むp型不純物拡散剤4の残部であるボロンシリサイド層4bとボロンシリケートガラス層4aとの積層体を拡散抑制マスクとして用いて、n型ドーパントガスを用いたリンの気相拡散によりn型不純物拡散領域8を形成する点を特徴としている。
上記においては、リンを含むn型ドーパントガス17を用いたリンの気相拡散によるn型不純物拡散領域8の形成時にリンの気相拡散を妨げる拡散抑制マスクとして、ボロンシリサイド層4bとボロンシリケートガラス層4aとの積層体からなるp型不純物拡散剤4の残部を用いている。
本実施の形態においては、ボロンを含むp型不純物拡散剤4の残部であるボロンシリサイド層4bを拡散抑制マスクとして用いて、リンを含むn型ドーパントガス17を用いたリンの気相拡散によりn型不純物拡散領域8を形成する点を特徴としている。
なお、本発明の裏面電極型太陽電池セルの概念には、シリコン基板の一方の表面(裏面)のみにp型用電極およびn型用電極の双方が形成された構成の裏面電極型太陽電池セルだけでなく、MWT(Metal Wrap Through)セル(シリコン基板に設けられた貫通孔に電極の一部を配置した構成の太陽電池セル)などのいわゆるバックコンタクト型太陽電池セル(シリコンの受光面と反対側の裏面から電流を取り出す構造の太陽電池セル)も含まれる。
Claims (5)
- 半導体基板の表面の一部に第1導電型ドーパントを含有する第1導電型ドーパント拡散剤を塗布する工程と、
前記第1導電型ドーパント拡散剤から前記半導体基板の前記表面に前記第1導電型ドーパントを拡散させることによって第1導電型ドーパント拡散層を形成する工程と、
前記第1導電型ドーパント拡散層の形成後の前記第1導電型ドーパント拡散剤の残部の少なくとも一部を拡散抑制マスクとして前記半導体基板の前記表面に第2導電型ドーパントを拡散させることによって第2導電型ドーパント拡散層を形成する工程と、
を含む、半導体装置の製造方法。 - 前記第1導電型ドーパント拡散層を形成する工程は、前記第1導電型ドーパント拡散剤が塗布された前記半導体基板を熱処理することにより行なわれることを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1導電型ドーパント拡散剤の残部は、ボロンシリサイド層、またはボロンシリサイド層とボロンシリケートガラス層との積層体を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1導電型ドーパント拡散剤の残部の厚さは10nm以上であることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2導電型ドーパント拡散層を形成する工程は、前記第2導電型ドーパントを含有するガスを用いた気相拡散および前記第2導電型ドーパントを含有する第2導電型ドーパント拡散剤を用いた固相拡散の少なくとも一方により行なわれることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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