JP2011032174A

JP2011032174A - ベンジルフェニルグルコピラノシド誘導体を含有する医薬組成物

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Publication number: JP2011032174A
Application number: JP2009177150A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Yamanoi; 茂雄山野井; Kazuki Mori; 一樹森; Mitsuhiro Iwamoto; 充広岩本; Atsuko Nakajima; 敦子中島; Takeshi Honda; 雄本田; Masanori Izumi; 正憲泉; Tsuneaki Ogata; 恒暉緒方; Akira Okuyama; 亮奥山
Original assignee: Daiichi Sankyo Co Ltd
Current assignee: Daiichi Sankyo Co Ltd
Priority date: 2009-07-30
Filing date: 2009-07-30
Publication date: 2011-02-17

Abstract

【課題】新規な構造を有し、副作用が低く優れたヒトSGLT1および／またはSGLT2阻害活性を有する化合物またはその水和物を有効成分として含有する、１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全（impaired glucose tolerance：IGT）、糖尿病関連疾患または糖尿病合併症を治療および／または予防するための医薬組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）：
【化１】

で表される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物
【選択図】なし

Description

本発明は、ヒトSGLT1および／またはSGLT2活性阻害作用を有する化合物を含有する医薬組成物に関する。

糖尿病は、インスリン作用不足による慢性の高血糖状態を主たる特徴とする代謝疾患群である。糖尿病治療には、食事療法、運動療法と共に薬物療法が施され、糖尿病治療薬としては、インスリン抵抗性を改善するビグアナイド剤やチアゾリジンジオン剤、膵臓β細胞からのインスリン分泌を促進するスルホニルウレア剤やグリニド系薬剤、糖吸収を阻害するα−グルコシダーゼ阻害剤などが使用されている。しかし、ビグアナイド剤は乳酸アシドーシス、チアゾリジンジオン剤は体重増加と浮腫、スルホニルウレア剤やグリニド系薬剤は低血糖や長期使用による２次無効、α−グルコシダーゼ阻害剤には下痢といった副作用があることが報告されており、このような問題を解決した新しい作用機序の抗糖尿病薬の開発が望まれている。

近年、腎臓において糖再吸収を阻害することによって、尿中への糖排泄を増加させ、血糖値を低下させる新しい機序の薬剤の研究開発が進められている（例えば、非特許文献１などを参照）。本薬剤は、腎臓の近位尿細管に存在するナトリウム依存性グルコース供輸送体２（Sodium-dependent glucose cotransporter 2：以下、SGLT2という。）を阻害することで、原尿からの糖の再吸収を抑制し、体外への糖排泄を増加させることで血糖値を低下させることが示されている（例えば、非特許文献２などを参照）。こうした背景から、ヒトSGLT2を阻害する化合物は、尿中糖排泄量を増加させることで血糖値を正常化させることが期待され、１型および２型糖尿病、また高血糖に付随して起こる各種関連疾患に有効な薬剤となる。また、糖の排出を増すことで、体内の糖蓄積を減らすことによる抗肥満効果も期待される。

一方、SGLTの別のサブタイプであるSGLT1（Sodium-dependent glucose cotransporter 1：以下、SGLT1という。）は、主に小腸に発現し、食物から糖（グルコース、ガラクトース）を体内に吸収するトランスポーターとして働いている（例えば、非特許文献３などを参照）。SGLT1が先天的に欠損しているヒトでは糖吸収不良が起こることが知られている（例えば、非特許文献４などを参照）。こうした知見から、SGLT1を阻害する薬剤は、小腸からの糖の吸収を阻害・遅延させることで、食後過血糖抑制作用を示すと考えられる。また、体内への糖の流入を抑制することで抗肥満効果も期待出来る。

以上から、ヒトSGLT1および／またはSGLT2活性を抑制する薬剤は、尿中への糖排泄増加作用と小腸からの糖吸収阻害作用を併せ持つ強力な１型および２型糖尿病治療薬、抗肥満薬、高血糖に付随して起こる各種関連疾患に有効な薬剤となることが期待される。

O-アリールグルコシド化合物がヒトSGLT2阻害作用を有することは知られている（例えば、特許文献１〜５などを参照）。

国際公開第01/68660号パンフレット国際公開第02/28872号パンフレット国際公開第02/44192号パンフレット国際公開第02/64606号パンフレット国際公開第08/016132号パンフレット

J. Clin. Invest., Vol.79, pp. 1510-1515(1987) J. Clin. Invest., Vol.93, pp. 397-404(1994) Am J Clin Nutr. Vol.59(3 Suppl) pp.690S-698S(1994) Nature, Vol.350, pp.354-356(1991)

しかしながら、上記特許文献１〜４にはいずれも、糖部分に置換基を有する化合物については全く記載されておらず、さらにそのような化合物がヒトSGLT1阻害作用を有することは記載も示唆もされていない。一方、上記特許文献５には糖部分に置換基を有する化合物を含有する医薬組成物について開示され、SGLT1阻害作用を有することも記載されているが、本願の優先日前に出願され、優先日後に公開された特許文献である。

従って、本発明は、新規な構造を有し、副作用が低く優れたヒトSGLT1および／またはSGLT2阻害活性を有する化合物またはその水和物を有効成分として含有する、１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全（impaired glucose tolerance：IGT）、糖尿病関連疾患（例えば、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症、痛風など）または糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症、ケトーシスなど）を治療および／または予防するための医薬組成物を提供することを目的とする。

本発明は、
（１）一般式（Ｉ）：

（式中、R¹は水素原子または水酸基であり、
R²はフッ素原子または塩素原子であり、
R³はハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチル基、シクロプロピル基、または、ハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基であり、
R⁴は水素原子またはメチル基であり、
nは1または2であり、
mは0または1である、
但し、R¹が水素原子である場合、R⁴は水素原子であり、R¹が水酸基である場合、R⁴はメチル基である）
で表される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物、
（２）一般式（ＩＩ）：

［式中、R¹は水素原子または水酸基であり、
R²はフッ素原子または塩素原子であり、
R³はハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチル基、シクロプロピル基、または、ハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基であり、
R⁴は水素原子またはメチル基であり、
nは1または2であり、
mは0または1である、
但し、R¹が水素原子である場合、R⁴は水素原子であり、R¹が水酸基である場合、R⁴はメチル基である
（但し、（イ）R¹が水酸基であり、R²がフッ素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメチル基、エチル基、シクロプロピル基またはメトキシ基ではない、
（ロ）R¹が水酸基であり、R²が塩素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメトキシ基ではない、あるいは、
（ハ）R¹が水素原子であり、R²がフッ素原子または塩素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメトキシ基ではない）］
で表される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物、
（３）R¹が水酸基である、前記（２）に記載の医薬組成物、
（４）R³がハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基またはハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基である、前記（２）または（３）に記載の医薬組成物、
（５）R⁴がメチル基である、前記（２）〜（４）いずれか１つに記載の医薬組成物、
（６）nが1である、前記（２）〜（５）いずれか１つに記載の医薬組成物、
（７）3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[(4-トリフルオロメトキシ)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド、3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド、2-(4-エチルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド、3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド、2-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド、3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(4-エチル-3-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[(4-トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[(4-トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-クロロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、および、2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド、からなる群より選択される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物、
（８）ヒトSGLT1および／またはヒトSGLT2活性を阻害するための、前記（１）〜（７）いずれか１項に記載の医薬組成物、
（９）１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全、糖尿病関連疾患もしくは糖尿病合併症の治療または予防のための、前記（８）に記載の医薬組成物、ならびに、
（１０）糖尿病関連疾患が、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症または痛風であり、あるいは、糖尿病合併症が、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症またはケトーシスである、前記（９）に記載の医薬組成物、
を提供する。

本発明により、副作用が低く優れたヒトSGLT1および／またはSGLT2阻害活性を有する化合物またはその水和物を含有する医薬組成物を提供することができ、この医薬組成物は、１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全、糖尿病関連疾患（例えば、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症、痛風など）または糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症、ケトーシスなど）を治療および／または予防することができる。

本明細書において、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子をいう。

一般式（I）または（II）におけるR¹、R²、R³、R⁴、nおよびmの好ましい組み合わせを表１に示す。

本明細書において「水和物」とは、本発明の医薬組成物に含有される化合物の薬学的に許容され得る水和物をいう。本発明の医薬組成物に含有される化合物は、大気中に放置されたり、再結晶することにより、水分を吸収して、吸着水が付いたり、水和物となる場合がある。かかる水和物も本明細書における「水和物」に包含される。

本発明の医薬組成物に含有される化合物は、その分子内に不斉炭素原子を有するので、光学異性体が存在するこれらの異性体、およびこれらの異性体の混合物がすべて単一の式、すなわち一般式（I）または（II）で表されている。従って、本発明の医薬組成物に含有される化合物は光学異性体および光学異性体の任意の割合の混合物をもすべて包含するものである。

本発明の医薬組成物に含有される化合物（I）または（II）は、例えば、後述するA法に従って製造することができる。

なお、A法および後述のB法〜D法において、各反応終了後、各反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、また、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水などで洗浄後、無水硫酸ナトリウムなどで乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた化合物は、必要ならば、常法、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離・精製することができる。

さらに、A法および後述のB法〜D法において、反応基質となる化合物が、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基などの目的の反応を阻害する基を有する場合、必要に応じて適宜、それらの基への保護基の導入および導入した保護基の除去を行なってもよい。かかる保護基としては、通常用いられる保護基であれば特に限定はなく、例えば、T. H. Greene, P. G. Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis. Third Edition, 1999年, John Wiley & Sons, Inc.などに記載された保護基が挙げられる。かかる保護基の導入反応および除去反応は、上記文献に記載された方法のような常法に従って行うことができる。

（式中、R¹、R²、R³、R⁴、nおよびmは前記の通りであり、R¹¹、R¹²およびR¹³は、同一または異なって、水素原子または保護基である。）

A1工程は、化合物（2）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（1）をトリクロロアセトニトリルと反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類などが挙げられ、好ましくはハロゲン化炭化水素、より好ましくはメチレンクロリドである。

上記反応に使用される塩基としては、例えば、有機アミン類などが挙げられ、好ましくは1,8-ジアザビシクロ［5.4.0］-7-ウンデセンである。

反応温度は、原料化合物、塩基、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-20℃〜還流温度、好ましくは0℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、塩基、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、15分間〜48時間、好ましくは30分間〜5時間である。

A2工程は、化合物（I）を製造する工程であり、不活性溶媒中、ルイス酸の存在下、化合物（2）を化合物（3）と反応させた後、所望により、R¹¹、R¹²およびR¹³で表される保護基を除去することにより行われる。

保護基の除去はその種類によって異なるが、上述したように、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T. H. Greene, P. G. Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis. Third Edition, 1999年, John Wiley & Sons, Inc.などに記載された方法のような常法に従って行うことができる。

化合物（2）を化合物（3）と反応させる際に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類などが挙げられ、好ましくはハロゲン化炭化水素、より好ましくはメチレンクロリドである。

上記反応に使用されるルイス酸としては、例えば、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどが挙げられ、好ましくは三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体である。

反応温度は、原料化合物、ルイス酸、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-30℃〜還流温度、好ましくは０℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、ルイス酸、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、5分間〜24時間、好ましくは10分間〜12時間である。

A3工程は、化合物（4）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（1）を臭化水素酢酸と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられ、好ましくはメチレンクロリドである。

反応温度は、原料化合物、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜還流温度、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、5〜50時間、好ましくは15〜35時間である。

A4工程は、化合物（I）を製造する工程であり、不活性溶媒中、炭酸銀の存在下、化合物（4）を化合物（3）と反応させた後、所望により、R¹¹、R¹²およびR¹³で表される保護基を除去することにより行われる。

保護基の除去はA2工程と同様に行えばよい。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類などが挙げられ、好ましくはハロゲン化炭化水素、より好ましくはメチレンクロリドである。

反応時間は、原料化合物、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、5〜150時間、好ましくは10〜50時間である。

Ａ法の原料化合物である化合物（1）は例えば下記B法、化合物（3）は例えば下記Ｃ法またはD法によって製造することができる。

（式中、R¹、R⁴、R¹¹、R¹²およびR¹³は前記の通りであり、R¹⁴は水素原子または保護基である。）

B1工程は、化合物（1）を製造する工程であり、R¹⁴で表される保護基を除去することにより行われる。

保護基の除去はA2工程と同様に行えばよい。

例えば、R¹⁴で表される保護基がベンゾイル基である場合、不活性溶媒中、ヒドラジン酢酸塩を作用させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、アミド類などが挙げられ、好ましくはジメチルホルムアミドである。

反応温度は、原料化合物、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜50℃、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜35時間、好ましくは1〜24時間である。

B2工程は、化合物（6）を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸触媒の存在下、化合物（5）におけるR¹⁴をアセチル化することにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、カルボン酸類などが挙げられ、好ましくは酢酸である。

上記反応に使用される酸触媒は、好ましくは無機酸、より好ましくは硫酸である。

反応温度は、原料化合物、酸触媒、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜50℃、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、酸触媒、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、3〜48時間、好ましくは6〜24時間である。

B3工程は、化合物（1）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（6）をヒドラジン酢酸塩と反応させることにより行われる。本工程は、B1工程と同様に行うことができる。

次に、Ｃ法について説明する。下記スキーム中の化合物（14）は化合物（3）におけるnが1である化合物である。

（式中、R²、R³およびｍは前記の通りである。）

C1工程は、化合物（9）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（7）を化合物（8）と反応させ、さらに触媒量のトリメチルシリルシアニドを添加し、反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ニトリル類などが挙げられ、好ましくはニトリル類、より好ましくはアセトニトリルである。

上記反応に使用される塩基としては、例えば、有機アミン類などが挙げられ、好ましくはトリエチルアミンである。

反応温度は、原料化合物、塩基、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜還流温度、好ましくは室温〜60℃である。

反応時間は、原料化合物、塩基、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、10分間〜12時間、好ましくは2〜4時間である。

C2工程は、化合物（10）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（9）をハロゲン化剤と反応させることにより行われる。

上記反応の第一段階であるハロゲン化反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭素類などが挙げられ、好ましくは塩化メチレンである。

上記反応に使用されるハロゲン化剤としては、R²がフッ素の場合には、例えば、ジメチルアミノ硫黄三フッ化物、2,2-ジフルオロ-1,3-ジメチルイミダゾリジン、フッ化水素−ピリジンなどが挙げられ、好ましくはジメチルアミノ硫黄三フッ化物であり、R²が塩素の場合には、例えば、二塩化オキサリル、塩化チオニル、オキシ塩化リンなどが挙げられ、好ましくは二塩化オキサリルである。

反応温度は、原料化合物、ハロゲン化剤、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-30〜100℃、好ましくは0℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、ハロゲン化剤、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、R²がフッ素の場合には、通常、30分間〜12時間、好ましくは3時間であり、R²が塩素の場合には、通常、30分間〜24時間、好ましくは1〜3時間である。

C3工程は、化合物（11）を製造する工程であり、塩基性溶媒中、化合物（10）を酸化剤と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される塩基性溶媒としては、例えば、有機アミン類などが挙げられ、好ましくはN-メチルモルホリンである。

上記反応に使用される酸化剤としては、例えば、過マンガン酸やクロム酸などの重金属塩、臭素やヨウ素などのハロゲン、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンなどが挙げられ、好ましくはハロゲン、より好ましくはヨウ素である。

反応温度は、原料化合物、塩基性溶媒、酸化剤の種類などにより異なるが、通常、0〜100℃、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、塩基性溶媒、酸化剤、反応温度などにより異なるが、通常、15分間〜12時間、好ましくは30分間〜2時間である。

C4工程は、化合物（12）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（11）を還元剤と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、エーテル類、アルコール類などが挙げられ、好ましくはエーテル類、より好ましくはテトラヒドロフランである。

上記反応に使用される還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなどの水素化ホウ素アルカリ金属、水素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエトキシドアルミニウムなどの水素化アルミニウム化合物、水素化テルルナトリウムなどのヒドリド試薬などが挙げられ、好ましくは水素化アルミニウム化合物、より好ましくは水素化アルミニウムリチウムである。

反応温度は、原料化合物、還元剤、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-30℃〜還流温度、好ましくは0℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、還元剤、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、10分間〜10時間、好ましくは30分間〜1時間である。

C5工程は、化合物（13）を製造する工程であり、不活性溶媒中、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド触媒の存在下、化合物（12）に酢酸ビニルを反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、エーテル類などが挙げられ、好ましくはテトラヒドロフランである。

反応温度は、原料化合物、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜50℃、好ましくは室温〜35℃である。

反応時間は、原料化合物、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、1〜100時間、好ましくは24〜48時間である。

C6工程は、化合物（14）を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸またはルイス酸の存在下、化合物（13）を還元剤と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される酸またはルイス酸としては、例えば、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウムなどが挙げられ、好ましくは三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体である。

上記反応に使用される還元剤としては、例えば、トリアルキルシラン、水素化ホウ素アルカリ金属、水素化アルミニウム化合物などが挙げられ、好ましくはトリアルキルシラン、より好ましくはトリエチルシランである。

反応温度は、原料化合物、酸またはルイス酸、還元剤、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-20〜50℃、好ましくは0℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、酸またはルイス酸、還元剤、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜10時間、好ましくは1〜2時間である。

最後に、D法について説明する。下記スキーム中の化合物（22）は化合物（3）におけるnが2である化合物である。

（式中、R²、R³およびmは前記の通りである。）

D1工程は、化合物（15）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（14）をベンジル化試薬と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される塩基としては、例えば、無機塩基類などが挙げられ、好ましくは炭酸カリウムである。

上記反応に使用されるベンジル化試薬としては、例えば、ハロゲン化ベンジル、アリールスルホン酸ベンジル、アルキルスルホン酸ベンジルなどが挙げられ、好ましくはハロゲン化ベンジル、より好ましくは臭化ベンジルである。

反応温度は、原料化合物、塩基、ベンジル化試薬、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜100℃、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、塩基、ベンジル化試薬、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜48時間、好ましくは2〜4時間である。

D2工程は、化合物（16）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（15）を塩基と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、水、アルコール類などが挙げられ、好ましくはアルコール類、より好ましくはメタノールである。

反応温度は、原料化合物、塩基、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜還流温度、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、塩基、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、10分間〜24時間、好ましくは1〜18時間である。

D3工程は、化合物（17）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（16）を酸化剤と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、エステル類などが挙げられ、好ましくはハロゲン化炭化水素、より好ましくはクロロホルムである。

反応温度は、原料化合物、酸化剤、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜200℃、好ましくは還流温度である。

反応時間は、原料化合物、酸化剤、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜48時間、好ましくは2〜4時間である。

D4工程は、化合物（18）を製造する工程であり、不活性溶媒中、ホスホニウム塩を塩基と反応させた後、さらに化合物（17）と反応させることにより行われる。

上記反応に使用されるホスホニウム塩としては、例えば、ハロゲン化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムなどが挙げられ、好ましくは塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムである。

上記反応に使用される塩基としては、例えば、アルカリ金属ビス(トリメチルシリル)アミド類、アルカリ金属ジアルキルアミド類などが挙げられ、好ましくはアルカリ金属ビス(トリメチルシリル)アミド、さらに好ましくはリチウムビス(トリメチルシリル)アミドである。

反応温度は、原料化合物、ホスホニウム塩、塩基、不活性溶媒などにより異なるが、通常、-78℃〜還流温度、好ましくは0℃〜室温である。

反応時間は、原料化合物、(メトキシメチル)ホスホニウム塩、塩基、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜24時間、好ましくは1〜2時間である。

D5工程は、化合物（19）を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸触媒存在下、化合物（18）を加水分解することにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、エーテル類などが挙げられ、好ましくは1,4-ジオキサンである。

上記反応に使用される酸触媒としては、例えば、無機酸、アリールスルホン酸などが挙げられ、好ましくは無機酸、より好ましくは塩酸である。

反応温度は、原料化合物、酸触媒、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜還流温度、好ましくは室温である。

反応時間は、原料化合物、酸触媒、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、5分間〜10時間、好ましくは10分間〜1時間である。

D6工程は、化合物（20）を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（19）を還元剤と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、例えば、エーテル類、アルコール類などが挙げられ、好ましくはアルコール類、より好ましくはメタノールである。

上記反応に使用される還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなどの水素化ホウ素アルカリ金属、水素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエトキシドアルミニウムなどの水素化アルミニウム化合物、水素化テルルナトリウムなどのヒドリド試薬などが挙げられ、好ましくは水素化ホウ素アルカリ金属、より好ましくは水素化ホウ素ナトリウムである。

D7工程は、化合物（21）を製造する工程であり、R²がフッ素の場合には、不活性溶媒中、水素および金属触媒存在下、化合物（20）を接触還元することにより行われる。一方、R²が塩素の場合には、不活性溶媒中、化合物（20）をルイス酸と反応させることにより行われる。

上記反応に使用される不活性溶媒としては、R²がフッ素の場合には、例えば、エーテル類、アルコール類などが挙げられ、好ましくはアルコール類、より好ましくはメタノールであり、R²が塩素の場合には、例えば、ニトリル類などが挙げられ、好ましくはアセトニトリルである。

R²がフッ素の場合に使用される金属触媒としては、例えば、白金、パラジウム、ロジウム、ニッケルなどの金属触媒などが挙げられ、好ましくはパラジウム触媒、さらに好ましくはパラジウム炭素触媒である。

R²が塩素の場合に上記反応に使用されるルイス酸としては、例えば、ハロゲン化トリアルキルシリルなどが挙げられ、好ましくはヨウ化トリメチルシリルである。

反応温度は、R²がフッ素の場合には、原料化合物、金属触媒、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜100℃、好ましくは室温であり、R²が塩素の場合には、原料化合物、ルイス酸、不活性溶媒などにより異なるが、通常、0〜100℃、好ましくは40℃である。

反応時間は、R²がフッ素の場合には、原料化合物、金属触媒、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、10分間〜24時間、好ましくは30分間〜2時間であり、R²が塩素の場合には、原料化合物、ルイス酸、不活性溶媒、反応温度などにより異なるが、通常、30分間〜24時間、好ましくは1〜3時間である。

D8工程は、化合物（22）を製造する工程であり、不活性溶媒中、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド触媒の存在下、化合物（21）を酢酸ビニルと反応させることにより行われ、本工程は、C5工程における化合物（12）の一級水酸基をアセチル基で保護する方法と同様に行われる。

本発明の医薬組成物に含有される化合物は、上記方法を用いて製造できる他、公知の化合物から後述する製造例または当該分野で周知の方法（例えば、Chem.Ber,71,1938,1843-1849、Carbohydr.Res.1995,273,249-254、Bull.Chem.Soc.Jpn.,1982,55,938-942、Bull.Chem.Soc.Jpn.,1976,49,788-790、Org.Lett.,2003,5,3419-3421、Org.Biomol.Chem,2003,1,767-771、J.Chem.Soc.,1956,2124-2126、国際公開02/064606号パンフレット、Liebigs Ann.Chem,GE,1992,7,747-758などを参照のこと）に従って、容易に製造することができる。

本発明の医薬組成物に含有される化合物またはその水和物は、副作用が低く優れたヒトSGLT1および／またはSGLT2阻害活性を示すので、本発明の医薬組成物は１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全、糖尿病関連疾患（例えば、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症、痛風など）、または糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症、ケトーシスなど）の治療または予防のために利用することができる。

本発明の医薬組成物は哺乳動物（例えば、ヒト、ウマ、ウシ、ブタ、好ましくはヒト）に投与することができる。

その投与形態は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤もしくはシロップ剤などによる経口的投与または注射剤もしくは坐剤などによる非経口的投与のいずれでもよい。

これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、トウモロコシデンプン、結晶セルロース、D-マンニトール、無水リン酸水素カルシウム、白糖など）、崩壊剤（例えば、トウモロコシデンプン、カルメロースカルシウム、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウムなど）、結合剤（例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポピドン、トウモロコシデンプン、メチルセルロースなど）、滑沢剤（例えば、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、ステアリン酸など）、流動化剤（例えば、軽質無水ケイ酸、タルク、含水二酸化ケイ素など）、コーティング剤（例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、アミノアルキルメタアクリレートコポリマーE、メタアクリル酸コポリマーL、メタアクリル酸コポリマーLD、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート、エチルセルロース、アミノアルキルメタアクリレートコポリマーRSなど）、懸濁化剤（例えば、アルギン酸ナトリウム、カルメロースナトリウム、メチルセルロース、ポリソルベート80など）、乳化剤（例えば、モノステアリン酸グリセリン、ショ糖脂肪酸エステルなど）、安定化剤（例えば、ジブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、亜硫酸塩など）、保存剤（例えば、パラオキシ安息香酸エステル類など）、等張化剤（例えば、塩化ナトリウム、グリセリンなど）、嬌味剤（例えば、白糖、D-ソルビトール、キシリトール、カンゾウ、サッカリンナトリウム、アスパルテーム、ステビアなど）などの添加剤を用いて当該分野で周知の方法で製造される。

本発明の医薬組成物に含有される化合物またはその水和物の使用量は、症状、年齢などにより異なるが、経口投与の場合には、化合物あたり、1日1〜2000mg、好ましくは10〜400mgを、静脈内投与の場合には、化合物あたり、1日0.1〜500mg、好ましくは1〜300mgを成人に対して、１日あたり1〜数回に分けて、症状に応じて投与することが望ましい。

（製造例１）3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.12）

（製造例１ａ）塩化4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル
4-(2-フルオロエチル)安息香酸（Bioorg.Med.Chem.,2005,13,77-78.）（1.8g、11mmol）を塩化メチレンに溶解し、氷冷下、塩化オキサリル（1.1mL、13mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（0.1mL、1.3mmol）を加え、室温に昇温しつつ3時間半撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を除去し、標記化合物の粗生成物（2.1g）を無色油状物質として得た。

（製造例１ｂ）4-[4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル]-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（EP1571148A1）（2.0g、１１mmol）および製造例１ａで得られた粗生成物（2.1g、11mmol）をアセトニトリル（20mL）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（4.6mL、33mmol）を滴下した。10分後に反応の終了を確認し、この懸濁液にトリメチルシリルシアニド（0.21mL、1.6mmol）を加え60℃で2時間撹拌した。反応液を室温に冷却後、酢酸エチル（50mL）で希釈し、2M塩酸（20mL）および飽和食塩水（20mL、2回）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（4.3g）を得た。

（製造例１ｃ）3-クロロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル]-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例１ｂで得られた粗生成物（2.1g、6.5mmol）を塩化メチレン（20mL）に溶解し、氷冷下、2-メチル-2-ブテン（2.8mL、26mmol）、二塩化オキサリル（0.83mL、9.8mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（0.1mL、0.13mmol）を順次加え、室温まで昇温しつつ2時間撹拌した。反応液を室温に冷却後、塩化メチレン（20mL）で希釈し、飽和食塩水（20mL、2回）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、トルエン（10mL）共沸下で2回減圧濃縮を行って、標記化合物の粗生成物（2.2g）を得た。

（製造例１ｄ）3-クロロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１ｃで得られた粗生成物（2.2g、6.5mmol）をN-メチルモルホリン（26mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（1.1g）およびヨウ素（2.0g、7.8mmol）を加えて室温で1時間撹拌した。暗褐色の懸濁液をセライトで濾過し、酢酸エチル（50mL）で希釈後、2M塩酸（50mL、2回）、30％チオ硫酸ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（2.2g）を得た。

（製造例１ｅ）3-クロロ-2-{1-[4-(2-フルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例１ｄで得られた粗生成物（2.2g、6.5mmol）をテトラヒドロフラン（65mL）に溶解し、気相を窒素置換後、氷冷下、水素化アルミニウムリチウム（1.0g、26mmol）を少量ずつ加えた。室温に昇温しつつ1時間撹拌し、氷冷下、水（1mL）を滴下して反応を停止した。混合物を酢酸エチル（50mL）で希釈後、2M塩酸（20mL、2回）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、1：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（1.0g）を得た。

（製造例１ｆ）酢酸 3-クロロ-4-{1-[4-(2-フルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-ヒドロキシベンジル
製造例１ｅで得られた化合物（1.0g、3.2mmol）を酢酸ビニル（10mL）およびジイソプロピルエーテル（10mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（1.0g）を加えた。この懸濁液を37℃で8時間撹拌し、セライトで濾過し、酢酸エチル（5mL、2回）で洗浄した。得られた濾液を減圧下濃縮して、標記化合物（1.1g）の粗生成物を得た。

（製造例１ｇ）酢酸 3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例１ｆで得られた粗生成物（0.90g、2.5mmol）をアセトニトリル（10mL）に溶解し、氷冷下、トリエチルシラン（1.2mL、7.6mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.47mL、3.8mmol）を加え、0℃で1時間半撹拌した。反応液を酢酸エチル（20mL）で希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.76g、ただし20％程度の原料を含む）を得た。

（製造例１ｈ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（1.1g、1.8mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、氷冷下、トリクロロアセトニトリル（0.50mL、5.41mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（7.5μL、0.05mmol）を加え、1時間攪拌した。この溶液を塩化メチレン（20mL）で希釈後、飽和塩化アンモニウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。トルエン（2mL）を加え、減圧下共沸を行って、相当するイミダートの粗生成物を黄色アモルファスとして得た。

このイミダート（1.36g、1.8mmol）および製造例１ｇで得られた粗生成物（0.66g、1.8mmol）を塩化メチレン（5mL）に溶解し、氷冷下、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.11mL、0.90mmol）を加え、0℃で30分間撹拌した。混合物にトリエチルアミン（0.14mL、1.0mmol）を加えて反応を停止し、酢酸エチル（20mL）で希釈後、飽和塩化アンモニウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物を得た。

（製造例１ｉ）3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１ｈで得られた粗生成物（1.8mmol）をテトラヒドロフラン（6mL）およびメタノール（6mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（6mL、12mmol）を加えて室温で30分間撹拌した。混合物に水（20mL）を加えた後、酢酸エチル（20mL、3回）で抽出し、有機層を飽和食塩水（10mL）で2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、10：1、V/V）を用いて精製した。得られた固体を酢酸エチル：ジイソプロピルエーテル：ヘキサン（1：1：2、V/V）に溶解した後、冷却して沈殿物を得た。この沈殿物を回収し、標記化合物（0.19g）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃):δ 1.20 (3H, d, J = 6.4 Hz), 2.91 (2H, dt, J = 22.9, 6.6 Hz), 3.32-3.45 (4H, m), 4.04-4.06 (1H, m), 4.12 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.25 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.53 (2H, dt, J = 47.4, 6.6 Hz), 4.55 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 6.8 Hz), 7.07 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.09 (1H, s), 7.12 (1H, s), 7.18 (2H, d, J = 8.3 Hz);
MS (FAB) m/z: 471 (M+H)⁺, 493 (M+Na)⁺.。

（製造例２）3-クロロ-2-（4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.13）

（製造例２ａ）(2-クロロ-4,6-ジヒドロキシフェニル)(4-エチルフェニル)メタノン
1-クロロ-3,5-ジメトキシベンゼン（8.11ｇ、47.0mmol）をトルエン（40mL）に溶解し、塩化アルミニウム（6.26g、46.9mmol）および塩化4-エチルベンゾイル（6.89mL、47.0mmol）を加え、室温で15分攪拌した後に、85℃で3時間攪拌した。室温に冷却後、反応液を氷冷下、1N塩酸水溶液（300mL）に加えた。トルエン（100mL）で抽出後、飽和食塩水（100mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。残渣をヘキサンで洗浄し、濾過して、固体の粗生成物（10.3g）を得た。

得られた粗生成物（10.3g）を塩化メチレン（100mL）に溶解して-78℃に冷却後、1mol/L三臭化ホウ素塩化メチレン溶液（106mL、106mmol）を加え、室温で16時間攪拌した。反応液を氷冷下、氷（300g）に加えた。塩化メチレン（100mL、2回）で抽出後、水（200mL）および飽和炭酸水素ナトリウム溶液（200mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。残渣を塩化メチレン／ヘキサンで洗浄し、濾過して、標記化合物の粗生成物（7.53g）を固体として得た。

（製造例２ｂ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-エチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-オール
製造例２ａで得られた粗生成物（1.59g、5.75mmol）をメタノール（15mL）に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（326mg、8.62mmol）を加え、室温で30分攪拌した。0℃に冷却後、飽和塩化アンモニウム水溶液（1mL）を加え、減圧下、溶媒を除去した。残渣を酢酸エチル（20mL）で溶解し、飽和塩化アンモニウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去して、粗生成物（1.17g）を得た。

粗生成物（1.17g）をアセトン（25mL）に溶解し、パラトルエンスルホン酸一水和物（0.24g、1.26mmol）を加え、室温で14時間攪拌した。セライトで濾過後、適量のトリエチルアミンを加え、減圧下、溶媒を除去した。残渣を酢酸エチル（20mL）で溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜5：1、V/V）を用いて精製して、アモルファス状の標記化合物（620mg）を得た。

（製造例２ｃ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-エチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-カルボン酸メチル
製造例２ｂで得られた化合物（620mg、1.94mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、ピリジン（0.235mL、2.91mmol）を加え、0℃に冷却後、無水トリフルオロメタンスルホン酸（0.390mL、2.32mmol）を加え、20分攪拌した。さらに、塩化メチレン（20mL）を加え、水（20mL、3回）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。トルエン共沸を行って、トリフラート体の粗生成物（790mg）を得た。

得られた粗生成物（790mg）をN,N-ジメチルホルムアルデヒド（8mL）に溶解し、メタノール（1.42mL、35.0mmol）、酢酸パラジウム（39mg、0.17mmol）、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン（72mg、0.17mmol）およびトリエチルアミン（4.86mL、35.0mmol）を加え、一酸化炭素雰囲気下、55℃で3時間攪拌した。室温に冷却後、反応液に酢酸エチル（60mL）で希釈し、1mol/L塩酸水溶液（30mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（584mg）を得た。

（製造例２ｄ）3-クロロ-2-[1-(4-エチルフェニル)-1-メトキシメチル]-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
水素化リチウムアルミニウム（103mg、2.71mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）に溶解し、氷冷下、製造例２ｃで得られた化合物（651mg、1.80mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（4mL）を加えた。反応液を室温で30分攪拌した後に、0℃に冷却後、水（0.1mL）、5mol/L水酸化ナトリウム水溶液（0.1mL）および水（0.3mL）を順次加え、室温で1時間攪拌し、室温で、14時間静置した。セライトで濾過後、減圧下溶媒を除去して、油状のアルコール体粗生成物（470mg）を得た。

得られた粗生成物（470mg）をメタノール（10mL）に溶解し、パラトルエンスルホン酸一水和物（130mg、0.68mmol）および水（1mL）を加え50℃で3時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、残渣を酢酸エチル（20mL）に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1〜3：2、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（401mg）を得た。

（製造例２ｅ）酢酸 3-クロロ-4-[1-(4-エチルフェニル)-1-メトキシメチル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例２ｄで得られた化合物（401mg、1.31mmol）をテトラヒドロフラン（4mL）に溶解し、酢酸ビニル（4mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（144mg、0.26mmol）を加え、室温で、72時間攪拌した。減圧下溶媒を除去し、最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（380mg）を得た。

（製造例２ｆ）酢酸 3-クロロ-4-(4-エチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例２ｅで得られた化合物（380mg、1.09mmol）をアセトニトリル（8mL）に溶解し、0℃に冷却後、トリエチルシラン（0.520mL、3.26mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.210mL、1.67mmol）を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（40mL）で希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液（40mL）および飽和食塩水（40mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（293mg）を白色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.20 (3H, t, J = 7.7 Hz), 2.11 (3H, s), 2.60 (2H, q, J = 7.7 Hz), 4.15 (2H, s), 5.00 (2H, s), 6.72 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.02 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.11 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (EI) m/z: 318, 320 (M)⁺.。

（製造例２ｇ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（722mg、1.18mmol）を塩化メチレン（8mL）に溶解し、0℃に冷却後、トリクロロアセトニトリル（0.597mL、5.91mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（0.018mL、0.12mmol）を加え、氷冷下1時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（20mL）で希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。トルエン（2mL）を加え、減圧下共沸を行って、相当するイミダートを黄色アモルファスとして得た。

製造例２ｆで得られた化合物（290mg、0.91mmol）およびイミダート（890mg、1.18mmol）を塩化メチレン（8mL）に溶解し、モレキュラーシーブ4A（ナカライテスク社製、以下、MS4Aという。）を加え、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.148mL、1.18mmol）を氷冷下滴下し、氷冷下15分、次いで、室温で15分攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム（5mL）を加え、酢酸エチル（20mL）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（850mg）を得た。

（製造例２ｈ）3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２ｇで得られた粗生成物（850mg）をメタノール／塩化メチレン（16mL/4mL）に溶解し、炭酸カリウム（1.63g、11.8mmol）を加え、室温で一晩攪拌した。セライトで濾過を行い過剰の炭酸カリウムを除去した後、適量の酢酸を加え中和し、減圧下メタノールを除去した。残渣を酢酸エチル（20mL）に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をヘキサン／酢酸エチル／メタノールから固体化し、標記化合物（196mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.17 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.21 (3H, d, J = 6.3 Hz), 2.56 (2H, q, J = 7.5 Hz), 3.36-3.38 (2H, m), 3.44-3.46 (2H, m), 4.05 (1H, dd, J = 6.3, 3.5 Hz), 4.11 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.24 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.02 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.10 (1H, s), 7.12 (1H, s), 7.15 (2H, d, J = 8.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 475 (M+Na)⁺.。

（製造例３）2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.1）

（製造例３ａ）4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル]-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（2.0g、11mmol）および塩化4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル（J.Org.Chem.USSR,1981,1470-1475.）（2.3g、11mmol）を用い、製造例１ｂと同様の方法により標記化合物の粗生成物（3.3g）を得た。

（製造例３ｂ）4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル]-3-フルオロ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例３ａで得られた粗生成物（1.6g、4.4mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、氷冷下、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（1.7mL、13mmol）を加え、室温まで昇温しつつ5時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（30mL）で希釈し、飽和食塩水（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（1.5g）を得た。

（製造例３ｃ）4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例３ｂで得られた化合物（1.2g、3.4mmol）をN-メチルモルホリン（15mL）に溶解し、室温で無水硫酸ナトリウム（1.2g）およびヨウ素（0.97g、3.8mmol）を加えて室温で1時間撹拌した。暗褐色の懸濁液をセライトで濾過し、酢酸エチル（50mL）で希釈後、2M塩酸（50mL、2回）、30％チオ硫酸ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（1.2g）を得た。

（製造例３ｄ）4-{1-[4-(ジフルオロメトキシ)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例３ｃで得られた粗生成物（1.5g、4.1mmol）をエタノール（20mL）に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（0.31g、8.2mmol）を加えた。室温に昇温しつつ2時間撹拌し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液（1mL）を滴下して反応を停止した。混合物を酢酸エチル（50mL）で希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム（20mL、2回）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.82g）を無色固体として得た。

（製造例３ｅ）4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例３ｄで得られた化合物（0.82g、2.3mmol）をエタノール（8mL）に溶解し、溶液中に窒素を吹き込みながら10分間撹拌した。この溶液に2M塩酸（0.57mL、1.1mmol）および10％パラジウム炭素触媒（含水、0.5g）を窒素気流下で加え、気相を水素置換後、室温で6時間撹拌した。混合物をセライトで濾過し、減圧下溶媒を除去して、標記化合物の粗生成物（0.76g）を無色固体として得た。

（製造例３ｆ）2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例３ｅで得られた粗生成物（0.76g、2.2mmol）をテトラヒドロフラン（10mL）に溶解し、気相を窒素置換後、氷冷下、水素化アルミニウムリチウム（0.25g、6.6mmol）を少量ずつ加えた。室温に昇温しつつ1時間撹拌し、氷冷下、水（1mL）を滴下して反応を停止した。混合物を酢酸エチル（30mL）で希釈後、2M塩酸（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.65g）を無色固体として得た。

（製造例３ｇ）酢酸 4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシベンジル
製造例３ｆで得られた粗生成物（0.65g、2.2mmol）を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（1.0g）を加えた。この懸濁液を37℃で8時間撹拌し、懸濁液をセライトで濾過し、酢酸エチル（5mL、2回）で洗浄した。得られた濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.75g、quant.）を微黄色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 3.98 (2H, s), 5.00 (2H, s), 6.45 (1H, t, J = 74.2 Hz), 6.60 (1H, s), 6.69 (1H, d, J = 9.3 Hz), 7.01 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (2H, d, J = 7.3 Hz);
MS (FAB) m/z: 340 (M)⁺.。

（製造例３ｈ）5-アセトキシメチル-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロフェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.37g、0.60mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.18mL、1.8mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（2.7μL、0.018mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（0.45g、0.60mmol）、製造例３ｇで得られた化合物（0.20g、0.60mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（37μL、0.30mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例３ｉ）2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例３ｈで得られた混合物（0.60mmol）をテトラヒドロフラン（2mL）およびメタノール（2mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（2mL、4mmol）を加えて室温で30分間撹拌した。混合物に水（10mL）を加えた後、酢酸エチル（20mL、3回）で抽出し、有機層を飽和食塩水（10mL）で2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.11g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.6 Hz), 3.36-3.51 (4H, m), 4.00 (1H, d, J = 15.1 Hz), 4.06-4.07 (1H, m), 4.08 (1H, d, J = 15.1 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.71 (1H, t, J = 74.5 Hz), 6.80 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.98 (2H, d, J = 8.6 Hz), 6.99 (1H, s), 7.32 (2H, d, J = 8.6 Hz);
MS (FAB) m/z: 497 (M+Na)⁺.。

（製造例４）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.9）

（製造例４ａ）3-ヒドロキシ-4-(4-メチルベンゾイル)-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（3.0g、16.3mmol）をアセトニトリル（50mL）に溶解し、トリエチルアミン（6.8mL、48.8mmol）および塩化p-トルオイル（2.26mL、17.1mmol）を加え、室温で10分間撹拌した。さらに、トリメチルシリルシアニド（260μL、1.95mmol）を加え、60℃で2時間撹拌した。減圧下溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチル（30mL）に溶解し、1M塩酸（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（3.47g）を褐色油状物質として得た。

（製造例４ｂ）3-クロロ-4-(4-メチルベンゾイル)-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例４ａで得られた化合物（1.0g、3.3mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、氷冷下、二塩化オキサリル（300μL、3.5mmol）、2-メチル-2-ブテン（1.4mL、13.2mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（100μL、1.29mmol）を加え、室温で2時間攪拌した。反応液に蒸留水（5mL）を加え、塩化メチレン（10mL）で希釈し、蒸留水（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣にトルエン（10mL）を加えて減圧下溶媒留去を2回行い、標記化合物の粗生成物（1.2g）を褐色油状物質として得た。

（製造例４ｃ）3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メチルベンゾイル)安息香酸エチル
製造例４ｂで得られた粗生成物（1.2g）に、N-メチルモルホリン（10mL）およびヨウ素（1.68g、6.6mmol）を加え、室温で2時間攪拌した。セライトで濾過後、トルエン（10mL）で希釈し、亜硫酸ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜4：1〜3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.77g）を黄色固体として得た。

（製造例４ｄ）3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-[1-ヒドロキシ-1-(4-メチルフェニル)メチル]安息香酸エチル
製造例４ｃで得られた化合物（0.77g、2.4mmol）をメタノール（6mL）およびテトラヒドロフラン（1mL）からなる溶液に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（137mg、3.6mmol）を加え、0℃で1時間攪拌した。氷冷下、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（5mL）を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチル（10mL）に溶解し、飽和塩化アンモニウム水溶液（5mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、6：1〜5：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.57g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.38 (3H, t, J = 7.3 Hz), 2.34 (3H, s), 2.97 (1H, brs), 4.36 (2H, q, J = 7.2 Hz), 6.47 (1H, s), 7.17 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.32 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.51 (1H, s), 7.56 (1H, s), 9.15 (1H, brs).。

（製造例４ｅ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-カルボン酸エチル
製造例４ｄで得られた化合物（0.57g、1.8mmol）をアセトン（6mL）に溶解し、-10℃で、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（220μL、1.8mmol）を加え、0℃までゆっくりと昇温しながら3時間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）を加え、酢酸エチル（20mL）で希釈し、飽和食塩水（10mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.65g、quant.）を無色油状物質として得た。

（製造例４ｆ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメタノール
製造例４ｅで得られた化合物（0.65g、1.8mmol）をテトラヒドロフラン（10mL）に溶解し、氷冷下、水素化アルミニウムリチウム（101mg、2.7mmol）を加え、室温で2時間撹拌した。氷冷下、反応液に蒸留水（5mL）を加え、酢酸エチル（10mL）で希釈し、2M塩酸（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.55g）を無色固体として得た。

（製造例４ｇ）酢酸 5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメチル
製造例４ｆで得られた粗生成物（0.55g、1.8mmol）を塩化メチレン（7mL）に溶解し、氷冷下、無水酢酸（200μL、2.1mmol）、ピリジン（350μL、3.5mmol）および4-ジメチルアミノピリジン（65mg、0.5mmol）を加え、室温で20時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（15mL）で希釈し、2M塩酸（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.65g）を無色油状物質として得た。

（製造例４ｈ）酢酸 3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メチルベンジル)ベンジル
製造例４ｇで得られた粗生成物（0.65g、1.8mmol）をアセトニトリル（7mL）に溶解し、氷冷下、トリエチルシラン（850μL、5.3mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（340μL、2.7mmol）を加え、0℃で1時間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）を加え、酢酸エチル（10mL）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、8：1〜6：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（376mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.12 (3H, s), 2.30 (3H, s), 4.14 (2H, s), 4.93 (1H, s), 5.00 (2H, s), 6.72 (1H, s), 7.02 (1H, s), 7.09 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.15 (2H, d, J = 7.8 Hz);
MS (EI) m/z: 304 (M)⁺.。

（製造例４ｉ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（240mg、0.39mmol）を塩化メチレン（5mL）に溶解し、氷冷下、トリクロロアセトニトリル（120μL、1.20mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）を加えて、0℃で1時間撹拌した。反応液を塩化メチレン（10mL）で希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液（5mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、相当するイミダートの粗生成物を黄色アモルファスとして得た。

得られたイミダートを塩化メチレン（5mL）に溶解し、氷冷下、製造例４ｈで得られた化合物（100mg、0.33mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（50μL、0.39mmol）を加えて、0℃で2時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン（100μL、0.72mmol）を加えた後に、酢酸エチル（10mL）で希釈し、飽和食塩水（10mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（350mg）を得た。

（製造例４ｊ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例４ｉで得られた粗生成物（350mg、0.33mmol）をテトラヒドロフラン（1mL）およびメタノール（4mL）からなる溶液に溶解し、炭酸ナトリウム（46mg、0.33mmol）を加え、室温で2時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣を酢酸エチル（10mL）に溶解し、飽和塩化アンモニウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、20：1〜15：1〜10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（76mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.3 Hz), 2.25 (3H, s), 3.37-3.38 (2H, m), 3.43-3.45 (2H, m), 4.05 (1H, dd, J = 6.7 Hz, 3.5 Hz), 4.10 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.23 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.55 (2H, s), 4.92 (1H, d, J = 7.4 Hz), 7.00 (2H, d, J = 7.9 Hz), 7.09-7.12 (4H, m);
MS (FAB) m/z: 438 (M+Na)⁺.。

（製造例５）3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.7）

（製造例５ａ）4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（0.35g、1.9mmol）をアセトニトリル（4mL）に溶解し、トリエチルアミン（0.79mL、5.7mmol）、塩化3-フルオロ-4-メチルベンゾイル（J.Med.Chem.,1997,40,2064-2084.）（0.33g、1.9mmol）およびトリメチルシリルシアニド（0.030mL、0.23mmol）を用い、製造例１ｂと同様の方法により、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.61g）を得た。

（製造例５ｂ）4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-3-フルオロ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例５ａで得られた化合物（0.61g、1.9mmol）を塩化メチレン（8mL）に溶解し、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（0.75mL、5.7mmol）を用いて、製造例３ｂと同様の方法により、標記化合物（0.31g）を得た。

（製造例５ｃ）4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例５ｂで得られた化合物（0.31g、0.96mmol）をアセトニトリル（3mL）に溶解し、氷冷化、トリエチルアミン（0.40mL、2.9mmol）およびヨウ化トリメチルシリル（0.34mL、2.4mmol）を加え、室温で2時間撹拌した。反応終了後、氷冷下、反応液をトルエン（10mL）で希釈し、リン酸緩衝溶液（pH7、5mL）で2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して、得られた残渣をトルエン（10mL）で希釈した。この溶液に、シリカゲル（関東化学社製、シリカゲル60（球状）、40〜100μm、1g）を加え、室温で1時間撹拌した。この混合物をセライトで濾過して、減圧下溶媒を留去し、エタノール（10mL）および炭酸カリウム（0.41g、3.0mmol）を加えて、50℃で1時間撹拌した。反応液を室温に冷却後、酢酸エチル（20mL）で希釈し、1M塩酸（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.17g）を得た。

（製造例５ｄ）3-フルオロ-2-[1-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-1-ヒドロキシメチル]-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例５ｃで得られた化合物（0.17g、0.53mmol）をテトラヒドロフラン（5mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（60mg、1.6mmol）を用いて、製造例１ｅと同様の方法により、標記化合物（0.13g）を粗生成物として得た。

（製造例５ｅ）酢酸 3-フルオロ-4-[1-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-1-ヒドロキシメチル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例５ｄで得られた粗生成物（0.13g、0.46mmol）を酢酸ビニル（3mL）およびジイソプロピルエーテル（3mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（0.13g）を加え、室温で2日間撹拌した。反応終了後、混合物をセライトで濾過し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.12g）を得た。

（製造例５ｆ）酢酸 3-フルオロ-4-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例５ｅで得られた化合物（0.12g、0.37mmol）をアセトニトリル（3mL）に溶解し、-40℃でトリエチルシラン（0.18mL、1.1mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（70μL、0.56mmol）を加え、室温まで昇温しながら1時間撹拌した。反応終了後、氷冷下、反応液にトリエチルアミン（0.15mL、1.1mmol）を加え、酢酸エチル（10mL）で希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液（5mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（85mg）を得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.12 (3H, s), 2.22 (3H, s), 3.96 (2H, s), 5.01 (2H, s), 6.61 (1H, s), 6.68 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.91-6.97 (2H, m), 7.07 (1H, m);
MS (EI) m/z: 306 (M)⁺.。

（製造例５ｇ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.37g、0.60mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.18mL、1.8mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（2.7μL、0.018mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.45g、0.60mmol）、製造例５ｆで得られた化合物（85mg、0.28mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（37μL、0.30mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例５ｈ）3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例５ｇで得られた混合物（0.28mmol）をテトラヒドロフラン（2mL）およびメタノール（1mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（2mL、4mmol）を加えて製造例３ｉと同様の方法により標記化合物（84mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.20 (3H, d, J = 6.7 Hz), 2.17 (3H, s), 3.38-3.47 (4H, m), 3.97 (1H, d, J = 14 Hz), 4.03-4.05 (1H, m), 4.05 (1H, d, J = 14 Hz), 4.56 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.80 (1H, d, J = 9.3 Hz), 6.91(1H, d, J = 11 Hz), 6.96-7.06 (3H, m);
MS (FAB) m/z: 441 (M+H)⁺, 463 (M+Na)⁺.。

（製造例６）3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.17）

（製造例６ａ）塩化3-フルオロ-4-メチルベンゾイル
3-フルオロ-4-メチル安息香酸（880mg、5.71mmol）、二塩化オキサリル（0.50mL、5.71mmol）、触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドおよびテトラヒドロフラン（10mL）を用いて製造例１ａと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（950mg）を無色油状物質として得た。

（製造例６ｂ）4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（950mg、5.16mmol）、製造例６ａで得られた粗生成物（950mg、11mmol）、アセトニトリル（10mL）、トリエチルアミン（2.27mL、1.63mmol）およびトリメチルシリルシアニド（0.087mL、0.65mmol）を用いて製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.65g）を得た。

（製造例６ｃ）3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例６ｂで得られた粗生成物（1.65g、5.15mmol）、塩化メチレン（20mL）、2-メチル-2-ブテン（2.19mL、20.6mmol）、二塩化オキサリル（0.46mL、5.36mmol）および触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドを用い製造例１ｃと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.75g）を得た。

（製造例６ｄ）3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メチルベンゾイル)-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例６ｃで得られた粗生成物（1.75g、5.15mmol）、N-メチルモルホリン（20mL）、無水硫酸ナトリウム（14.6g）およびヨウ素（1.43g、5.63mmol）を用い、製造例１ｄと同様の方法により、標記化合物の粗生成物を得た。次いで、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製して、アモルファス状の標記化合物（1.28g）を得た。

（製造例６ｅ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-安息香酸エチル
製造例６ｄで得られた化合物（1.28g、3.80mmol）、メタノール（12mL）および水素化ホウ素ナトリウム（290mg、7.67mmol）を用い、製造例２ｂと同様の方法により、ジオール体粗生成物（1.28g）を得た。-10℃に冷却した三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.475mL、3.78mmol）をアセトン（10mL）に溶解し、ジオール体粗生成物（1.28g）を溶解させたアセトン溶液（15mL）をゆっくり加えた。その後1時間かけて反応液を10℃まで昇温した。反応液に酢酸エチル（50mL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（30mL）および飽和食塩水（30mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜5：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（964mg）を得た。

（製造例６ｆ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメタノール
製造例６ｅで得られた化合物（960mg、2.53mmol）、水素化リチウムアルミニウム（96mg、2.53mmol）およびテトラヒドロフラン（5mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（860mg）をアモルファスとして得た。

（製造例６ｇ）酢酸 5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメチル
製造例６ｆで得られた粗生成物（860mg）をピリジン（8.6mL）に溶解し、氷冷下、無水酢酸（2.2mL）を加え、室温で1時間攪拌した。反応液にメタノール（2.2mL）を加え、15分間攪拌した後に、酢酸エチル（40mL）を加え、30％クエン酸水溶液（10mL、2回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（900mg）を得た。

（製造例６ｈ）酢酸 3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例６ｆで得られた化合物（900mg、2.38mmol）、アセトニトリル（15mL）、トリエチルシラン（1.14mL、7.09mmol）およびフッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（0.450mL、3.58mmol）を用い、製造例２ｆと同様の方法により、標記化合物（631mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 2.21 (3H, s), 4.12 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.28 (1H, brs), 6.71 (1H, s), 6.89 (1H, d, J = 10.8 Hz), 6.94 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.01 (1H, s), 7.06 (1H, t, J = 8.0 Hz)；
MS (FAB) m/z: 345 (M+Na)⁺.

（製造例６ｉ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（250mg、0.41mmol）、塩化メチレン（4mL）、トリクロロアセトニトリル（0.210mL、2.08mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（309mg）、製造例６ｈで得られた化合物（100mg、0.41mmol）、塩化メチレン（4mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.051mL、0.41mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（280mg）を得た。

（製造例６ｊ）3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例６ｉで得られた粗生成物（280mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL／2mL）および炭酸カリウム（566mg、4.10mmol）を用い、製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（76mg）を無色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチルから行った。
¹H NMR (500 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.3 Hz), 2.18 (3H, s), 3.35-3.41 (2H, m), 3.44-3.46 (2H, m), 4.03-4.08 (1H, m), 4.12 (1H, d, J = 15.0 Hz), 4.24 (1H, d, J = 15.0 Hz), 4.56 (2H, s), 4.94 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.87 (1H, d, J = 11.2 Hz), 6.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.04 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.11 (1H, s), 7.14 (1H, s);
MS (FAB) m/z: 479 (M+Na)⁺.。

（製造例７）3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.8）

（製造例７ａ）3,5-ジフルオロ-4-[1-(3-フルオロ-4-メトキシフェニル)-1-ヒドロキシメチル]ベンゾニトリル
ジイソプロピルアミン（1.20mL、8.49mmol）をテトラヒドロフラン（7mL）に溶解し、氷冷下、n-ブチルリチウム（2.60mL、7.19mmol、2.77M n-ヘキサン溶液）を滴下した。同じ温度で10分間攪拌した後、-78℃に冷却し、3,5-ジフルオロベンゾニトリル（1.00g、7.19mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（5mL）を反応液にゆっくりと滴下した。同じ温度で1時間攪拌した後、3-フルオロ-4-メトキシベンズアルデヒド（1.11g、7.20mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（5mL）を反応液にゆっくりと滴下し、同温度で2時間攪拌した。-20℃まで昇温した後、反応液に0.5M塩酸を加えて反応を停止した。反応液を酢酸エチル（60mL）で希釈し、水（30mL）および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（30mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物を（1.59g）を得た。

（製造例７ｂ）3,5-ジフルオロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)ベンゾニトリル
製造例７ａで得られた化合物（1.59g、5.42mmol）をアセトニトリル（16mL）に溶解し、氷冷下、トリエチルシラン（2.6mL、16mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（1.0mL、7.9mmol）を加えた。室温で2時間半撹拌した後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した。反応液を酢酸エチル（60mL）で希釈し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（1.05g）を無色固体として得た。

（製造例７ｃ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)ベンゾニトリル
製造例７ｂで得られた化合物（1.05g、3.79mmol）およびベンジルアルコール（0.53g、4.9mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（11mL）に溶解し、氷冷下、水素化ナトリウム（63％、0.22g、5.7mmol）を加えた。同温度で2時間撹拌した後、反応液に2M塩酸を滴下して反応を停止した。反応液を酢酸エチル（100mL）で希釈し、水（50mL、2回）で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物を含む混合物（1.05g）を得た。

（製造例７ｄ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)安息香酸
製造例７ｃで得られた混合物（1.04g、2.85mmol）をエタノール（14.5mL）に溶解し、室温で5M水酸化ナトリウム水溶液（2.9mL、15mmol）を加えた。加熱還流条件下で2時間撹拌した後、室温まで冷却し、反応液に2M塩酸（8mL）を加えた（pH＝1）。析出した固体を濾取し、水で洗浄した後、減圧下乾燥して、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例７ｅ）3-フルオロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシ安息香酸
製造例７ｄで得られた混合物（2.85mmol）をテトラヒドロフラン（10mL）およびメタノール（10mL）からなる溶液に溶解し、攪拌しながら窒素置換を行なった。反応液に10％パラジウム炭素触媒（含水、0.20g）を加え、気相を水素置換した後、室温で40分間撹拌した。混合物をメンブレンフィルターで濾過して触媒を除去した後、減圧下溶媒を留去して標記化合物を含む混合物（0.90g）を無色固体として得た。

（製造例７ｆ）3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
水素化アルミニウムリチウム（0.27g、7.1mmol）をテトラヒドロフラン（2mL）に懸濁し、氷冷下、製造例７ｅで得られた混合物（0.90g、2.85mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（28mL）を滴下した。50℃で2時間撹拌した後、氷冷下、反応液に水および2M塩酸を滴下して反応を停止した。反応液を酢酸エチル（60mL）で希釈し、飽和食塩水（20mL、2回）で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、1：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.61g）を無色固体として得た。

（製造例７ｇ）酢酸 3-フルオロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例７ｆで得られた化合物（0.60g、2.14mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）に溶解し、酢酸ビニル（3mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（0.35g、0.63mmol）を加え、室温で3日間攪拌した。減圧下溶媒を除去し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、2：1〜1：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物を（0.69g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 3.85 (3H, s), 3.93 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.17 (1H, d, J = 1.2 Hz), 6.60 (1H, brs), 6.69 (1H, dd, J = 9.5 Hz, 1.4 Hz), 6.86 (1H, t, J = 8.6 Hz), 6.97-7.03 (2H, m);
MS (FAB) m/z: 322 (M)⁺.

（製造例７ｈ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.68g、1.1mmol）、塩化メチレン（14mL）、トリクロロアセトニトリル（0.34mL、3.4mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（15μL、0.10mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（1.1mmol）、製造例７ｇで得られた化合物（300mg、0.931mmol）、塩化メチレン（5mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（60μL、0.47mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物の粗生成物を得た。

（製造例７ｉ）3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例７ｈで得られた粗生成物をテトラヒドロフラン（2mL）およびメタノール（6mL）からなる溶液に溶解し、ナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液、0.36g、1.9mmol）を溶解させたメタノール溶液（3mL）を室温で加えて終夜静置した。氷冷下、反応液に2M塩酸（0.95mL、1.9mmol）および飽和食塩水を加えた後、酢酸エチル（50mL、2回）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、9：1〜5：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（343mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.6 Hz), 3.37-3.40 (2H, m), 3.44-3.51 (2H, m), 3.80 (3H, s), 3.94 (1H, d, J = 14.5 Hz), 3.99-4.08 (2H, m), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.80 (1H, dd, J = 10.4 Hz, 1.0 Hz), 6.91 (1H, t, J = 8.8 Hz), 6.98-7.03 (3H, m);
MS (FAB) m/z: 479 (M+Na)⁺.。

（製造例８）3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.19）

（製造例８ａ）4-(3-フルオロ-4-メトキシベンゾイル)-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（800mg、4.34mmol）、塩化3-フルオロ-4-メトキシベンゾイル（819mg、4.34mmol）、アセトニトリル（14mL）、トリエチルアミン（1.82mL、13.1mmol）およびトリメチルシリルシアニド（0.070mL、0.52mmol）を用い、製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.30g）を得た。

（製造例８ｂ）3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンゾイル)-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例８ａで得られた粗生成物（1.30g、3.87mmol）、塩化メチレン（18mL）、2-メチル-2-ブテン（1.74mL、16.4mmol）、二塩化オキサリル（0.348mL、4.06mmol）および触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドを用い、製造例１ｃと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.37g）を得た。

（製造例８ｃ）3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンゾイル)-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例８ｂで得られた粗生成物（1.37g、3.86mmol）、N-メチルモルホリン（15.6mL）、無水硫酸ナトリウム（11.0g）およびヨウ素（1.18g、4.65mmol）を用い、製造例１ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物を得た。次いで、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製してアモルファス状の標記化合物（672mg）を得た。

（製造例８ｄ）3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例８ｃで得られた化合物（670mg、1.90mmol）、メタノール（8mL）および水素化ホウ素ナトリウム（144mg、3.81mmol）を用い、製造例２ｂと同様の方法により、3-クロロ-4-[1-(3-フルオロ-4-メトキシフェニル)-1-ヒドロキシメチル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル（670mg）を粗生成物として得、精製せずに次の反応に用いた。

この粗生成物（670mg、1.89mmol）をアセトニトリル（8mL）に溶解し、トリエチルシラン（0.900mL、5.65mmol）を加え、0℃に冷却後、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.356mL、2.87mmol）をさらに加え、室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（40mL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去して、標記化合物と3-クロロ-4-[1-(3-フルオロ-4-メトキシフェニル)-1-ヒドロキシメチル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチルとを含む混合物（525mg）を得た。

（製造例８ｅ）酢酸 3-クロロ-4-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例８ｄで得られた混合物（525mg）、水素化リチウムアルミニウム（118mg、3.11mmol）およびテトラヒドロフラン（8mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により混合物（333mg）をアモルファスとして得た。得られた混合物（333mg）、テトラヒドロフラン（4mL）、酢酸ビニル（4mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（186mg、0.34mmol）を用い、製造例２ｅと同様の方法により、標記化合物および酢酸 3-クロロ-4-[1-(3-フルオロ-4-メトキシフェニル)-1-ヒドロキシメチル]-5-ヒドロキシベンジルを含む混合物（322mg）を得た。

さらにこの混合物（322mg）をアセトニトリル（4mL）に溶解し、トリエチルシラン（0.430mL、2.70mmol）を加え、0℃に冷却後、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.170mL、1.35mmol）を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（40mL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20mL）および飽和食塩水（20mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去し、最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（252mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.12 (3H, s), 3.85 (3H, s), 4.09 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.19 (1H, s), 6.72 (1H, d, J = 1.5 Hz), 6.86 (1H, t, J = 8.6 Hz), 6.98-7.02 (3H, m)；
MS (FAB) m/z: 377 (M+K)⁺.。

（製造例８ｆ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（328mg、0.54mmol）、塩化メチレン（5mL）、トリクロロアセトニトリル（0.272mL、2.69mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（7μL、0.05mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（406mg）、製造例８ｅで得られた化合物（140mg、0.41mmol）、塩化メチレン（5mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.068mL、0.54mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（540mg）を得た。

（製造例８ｇ）3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例８ｆで得られた粗生成物（540mg）、メタノール／塩化メチレン（10mL/5mL）および炭酸カリウム（570mg、4.12mmol）を用い、製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（73mg）を無色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチル／メタノールから行った。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.21 (3H, d, J = 6.2 Hz), 3.35-3.42 (2H, m), 3.45-3.47 (2H, m), 3.80 (3H, s), 4.06 (1H, dd, J = 6.5 Hz, 3.7 Hz), 4.09 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.20 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.89-7.02 (3H, m), 7.11 (1H, s), 7.13 (1H, s);
MS (FAB) m/z: 495 (M+Na)⁺.。

（製造例９）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.8）

（製造例９ａ）3,5-ジフルオロ-4-[1-(2-フルオロ-4-メトキシフェニル)-1-ヒドロキシメチル]ベンゾニトリル
ジイソプロピルアミン（1.20mL、8.49mmol）、n-ブチルリチウム（2.60mL、7.19mmol、2.77M n-ヘキサン溶液）、3,5-ジフルオロベンゾニトリル（1.00g、7.19mmol）、2-フルオロ-4-メトキシベンズアルデヒド（1.11g、7.20mmol）およびテトラヒドロフラン（17mL）を用い、製造例７ａと同様の方法により標記化合物（1.66g）を淡黄色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1〜4：1〜2：1、V/V）を用いて行った。

（製造例９ｂ）3,5-ジフルオロ-4-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)ベンゾニトリル
製造例９ａで得られた化合物（1.66g、5.66mmol）、トリエチルシラン（2.7mL、17mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（1.1mL、8.7mmol）およびアセトニトリル（17mL）を用い、製造例７ｂと同様の方法により標記化合物（1.29g）を無色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1、V/V）を用いて行った。

（製造例９ｃ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)ベンゾニトリル
製造例９ｂで得られた化合物（1.28g、4.62mmol）、水素化ナトリウム（63％、0.26g、6.8mmol）、ベンジルアルコール（0.66g、6.1mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（13mL）を用い、製造例７ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.95g）を淡黄色固体として得た。

（製造例９ｄ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)安息香酸
製造例９ｃで得られた粗生成物（0.95g、2.6mmol）、5M水酸化ナトリウム水溶液（2.6mL、13mmol）およびエタノール（13mL）を用い、製造例７ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.97g）を淡黄色固体として得た。

（製造例９ｅ）3-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシ安息香酸
製造例９ｄで得られた粗生成物（0.97g、2.5mmol）、10％パラジウム炭素触媒（含水、0.20g）、テトラヒドロフラン（10mL）、メタノール（10mL）および水素を用い、製造例７ｅと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.75g）を淡黄色固体として得た。

（製造例９ｆ）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例９ｅで得られた粗生成物（465mg、1.58mmol）、水素化アルミニウムリチウム（0.12g、3.2mmol）およびテトラヒドロフラン（12mL）を用い、製造例７ｆと同様の方法により標記化合物（0.37g）を無色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、1：1〜2：3、V/V）を用いて行った。

（製造例９ｇ）酢酸 3-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例９ｆで得られた化合物（0.37g、1.32mmol）、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（0.22g、0.40mmol）、酢酸ビニル（2mL）およびテトラヒドロフラン（2mL）を用い、製造例７ｇと同様の方法により標記化合物（0.39g）を淡黄色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、2：1〜3：2、V/V）を用いて行った。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃):δ 2.11 (3H, s), 3.76 (3H, s), 3.93 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.20-5.21 (1H, m), 6.59-6.64 (3H, m), 6.69 (1H, dd, J = 9.6 Hz, 1.3 Hz), 7.06 (1H, t, J = 8.8 Hz);
MS (FAB) m/z: 332 (M)⁺.。

（製造例９ｈ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.74g、1.2mmol）、塩化メチレン（7.5mL）、トリクロロアセトニトリル（0.36mL、3.6mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（20μL、0.13mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（1.2mmol）、製造例９ｇで得られた化合物（300mg、0.931mmol）、塩化メチレン（7mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（60μL、0.47mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物の粗生成物を得た。

（製造例９ｉ）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド

製造例９ｈで得られた粗生成物、ナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液、0.36g、1.9mmol）、テトラヒドロフラン（2mL）およびメタノール（6mL）を用い、製造例７ｉと同様の方法により標記化合物（342mg）を無色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、7：1〜5：1、V/V）を用いて行った。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.19 (3H, d, J = 6.3 Hz), 3.34-3.39 (2H, m), 3.42-3.48 (2H, m), 3.73 (3H, s), 3.97 (1H, d, J = 14.9 Hz), 4.01-4.07 (2H, m), 4.56 (2H, s), 4.93-4.95 (1H, m), 6.56 (1H, dd, J = 8.6 Hz, 2.4 Hz), 6.60 (1H, dd, J = 11.8 Hz, 2.3 Hz), 6.80 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.99-7.03 (2H, m);
MS (FAB) m/z: 479 (M+Na)⁺.。

（製造例１０）3-クロロ-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.10）

（製造例１０ａ）3-クロロ-4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル]-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例３ｂで得られた化合物（1.7g、5.0mmol）を塩化メチレン（20mL）に溶解し、2-メチル-2-ブテン（2.2mL、20mmol）、塩化オキサリル（0.45mL、5.2mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（0.1mL、0.13mmol）を用いて、製造例１ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.8g）を得た。

（製造例１０ｂ）3-クロロ-4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンゾイル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１０ａで得られた粗生成物（1.8g、6.5mmol）をN-メチルモルホリン（20mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（1.8g）およびヨウ素（1.5g、6.0mmol）を用いて、製造例１ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.9g）を得た。

（製造例１０ｃ）3-クロロ-2-{1-[4-(ジフルオロメトキシ)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例１０ｂで得られた粗生成物（1.8g、4.9mmol）をテトラヒドロフラン（55mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（0.57g、15mmol）を用いて、製造例１ｅと同様の方法により、標記化合物（1.3g）を黄色固体として得た。

（製造例１０ｄ）酢酸 3-クロロ-4-{1-[4-(ジフルオロメトキシ)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-ヒドロキシベンジル
製造例１０ｃで得られた化合物（1.3g、4.0mmol）を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（0.6g）を用いて、製造例１ｆと同様の方法により得られた粗生成物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.99g）を得た。

（製造例１０ｅ）酢酸 3-クロロ-4-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例１０ｄで得られた化合物（0.99g、2.56mmol）をアセトニトリル（10mL）に溶解し、トリエチルシラン（1.3mL、7.9mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.49mL、3.9mmol）を用いて、製造例１ｇと同様の方法により、標記化合物（0.58g、ただし28％程度の原料を含む）を得た。

（製造例１０ｆ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.61g、1.0mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.3mL、3.0mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（4.3μL、0.03mmol）を用いて、製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.76g、1.0mmol）および製造例１０ｅで得られた化合物（0.20g、実質0.40mmol）を塩化メチレン（5mL）に溶解し、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（63μL、0.50mmol）を用いて、製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例１０ｇ）3-クロロ-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１０ｆで得られた混合物（0.40mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて、製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（32mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.4 Hz), 3.34-3.46 (4H, m), 4.15(1H, d, J = 14.3 Hz), 4.25 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.3 Hz), 6.70 (1H, t, J = 74.4 Hz), 6.96 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.10 (1H, s), 7.13 (1H, s), 7.29 (2H, d, J = 8.6 Hz);
MS (FAB) m/z: 491 (M+H)⁺, 513 (M+Na)⁺.。

（製造例１１）3-フルオロ-2-[4-(2-フルオロエチル）ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.2）

（製造例１１ａ）3-フルオロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル]-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例１ｂで得られた粗生成物（2.0g、6.2mmol）を塩化メチレン（18mL）に溶解し、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（2.5mL、19mmol）を用いて、製造例３ｂと同様の方法により、標記化合物（1.6g）を得た。

（製造例１１ｂ）3-フルオロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンゾイル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１１ａで得られた化合物（1.6g、4.9mmol）をN-メチルモルホリン（16mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（1.6g）およびヨウ素（1.4g、5.4mmol）を用いて、製造例３ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.6g）を得た。

（製造例１１ｃ）3-フルオロ-4-{1-[4-(2-フルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１１ｂで得られた粗生成物（1.6g、4.9mmol）をエタノール（20mL）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（0.37g、9.8mmol）を用いて、製造例３ｄと同様の方法により標記化合物（0.83g）を無色固体として得た。

（製造例１１ｄ）3-フルオロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１１ｃで得られた化合物（0.83g、2.5mmol）をエタノール（15mL）に溶解し、10％塩化水素メタノール（0.5mL、2.5mmol）および10％パラジウム炭素触媒（含水、0.5g）を用い、製造例３ｅと同様の方法により、標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.37g）を無色固体として得た。

（製造例１１ｅ）3-フルオロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例１１ｄで得られた化合物（0.37g、1.2mmol）をテトラヒドロフラン（15mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（0.13g、3.5mmol）を用い、製造例３ｆと同様の方法により標記化合物（0.33g）を粗生成物として得た。

（製造例１１ｆ）酢酸 3-フルオロ-4-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例１１ｅで得られた粗生成物（0.33g、1.2mmol）を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（1.0g）を用い、製造例３ｇと同様の方法により標記化合物（0.35g）を微褐色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃):δ 2.11 (3H, s), 2.97 (2H, dt, J = 22.8, 6.5 Hz), 3.99 (2H, s), 4.60 (2H, dt, J = 46.9, 6.5 Hz), 5.01 (2H, s), 6.60 (1H, s), 6.69 (1H, d, J = 9.8 Hz), 7.14 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.1 Hz);
MS (FAB) m/z: 320 (M)⁺.。

（製造例１１ｇ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.61g、1.0mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.30mL、3.0mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（4μL、0.03mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.75g、1.0mmol）、製造例１１ｆで得られた化合物（0.25g、0.78mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（39μL、0.39mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例１１ｈ）3-フルオロ−２−［４−（２−フルオロエチル）ベンジル］-5-ヒドロキシメチル−フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１１ｇで得られた混合物（0.78mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて、製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（0.21g）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CD₃OD): δ 1.20 (3H, d, J = 6.4 Hz), 2.90 (2H, dt, J = 22.9, 6.6 Hz), 3.34-3.50 (4H, m), 3.97 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.05-4.06 (1H, m), 4.07 (1H, d, J = 7.8 Hz), 4.52 (2H, dt, J = 47.4, 6.6 Hz), 4.54 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.78 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.97 (1H, s), 7.08 (2H, d, J = 7.9 Hz), 7.21 (2H, d, J = 7.9 Hz);
MS (FAB) m/z: 493 (M+K)⁺.。

（製造例１２）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-トリフルオロメトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.3）

（製造例１２ａ）3-ヒドロキシ-5-オキソ-4-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（1.3g、7.3mmol）および塩化4-(トリフルオロメトキシ)ベンゾイル（J.Med.Chem.,45(14),2002,3112-3129.）（1.6ｇ、7.3mmol）を用い、製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（2.4g）を得た。

（製造例１２ｂ）3-フルオロ-5-オキソ-4-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチルエステル
製造例１２ａで得られた粗生成物（1.8g、5.4mmol）を塩化メチレン（15mL）に溶解し、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（2.1mL、16mmol）を用いて製造例３ｂと同様の方法により標記化合物（1.5g）を黄色油状物質として得た。

（製造例１２ｃ）3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンゾイル]安息香酸エチル
製造例１２ｂで得られた化合物（1.5g、4.5mmol）をN-メチルモルホリン（18mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（1.5g）およびヨウ素（1.3g、5.0mmol）を用いて、製造例１ｄと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.5g）を得た。

（製造例１２ｄ）3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-{1-ヒドロキシ-1-[4-(トリフルオロメトキシ)フェニル]メチル}安息香酸エチル
製造例１２ｃで得られた粗生成物（1.5g、4.5mmol）をエタノール（15mL）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（0.34g、9.0mmol）を用いて製造例３ｄと同様の方法により標記化合物（1.0g）を得た。

（製造例１２ｅ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-{1-ヒドロキシ-1-[4-(トリフルオロメトキシ)フェニル]メチル}フェノール
製造例１２ｄで得られた化合物（1.0g、3.0mmol）をテトラヒドロフラン（20mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（0.46g、12mmol）を用いて、製造例１ｅと同様の方法（ただし、精製は行っていない。）により、標記化合物（1.0g）を粗生成物として得た。

（製造例１２ｆ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-{1-ヒドロキシ-1-[4-(トリフルオロメトキシ)フェニル]メチル}ベンジル
製造例１２ｅで得られた粗生成物（1.0g、3.0mmol）を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（1.0g）を用いて、製造例１ｆと同様の方法により得られた粗生成物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.65g）を得た。

（製造例１２ｇ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンジル]ベンジル
製造例１２ｆで得られた化合物（0.65g、1.7mmol）をアセトニトリル（10mL）に溶解し、トリエチルシラン（0.83mL、5.2mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.33mL、2.6mmol）を用いて製造例１ｇと同様の方法により、標記化合物（0.18g）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 4.00 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.19 (1H, brs), 6.60 (1H, s), 6.70 (1H, dd, J = 9.6, 1.4 Hz), 7.11 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.30 (2H, d, J = 8.1 Hz);
MS (FAB) m/z: 358 (M)⁺.。

（製造例１２ｈ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.61g、1.0mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.3mL、3.0mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（4.3μL、0.03mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.76g、1.0mmol）および製造例１２ｇで得られた化合物（0.18g、0.50mmol）を塩化メチレン（5mL）に溶解し、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（63μL、0.50mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例１２ｉ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(トリフルオロメトキシ)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１２ｈで得られた混合物（0.50mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（0.12g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.20 (3H, d, J = 6.7 Hz), 3.36-3.51 (4H, m), 4.04 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.06-4.07 (1H, m), 4.11 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.55 (2H, s), 4.96 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.81 (1H, d, J = 10.2 Hz), 7.00 (1H, s), 7.11 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.38 (2H, d, J = 8.8 Hz);
MS (FAB) m/z: 515 (M+Na)⁺.。

（製造例１３）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド（表１のNo.25）

（製造例１３ａ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-2,3,6-トリ-O-ベンゾイル-β-D-グルコピラノシド
4-デオキシ-2,3,6-トリ-4-O-ベンゾイル-D-グルコピラノシド（Liebig Ann.Chem.,1992,7,747-758.）（200mg、0.42mmol）、トリクロロアセトニトリル（125μL、1.25mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、酢酸 3-フルオロ-4-(4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（100mg、0.35mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（44μL、0.35mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（285mg）を得た。

（製造例１３ｂ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド
製造例１３ａで得られた粗生成物（285mg、0.35mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カルシウム（48mg、0.35mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（90mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.47 (1H, q, J = 11.8 Hz), 1.95-2.00 (1H, m), 2.25 (3H, s), 3.39 (1H, dd, J = 9.0, 7.8 Hz), 3.57-3.59 (2H, m), 3.66-3.74 (2H, m), 3.94 (1H, d, J = 13.7 Hz), 4.06 (1H, d, J = 13.7 Hz), 4.55 (2H, s), 4.89 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.78 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.98 (1H, s), 7.00 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.14 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 393 (M+H)⁺, 415 (M+Na)⁺.。

（製造例１４）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド（表１のNo.26）

（製造例１４ａ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-2,3,6-トリ-O-ベンゾイル-β-D-グルコピラノシド

4-デオキシ-2,3,6-トリ-4-O-ベンゾイル-D-グルコピラノシド（188mg、0.39mmol）、トリクロロアセトニトリル（120μL、1.20mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、製造例４ｈで得られた化合物（100mg、0.33mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（41μL、0.33mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（291mg）を得た。

（製造例１４ｂ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド
製造例１４ａで得られた粗生成物（291mg、0.33mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カリウム（46mg、0.33mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（106mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.46 (1H, q, J = 11.8 Hz), 1.95-2.00 (1H, m), 2.25 (3H, s), 3.37 (1H, dd, J = 9.0, 7.8 Hz), 3.57-3.59 (2H, m), 3.66-3.72 (2H, m), 4.09 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.24 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 7.00 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.10 (2H, J = 7.8 Hz), 7.13 (2H, s);
MS (FAB) m/z: 431 (M+Na)⁺.。

（製造例１５）2-(4-エチルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド（表１のNo.24）

（製造例１５ａ）5-アセトキシメチル-2-(4-エチルベンジル)-3-フルオロフェニル 4-デオキシ-2,3,6-トリ-O-ベンゾイル-β-D-グルコピラノシド
4-デオキシ-2,3,6-トリ-4-O-ベンゾイル-D-グルコピラノシド（189mg、0.40mmol）、トリクロロアセトニトリル（120μL、1.20mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、酢酸 4-(4-エチルベンジル)-3-フルオロ-5-ヒドロキシベンジル（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（100mg、0.33mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（42μL、0.33mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（323mg）を得た。

（製造例１５ｂ）2-(4-エチルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド
製造例１５ａで得られた粗生成物（323mg、0.33mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カルシウム（46mg、0.33mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（100mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.17 (3H, t, J = 7.6 Hz), 1.47 (1H, q, J = 11.7 Hz), 1.95-2.00 (1H, m), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 3.40 (1H, dd, J = 9.0, 7.8 Hz), 3.57-3.59 (2H, m), 3.67-3.74 (2H, m), 3.95 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.07 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.90 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.78 (1H, d, J = 9.7 Hz), 6.99 (1H, s), 7.03 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.17 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 407 (M+H)⁺, 429 (M+Na)⁺.。

（製造例１６）3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド（表１のNo.27）

（製造例１６ａ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-2,3,6-トリ-O-ベンゾイル-β-D-グルコピラノシド
4-デオキシ-2,3,6-トリ-4-O-ベンゾイル-D-グルコピラノシド（190mg、0.40mmol）、塩化メチレン（４mL）、トリクロロアセトニトリル（0.200mL、1.98mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（248mg）、製造例２ｆで得られた化合物（100mg、0.31mmol）、塩化メチレン（4mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.050mL、0.40mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（270mg）を得た。

（製造例１６ｂ）3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド
製造例１６ａで得られた粗生成物（270mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL/2mL）および炭酸カリウム（550mg、3.98mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（126mg）を無色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチルから行った。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.18 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.46 (1H, q, J = 11.8 Hz), 1.95-2.00 (1H, m), 2.56 (2H, q, J = 7.5 Hz), 3.37 (1H, dd, J = 9.0, 7.8 Hz), 3.57-3.59 (2H, m), 3.66-3.72 (2H, m), 4.10 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.25 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.89 (1H, d, J = 7.4 Hz), 7.03 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.09 (1H, s), 7.13 (1H, s), 7.15 (2H, d, J = 8.4 Hz);
MS (FAB) m/z: 445 (M+Na)⁺.。

（製造例１７）2-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド（表１のNo.23）

（製造例１７ａ）5-アセトキシメチル-2-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロフェニル 4-デオキシ-2,3,6-トリ-O-ベンゾイル-β-D-グルコピラノシド
4-デオキシ-2,3,6-トリ-4-O-ベンゾイル-D-グルコピラノシド（192mg、0.40mmol）、トリクロロアセトニトリル（120μL、1.20mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、酢酸 4-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロ-5-ヒドロキシベンジル（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（100mg、0.32mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（40μL、0.32mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（301mg）を得た。

（製造例１７ｂ）2-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド
製造例１７ａで得られた粗生成物（301mg、0.32mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カリウム（44mg、0.32mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（107mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 0.57-0.61 (2H, m), 0.85-0.90 (2H, m), 1.47 (1H, q, J = 11.8 Hz), 1.78-1.85 (1H, m), 1.95-2.00 (1H, m), 3.39 (1H, dd, J = 9.0 Hz, 7.8 Hz), 3.57-3.59 (2H, m), 3.66-3.74 (2H, m), 3.93 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.05 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.89 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.77 (1H, d, J = 10.2 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.0 Hz), 6.98 (1H, s), 7.14 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 419 (M+H)⁺, 441 (M+Na)⁺.。

（製造例１８）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.4）

（製造例１８ａ）塩化4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル
4-(2,2,2-トリフルオロエチル)安息香酸（Liebigs Ann.Chem.,1983,9,1510-1523.）（786mg、3.85mmol）、二塩化オキサリル（0.385mL、4.42mmol）、触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドおよびテトラヒドロフラン（6mL）を用いて製造例１ａと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（857mg）を得た。

（製造例１８ｂ）3-ヒドロキシ-5-オキソ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（709mg、3.85mmol）、製造例１８ａで得られた粗生成物（857mg、3.85mmol）、アセトニトリル（10mL）、トリエチルアミン（1.61mL、11.5mmol）およびトリメチルシリルシアニド（0.062mL、0.46mmol）を用いて、製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.42g）を得た。

（製造例１８ｃ）3-フルオロ-5-オキソ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例１８ｂで得られた粗生成物（1.42g、3.61mmol）、塩化メチレン（15mL）およびジエチルアミノ硫黄三フッ化物（1.51mL、11.5mmol）を用い、製造例３ｂと同様の方法により標記化合物（953mg）を白色固体として得た。

（製造例１８ｄ）3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル]安息香酸エチル

製造例１８ｃで得られた化合物（953mg、2.56mmol）、N-メチルモルホリン（12mL）、無水硫酸ナトリウム（7.27g）およびヨウ素（779mg、3.07mmol）を用い、製造例１ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製してアモルファス状の標記化合物（614mg）を得た。

（製造例１８ｅ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[1-ヒドロキシ-1-{4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル}メチル]フェノール
製造例１８ｄで得られた化合物（610mg、1.65mmol）をテトラヒドロフラン（15mL）に溶解して0℃に冷却後、水素化リチウムアルミニウム（187mg、4.93mmol）を加え、室温で30分間攪拌した。再び0℃に冷却後、反応液に水（0.19mL）、5mol/L水酸化ナトリウム水溶液（0.19mL）および水（0.57mL）を順次加え、室温で1時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（20mL）を加え、2mol/L塩酸（20mL）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去して、標記化合物の粗生成物（540mg）を得た。

（製造例１８ｆ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[1-メトキシ-1-{4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル}メチル]フェノール
製造例１８ｅで得られた粗生成物（540mg、1.64mmol）をメタノール（10mL）に溶解し、パラトルエンスルホン酸一水和物（157mg、0.83mmol）を加え、50℃で2時間攪拌した。反応液を室温に冷却後、トリエチルアミンを加え、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1〜1：4、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（508mg）を得た。

（製造例１８ｇ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-{1-メトキシ-1-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル]メチル}ベンジル
製造例１８ｆで得られた化合物（508mg、1.48mmol）、テトラヒドロフラン（5mL）、酢酸ビニル（5mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（325mg、0.59mmol）を用い製造例２ｅと同様の方法により、油状の標記化合物（525mg）を得た。

（製造例１８ｈ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]ベンジル
製造例１８ｇで得られた化合物（525mg、1.36mmol）、アセトニトリル（10mL）、トリエチルシラン（0.650mL、4.08mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.256mL、2.04mmol）を用い、製造例２ｆと同様の方法により標記化合物（363mg）を白色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃):δ 2.11 ( 3H, s ), 3.32 (2H, q, J = 10.8 Hz), 4.00 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.06 (1H, brs), 6.61 (1H, s), 6.70 (1H, d, J = 9.4 Hz ), 7.20 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.27 (2H, d, J = 7.8 Hz)；
MS (FAB) m/z: 356 (M)⁺.。

（製造例１８ｉ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（267mg、0.44mmol）、塩化メチレン（5mL）、トリクロロアセトニトリル（0.221mL、2.19mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（7μL、0.05mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（330mg）、製造例１８ｈで得られた化合物（120mg、0.34mmol）、塩化メチレン（5mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.055mL、0.44mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（460mg）を得た。

（製造例１８ｊ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１８ｉで得られた粗生成物（460mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL/2mL）および炭酸カリウム（604mg、4.34mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（58mg）を白色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチル／メタノールから行った。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.20 (3H, d, J = 6.3 Hz), 3.34-3.49 (6H, m), 4.01 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.06 (1H, dd, J = 6.3 Hz, 3.7 Hz), 4.09 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.80 (1H, d, J = 9.8 Hz), 6.99 (1H, s), 7.17 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.28 (2H, d, J = 8.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 529 (M+K)⁺.。

（製造例１９）3-クロロ-2-(4-エチル-3-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.18）

（製造例１９ａ）4-アセチル-3-フルオロ安息香酸メチル
トリフルオロメタンスルホン酸 4-アセチル-3-フルオロフェニル（Org.Lett.,2002,4(26),4717-4718.）（8.69g、30.4mmol）をN,N-ジメチルホルムアルデヒド（120mL）に溶解させ、メタノール（24.6mL、606mmol）、酢酸パラジウム（682mg、3.03mmol）、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン（1.25g、3.03mmol）およびトリエチルアミン（84.0mL、606mol）を加え、一酸化炭素雰囲気下、室温で16時間攪拌した。減圧下溶媒をある程度除去し、反応液に酢酸エチル（300mL）を加え、1mol/L塩酸水溶液（150mL）および飽和食塩水（100mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（3.67g）を白色固体として得た。

（製造例１９ｂ）3-フルオロ-4-(1-ヒドロキシエチル)安息香酸メチル
製造例１９ａで得られた化合物（3.67g、18.7mmol）をメタノール（40mL）に溶解して0℃に冷却後、水素化ホウ素ナトリウム（850mg、22.5mmol）を加え、0℃で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（2mL）を加え、減圧下、溶媒を除去した。残渣に酢酸エチル（50mL）を加え、飽和塩化アンモニウム水溶液（50mL）、飽和水酸化ナトリウム水溶液（50mL）および飽和食塩水（50mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：2、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（3.59g）を得た。

（製造例１９ｃ）4-エチル-3-フルオロ安息香酸
製造例１９ｂで得られた化合物（3.67g、18.7mmol）をメタノール（35mL）に溶解し、2mol/L塩酸（1.09mL）および10％wetパラジウム／炭素（600mg）を加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応液に対してセライトで濾過を行うことでパラジウムを除去した。続いて、反応液に5mol/L水酸化ナトリウム水溶液（8mL）と適量のテトラヒドロフランを加え、５０℃で1時間攪拌した。反応液を０℃に冷却後、適量の２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えてpHを３未満に調製し、減圧下溶媒を除去した。残渣に酢酸エチル（50mL）を加え、飽和食塩水（50mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、濾過して得られた固体を減圧下乾燥して、標記化合物（2.98g）を白色固体として得た。

（製造例１９ｄ）塩化4-エチル-3-フルオロベンゾイル
製造例１９ｃで得られた化合物（730mg、4.34mmol）、二塩化オキサリル（0.43mL、4.95mmol）、触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドおよびテトラヒドロフラン（6mL）を用いて製造例１ａと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（810mg）を無色油状物質として得た。

（製造例１９ｅ）4-(4-エチル-3-フルオロベンゾイル)-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（800mg、4.34mmol）、製造例１９ｄで得られた粗生成物（810mg、4.34mmol）、アセトニトリル（9mL）、トリエチルアミン（1.82mL、13.1mmol）およびトリメチルシリルシアニド（0.070mL、0.52mmol）を用いて、製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.45g）を得た。

（製造例１９ｆ）3-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロベンゾイル)-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例１９ｅで得られた粗生成物（1.45g、4.34mmol）、塩化メチレン（18mL）、2-メチル-2-ブテン（1.84mL、17.3mmol）、二塩化オキサリル（0.39mL、4.55mmol）および触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドを用い、製造例１ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.52g）を得た。

（製造例１９ｇ）3-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロベンゾイル)-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例１９ｆで得られた粗生成物（1.52g、4.34mmol）、N-メチルモルホリン（18mL）、無水硫酸ナトリウム（12.3g）およびヨウ素（1.32g、5.20mmol）を用い、製造例１ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製してアモルファス状の標記化合物（1.04g）を得た。

（製造例１９ｈ）5-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-安息香酸エチル
製造例１９ｇで得られた化合物（1.04g、2.96mmol）、メタノール（12mL）および水素化ホウ素ナトリウム（220mg、5.82mmol）を用い、製造例２ｂと同様の方法により、ジオール体粗生成物（1.04g）を得た。

三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.370mL、2.95mmol）、ジオール体粗生成物（1.04g、2.95mmol）およびアセトン（16mL）を用い、製造例６ｅと同様の方法により、油状の標記化合物（730mg）を得た。

（製造例１９ｉ）5-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメタノール
製造例１９ｈで得られた化合物（730mg、1.86mmol）、水素化リチウムアルミニウム（71mg、1.87mmol）およびテトラヒドロフラン（8mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により、油状の標記化合物の粗生成物（664mg）を得た。

（製造例１９ｊ）酢酸 5-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメチル
製造例１９ｉで得られた粗生成物（664mg）、ピリジン（6.6mL）および無水酢酸（1.7mL）を用いて、製造例６ｇと同様の方法により、油状の標記化合物（720mg）を得た。

（製造例１９ｋ）酢酸 3-クロロ-4-(4-エチル-3-フルオロベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例１９ｊで得られた化合物（720mg、1.83mmol）、アセトニトリル（12mL）、トリエチルシラン（0.880mL、5.47mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.350mL、2.79mmol）を用いて、製造例２ｆと同様の方法により、標記化合物（491mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.19 (3H, t, J = 7.7 Hz), 2.12 (3H, s), 2.61 (2H, q, J= 7.7 Hz), 4.13 (2H, s), 5.00 (2H, s), 6.72 (1H, d, J = 1.5 Hz), 6.90 (1H, dd, J = 11.2 Hz, 1.8 Hz), 6.98 (1H, dd, J = 7.8 Hz, 1.8 Hz), 7.02 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.09 (1H, t, J = 7.8 Hz);
MS (FAB) m/z: 336 (M)⁺.。

（製造例１９ｌ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-エチル-3-フルオロベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（318mg、0.52mmol）、塩化メチレン（5mL）、トリクロロアセトニトリル（0.263mL、2.60mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（7μL、0.05mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（393mg）、製造例１９ｋで得られた化合物（135mg、0.40mmol）、塩化メチレン（5mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.065mL、0.52mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（380mg）を得た。

（製造例１９ｍ）3-クロロ-2-(4-エチル-3-フルオロベンジル)-5-ヒドロキシメチルフェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例１９ｌで得られた粗生成物（380mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL/2mL）および炭酸カリウム（720mg、5.21mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（67mg）を白色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチル／メタノールから行った。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.16 (3H, t, J = 7.6 Hz), 1.20 (3H, d, J = 6.6 Hz), 2.58 (2H, q, J = 7.6 Hz), 3.35-3.42 (2H, m), 3.44-3.46 (2H, m), 4.06 (1H, dd, J = 6.6 Hz, 3.6 Hz), 4.12 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.24 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.56 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.89 (1H, d, J = 1.2 Hz), 6.99 (1H, dd, J = 7.9 Hz, 1.6 Hz), 7.06 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.11 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.14 (1H, d, J = 1.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 509 (M+K)⁺.。

（製造例２０）3-フルオロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.6）

（製造例２０ａ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(4-メトキシベンジル)ベンジルアルコール
酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メトキシベンジル)ベンジル（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（1.0g、3.3mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（10mL）に溶解し、氷冷下、臭化ベンジル（0.58mL、4.9mmol）および炭酸カリウム（2.3ｇ、17mmol）を加えた。懸濁液を室温に昇温しつつ1時間撹拌し、メタノール（1.0mL）を加えてさらに1時間半撹拌した。反応液を酢酸エチル（50mL）で希釈後、10％食塩水（10mL、3回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（1.2g）を得た。

（製造例２０ｂ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(4-メトキシベンジル)ベンズアルデヒド
製造例２０ａで得られた粗生成物（1.2g、3.3mmol）をクロロホルム（12mL）に溶解し、二酸化マンガン（4.3mL、50mmol）を加えて、加熱還流下、2時間半撹拌した。この懸濁液をセライトで濾過した後、濾液を減圧下濃縮して、標記化合物の粗生成物（1.2g）を得た。

（製造例２０ｃ）1-ベンジルオキシ-3-フルオロ-2-(4-メトキシベンジル)-5-(2-メトキシビニル)ベンゼン
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム（3.4g、10mmol）をテトラヒドロフラン（8mL）に懸濁し、氷冷下、撹拌を行った。この懸濁液にリチウムビス(トリメチルシリル)アミド（1Mテトラヒドロフラン溶液、10mL、10mmol）を滴下し、室温まで昇温しつつ30分間撹拌を行った。製造例２０ｂで得られた粗生成物（1.2g、3.3mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（8mL）をこの反応混合物に滴下し、室温で3時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液（10mL）を加えた後、酢酸エチル（20mL、2回）で抽出し、有機層を飽和食塩水（10mL、2回）で洗浄した。この有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、10：1、V/V）で精製して、標記化合物（0.92g）を得た。

（製造例２０ｄ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(4-メトキシベンジル)フェニルアセトアルデヒド
製造例２０ｃで得られた化合物（0.92g、2.4mmol）を1,4-ジオキサン（10mL）に溶解し、氷冷下、水（0.43mL、24mmol）および4M塩化水素1,4-ジオキサン溶液（6.0mL、24mmol）を加えた後、室温まで昇温しつつ1時間撹拌した。この溶液を酢酸エチル（50mL）で希釈し、10％食塩水（10mL、2回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.87g）を得た。

（製造例２０ｅ）2-[3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(4-メトキシベンジル)フェニル]エタノール
製造例２０ｄで得られた粗生成物（0.87g、2.4mmol）をテトラヒドロフラン（4mL）およびメタノール（4mL）からなる溶液に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（0.14g、3.6mmol）を加えた。反応液を室温に昇温しつつ40分間撹拌し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液（1mL）を滴下して反応を停止した。混合物を酢酸エチル（40mL）で希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.57g）を得た。

（製造例２０ｆ）3-フルオロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェノール
製造例２０ｅで得られた化合物（0.57g、1.6mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、溶液中に窒素を吹き込みながら10分間撹拌した。この溶液に10％パラジウム炭素触媒（含水、0.12g）を窒素気流下で加え、気相を水素置換後、室温で1時間撹拌した。混合物をセライトで濾過し、減圧下溶媒を除去して、標記化合物の粗生成物（0.44g）を得た。

（製造例２０ｇ）酢酸 2-[3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メトキシベンジル)フェニル]エチル
製造例２０ｆで得られた粗生成物（0.44g、1.6mmol）をコリジン（5.0mL）に溶解し、-20℃で塩化アセチル（0.11mL、1.6mmol）を加えて0℃まで昇温しつつ2時間撹拌した。反応液に水（1mL）を加え、酢酸エチル（30mL）で希釈後、30％クエン酸水溶液（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.51g、ただし原料を含む）を得た。

（製造例２０ｈ）5-(2-アセトキシエチル)-3-フルオロ-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（0.43g、0.71mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.20mL、2.1mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（3μL、0.02mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.75g、1.0mmol）、製造例１１ｆで得られた化合物（0.51g、1.6mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.05mL、0.4mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例２０ｉ）3-フルオロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２０ｈで得られた混合物（1.6mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（64mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.7 Hz), 2.77 (2H, t, J = 6.8 Hz), 3.35-3.51 (4H, m), 3.72 (3H, s), 3.75 (2H, t, J = 6.8 Hz), 3.91 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.00 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.05-4.07 (1H, m), 4.93 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.67 (1H, d, J = 9.4 Hz), 6.75 (2H, d, J = 8.8 Hz), 6.88 (1H, s), 7.19 (2H, d, J = 8.8 Hz);
MS (FAB) m/z: 475 (M+Na)⁺.。

（製造例２１）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.15）

（製造例２１ａ）酢酸 3-ベンジルオキシ-5-クロロ-4-(4-メチルベンジル)ベンジル
製造例４ｈで得られた化合物（500mg、3.3mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（10mL）に溶解し、臭化ベンジル（430μL、3.6mmol）および炭酸カリウム（680mg、4.9mmol）を加え、室温で4時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（30mL）で希釈し、蒸留水（10mL）および飽和食塩水（10mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（1.13g）を黄色油状物質として得た。

（製造例２１ｂ）3-ベンジルオキシ-5-クロロ-4-(4-メチルベンジル)ベンジルアルコール
製造例２１ａで得られた粗生成物（1.13g、2.9mmol）をメタノール（12mL）に溶解し、1M水酸化カリウム水溶液（3.3mL、3.3mmol）を加え、室温で18時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル（10mL）で希釈し、蒸留水（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.91g）を黄色油状物質として得た。

（製造例２１ｃ）3-ベンジルオキシ-5-クロロ-4-(4-メチルベンジル)ベンズアルデヒド
製造例２１ｂで得られた粗生成物（0.91g、2.6mmol）をクロロホルム（10mL）に溶解し、二酸化マンガン（2.85g、32.8mmol）を加え、60℃で4時間攪拌した。セライトで濾過後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物の粗生成物（0.68g）を褐色固体として得た。

（製造例２１ｄ）1-ベンジルオキシ-3-クロロ-5-(2-メトキシビニル)-2-(4-メチルベンジル)ベンゼン
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム（2.0g、5.4mmol）にトルエン（5mL）を加え、減圧下溶媒を留去した。残渣に、氷冷下、テトラヒドロフラン（4mL）およびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド（1Mテトラヒドロフラン溶液、5.9mL、5.9mmol）を加え、室温で1時間撹拌した。さらに、製造例２１ｃで得られた粗生成物（0.68g、1.9mmol）を溶解させたテトラヒドロフラン溶液（6mL）を反応液に滴下し、室温で1時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（10mL）で希釈し、蒸留水（10mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、20：1〜5：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.95g、quant.）を黄色固体として得た。

（製造例２１ｅ）3-ベンジルオキシ-5-クロロ-4-(4-メチルベンジル)フェニルアセトアルデヒド
製造例２１ｄで得られた化合物（0.95g、1.9mmol）を1,4-ジオキサン（5mL）に溶解し、蒸留水（350μL）および4N塩酸 1,4-ジオキサン溶液（5mL）を加え、室温で10分撹拌した。反応液を酢酸エチル（10mL）で希釈し、蒸留水（5mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、20：1〜10：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.48g）を黄色油状物質として得た。

（製造例２１ｆ）2-[3-ベンジルオキシ-5-クロロ-4-(4-メチルベンジル)フェニル]エタノール
製造例２１ｅで得られた化合物（0.48g、1.3mmol）をメタノール（5mL）に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（60mg、1.6mmol）を加え、0℃で30分間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（5mL）を加え、酢酸エチル（10mL）で希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の粗生成物（0.41g）を無色固体として得た。

（製造例２１ｇ）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メチルベンジル)フェノール
製造例２１ｆで得られた粗生成物（0.41g、1.1mmol）をアセトニトリル（5mL）に溶解し、ヨウ化トリメチルシリル（320μL、2.2mmol）を加え、40℃で2時間撹拌した。室温に冷却後、反応液を酢酸エチル（15mL）で希釈し、2M塩酸（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜3：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（122mg）を無色固体として得た。

（製造例２１ｈ）酢酸 2-{[3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メチルベンジル)]フェニル}エチル
製造例２１ｇで得られた化合物（122mg、0.4mmol）をテトラヒドロフラン（2mL）に溶解し、酢酸ビニル（2mL、21.6mmol）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（24mg、0.04mmol）を加え、室温で24時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（111mg）を無色固体として得た。

（製造例２１ｉ）5-(2-アセトキシエチル)-3-クロロ-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-D-グルコ-ヘプトピラノシド（255mg、0.42mmol）、トリクロロアセトニトリル（125μL、1.25mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用いて、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、製造例２１ｈで得られた化合物（111mg、0.35mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（44μL、0.35mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（391mg）を得た。

（製造例２１ｊ）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２１ｉで得られた化合物（391mg、0.35mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カルシウム（48mg、0.35mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（104mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.2 Hz), 2.25 (3H, s), 2.77 (2H, t, J = 6.9 Hz), 3.35-3.36 (2H, m), 3.43-3.45 (2H, m), 3.76 (2H, t, J = 6.9 Hz), 4.03-4.05 (1H, m), 4.08(1H, d, J = 14.9 Hz), 4.21 (1H, d, J = 14.9 Hz), 4.91 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.99 (2H, s), 7.02 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.12 (2H, d, J = 7.8 Hz);
MS (FAB) m/z: 453 (M+H)⁺, 475 (M+Na)⁺.。

（製造例２２）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.16）

（製造例２２ａ）3-クロロ-4-(4-メトキシベンジル)-5-(メトキシメトキシ)ベンジルアルコール
酢酸 3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メトキシベンジル)ベンジル（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（500mg、1.6mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（5mL）に溶解し、氷冷下、クロロメチルメチルエーテル（180μL、2.4mmol）および炭酸カルシウム（1.08g、7.8mmol）を加え、室温で4時間撹拌した。反応液にメタノール（5mL）を加え、室温で1時間撹拌した。減圧下溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチル（10mL）で希釈し、蒸留水（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の粗生成物（511mg）を無色固体として得た。

（製造例２２ｂ）3-クロロ-4-(4-メトキシベンジル)-5-(メトキシメトキシ)ベンズアルデヒド
製造例２２ａで得られた粗生成物（511mg、1.6mmol）、クロロホルム（10mL）および二酸化マンガン（1.36g、15.6mmol）を用い、製造例２１ｃと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（480mg）を淡黄色油状物質として得た。

（製造例２２ｃ）1-クロロ-2-(4-メトキシベンジル)-3-メトキシメトキシ-5-(2-メトキシビニル)ベンゼン
製造例２２ｂで得られた粗生成物（480mg、1.5mmol）、塩化（メチルメトキシ）トリフェニルホスホニウム（1.60g、4.8mmol）、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド（1Mテトラヒドロフラン溶液、4.7mL、4.7mmol）およびテトラヒドロフラン（8mL）を用い、製造例２１ｄと同様の方法により、標記化合物（810mg、quant.）を黄色油状物質として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、20：1〜15：1〜10：1、V/V）を用いて行った。

（製造例２２ｄ）3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メトキシベンジル)フェニルアセトアルデヒド
製造例２２ｃで得られた化合物（810mg、1.5mmol）、4N塩酸 1,4-ジオキサン溶液（4mL）、蒸留水（280μL）および1,4-ジオキサン（4mL）を用い、製造例２１ｅと同様の方法により、標記化合物（210mg）を黄色油状物質として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、8：1〜6：1〜4：1、V/V）を用いて行った。

（製造例２２ｅ）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェノール
製造例２２ｄで得られた化合物（210mg、0.72mmol）、水素化ホウ素ナトリウム（33mg、0.87mmol）およびメタノール（2.5mL）を用い、製造例２１ｆと同様の方法により、標記化合物（157mg）を無色油状物質として得た。

（製造例２２ｆ）酢酸 2-{[3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-(4-メトキシベンジル)]フェニル}エチル
製造例２２ｅで得られた化合物（157mg、0.54mmol）、酢酸ビニル（2mL、21.61mmol）、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（38mg、0.07mmol）およびテトラヒドロフラン（2mL）を用い、製造例２１ｈと同様の方法により、標記化合物（218mg）を無色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1〜3：1、V/V）を用いて行った。

（製造例２２ｇ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-D-グルコ-ヘプトピラノシド（220mg、0.36mmol）、トリクロロアセトニトリル（110μL、1.10mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）および塩化メチレン（5mL）を用いて、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、製造例２２ｆで得られた化合物（100mg、0.30mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（38μL、0.40mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（320mg）を得た。

（製造例２２ｈ）3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２２ｇで得られた粗生成物（320mg、0.30mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カルシウム（41mg、0.30mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（81mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.6 Hz), 2.76 (2H, t, J = 6.6 Hz), 3.35-3.38 (2H, m), 3.44-3.49 (2H, m), 3.72 (3H, s), 3.75 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.03-4.09 (1H, m), 4.06 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.18 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.93 (1H, d, J = 4.3 Hz), 6.75 (2H, d, J = 9.0 Hz), 6.98 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.03 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.18 (2H, d, J = 9.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 469 (M+H)⁺, 491 (M+Na)⁺.。

（製造例２３）3-クロロ-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.14）

（製造例２３ａ）3-クロロ-5-オキソ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例１８ｂで得られた粗生成物（1.34g、3.61mmol）、塩化メチレン（15mL）、2-メチル-2-ブテン（1.54mL、14.5mmol）、二塩化オキサリル（0.32mL、3.73mmol）および触媒量のN,N-ジメチルホルムアミドを用い、製造例１ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.40g）を得た。

（製造例２３ｂ）3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンゾイル]安息香酸エチル
製造例２３ａで得られた粗生成物（1.40g、3.60mmol）、N-メチルモルホリン（16mL）、無水硫酸ナトリウム（10.3g）およびヨウ素（1.10g、4.33mmol）を用い、製造例１ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜3：1、V/V）を用いて精製してアモルファス状の標記化合物（1.02g）を得た。

（製造例２３ｃ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-[1-ヒドロキシ-1-{4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル}メチル]フェノール
製造例２３ｂで得られた化合物（1.02g、2.64mmol）、テトラヒドロフラン（30mL）および水素化リチウムアルミニウム（300mg、7.91mmol）を用い、製造例１８ｅと同様の方法により標記化合物の粗生成物（866mg）を得た。

（製造例２３ｄ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-[1-メトキシ-1-{4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル}メチル]フェノール
製造例２３ｃで得られた粗生成物（866mg、2.50mmol）、メタノール（16mL）およびパラトルエンスルホン酸一水和物（238mg、1.25mmol）を用い、製造例１８ｆと同様の方法により、油状の標記化合物（654mg）を得た。

（製造例２３ｅ）酢酸 3-クロロ-4-[1-メトキシ-1-{4-(2,2,2-トリフルオロエチル)フェニル}メチル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例２３ｄで得られた化合物（654mg、1.81mmol）、テトラヒドロフラン（6mL）、酢酸ビニル（6mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（302mg、0.55mmol）を用い製造例２ｅと同様の方法により、油状の標記化合物（703mg）を得た。

（製造例２３ｆ）酢酸 3-クロロ-4-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例２３ｅで得られた化合物（703mg、1.75mmol）、アセトニトリル（15mL）、トリエチルシラン（0.834mL、5.24mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.329mL、2.62mmol）を用い、製造例２ｆと同様の方法により標記化合物（306mg）を白色固体として得た。

（製造例２３ｇ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（213mg、0.35mmol）、塩化メチレン（4mL）、トリクロロアセトニトリル（0.176mL、1.74mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（5μL、0.03mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（263mg）、製造例２３ｆで得られた化合物（105mg、0.23mmol）、塩化メチレン（4mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.044mL、0.34mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（280mg）を得た。

（製造例２３ｈ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２３ｇで得られた粗生成物（280mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL／2mL）および炭酸カリウム（480mg、3.47mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（84mg）を白色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチルから行った。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.20 (3H, d, J = 6.4 Hz), 3.34-3.46 (6H, m), 4.06 (1H, dd, J = 6.4 Hz, 3.7 Hz), 4.17 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.28 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.11 (1H, s), 7.13 (1H, s), 7.16 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.26 (2H, d, J = 8.3 Hz);
MS (FAB) m/z: 545 (M+K)⁺.。

（製造例２４）3-クロロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.17）

（製造例２４ａ）塩化2-フルオロ-4-メチルベンゾイル
2-フルオロ-4-メチル安息香酸（500mg、3.24mmol）、二塩化オキサリル（0.31mL、3.57mmol）および触媒量のN,N-ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン（10mL）を用いて製造例１ａと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（560mg）を無色油状物質として得た。

（製造例２４ｂ）(2-クロロ-6-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)(2-フルオロ-4-メチルフェニル)メタノン
1-クロロ-3,5-ジメトキシベンゼン（560mg、3.24mmol）、トルエン（3mL）、塩化アルミニウム（480mg、3.60mmol）および製造例２４ａで得られた粗生成物（560mg、3.24mmol）を用いて製造例２ａと同様の方法を用いて標記化合物の粗生成物（630mg）を固体として得た。

（製造例２４ｃ）(2-クロロ-4,6-ジヒドロキシフェニル)(2-フルオロ-4-メチルフェニル)メタノン
製造例２４ｂで得られた粗生成物（510mg、1.73mmol）を1,2-ジクロロエタン（5mL）に溶解し、塩化アルミニウム（460mg、3.45mmol）を加え、80℃で1.5時間攪拌した。反応液を0℃に冷却後、適量の氷を加え5分間攪拌し、酢酸エチル（40mL）で抽出後、2mol/L塩酸（10mL）および飽和炭酸水素ナトリウム溶液（20mL）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を除去した。残渣を塩化メチレン／ヘキサンで洗浄し、濾過後、標記化合物の粗生成物（366mg）を固体として得た

（製造例２４ｄ）5-クロロ-4-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-オール
製造例２４ｃで得られた粗生成物（366mg、1.30mmol）、メタノール（5mL）および水素化ホウ素ナトリウム（123mg、3.25mmol）を用いて、製造例２ｂと同様の方法によりトリオール体の粗生成物（360mg）を得た。

粗生成物（360mg）、アセトン（5mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.160mL、1.27mmol）を用い、製造例６ｅと同様の方法により、標記化合物（310mg）をアモルファスとして得た。

（製造例２４ｅ）5-クロロ-4-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-カルボン酸メチル
製造例２４ｄで得られた化合物（310mg、0.96mmol）、塩化メチレン（6mL）、ピリジン（0.120mL、1.49mmol）および無水トリフルオロメタンスルホン酸（0.190mL、1.13mmol）を用いて、製造例２ｃと同様の方法によりトリフラート体の粗生成物（437mg）を得た。

得られた粗生成物（437mg、0.96mmol）、N,N-ジメチルホルムアルデヒド（4mL）、メタノール（0.780mL、19.2mmol）、酢酸パラジウム（22mg、0.10mmol）、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン（40mg、0.10mmol）、トリエチルアミン（2.66mL、19.2mmol）および一酸化炭素を用いて、製造例２ｃと同様の方法により、アモルファス状の標記化合物（261mg）を得た。

（製造例２４ｆ）5-クロロ-4-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメタノール

製造例２４ｅで得られた化合物（261mg、0.72mmol）、水素化リチウムアルミニウム（41mg、1.08mmol）およびテトラヒドロフラン（4mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物（241mg）をアモルファスとして得た。

（製造例２４ｇ）3-クロロ-2-{[1-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-1-メトキシ]メチル}-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例２４ｆで得られた粗生成物（241mg、0.72mmol）をメタノール（5mL）に溶解し、パラトルエンスルホン酸一水和物（68mg、0.36mmol）を加え50℃で2時間攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加え、減圧下、溶媒を除去した。最後にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1〜3：2、V/V）を用いて精製して、油状の標記化合物（210mg）を得た。

（製造例２４ｈ）酢酸 3-クロロ-4-{[1-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-1-メトキシ]メチル}-5-ヒドロキシベンジル
製造例２４ｇで得られた化合物（210mg、0.68mmol）、テトラヒドロフラン（2mL）、酢酸ビニル（2mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（112mg、0.20mmol）を用いて、製造例２ｅと同様の方法により、アモルファス状の標記化合物（238mg）を得た。

（製造例２４ｉ）酢酸 3-クロロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例２４ｈで得られた化合物（238mg、0.67mmol）、アセトニトリル（5mL）、トリエチルシラン（0.322mL、2.01mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.127mL、1.01mmol）を用いて、製造例２ｆと同様の方法により、標記化合物（96mg）を白色固体として得た。

（製造例２４ｊ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（236mg、0.39mmol）、塩化メチレン（4mL）、トリクロロアセトニトリル（0.195mL、1.93mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（292mg）、製造例２４ｉで得られた化合物（96mg、0.30mmol）、塩化メチレン（4mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.049mL、0.39mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（435mg）を得た。

（製造例２４ｋ）3-クロロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２４ｊで得られた粗生成物（435mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL/2mL）および炭酸カリウム（534mg、3.89mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（86mg）を白色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチル／メタノールから行った。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.20 (3H, d, J = 6.4 Hz), 2.27 (3H, s), 3.34-3.43 (4H, m), 4.05 (1H, dd, J = 6.4 Hz, 3.6 Hz), 4.15 (1H, d, J = 15.4 Hz), 4.23 (1H, d, J = 15.4 Hz), 4.58 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.75-6.76 (2H, m), 6.85 (1H, d, J = 11.3 Hz), 7.13 (1H, s), 7.15 (1H, s);
MS (FAB) m/z: 495 (M+K)⁺.。

（製造例２５）3-クロロ-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.18）

（製造例２５ａ）(2-クロロ-6-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)(4-エチル-2-フルオロフェニル)メタノン
1-クロロ-3,5-ジメトキシベンゼン（855mg、4.95mmol）、トルエン（5mL）、塩化アルミニウム（727mg、5.45mmol）および塩化4-エチル-2-フルオロベンゾイル（US2006/20146A1）（918mg、4.92mmol）を用いて製造例２ａと同様の方法により標記化合物の粗生成物（1.02g）を固体として得た。

（製造例２５ｂ）(2-クロロ-4,6-ジヒドロキシフェニル)(4-エチル-2-フルオロフェニル)メタノン
製造例２５ａで得られた粗生成物（1.02g、3.30mmol）、1,2-ジクロロエタン（10mL）および塩化アルミニウム（880mg、6.60mmol）を用いて、製造例２４ｃと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（824mg）を固体として得た。

（製造例２５ｃ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-オール
製造例２５ｂで得られた粗生成物（815mg、2.77mmol）、メタノール（10mL）および水素化ホウ素ナトリウム（262mg、6.93mmol）を用いて、製造例２ｂと同様の方法によりトリオール体の粗生成物（564mg）を得た。

粗生成物（564mg）、アセトン（6mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.300mL、2.39mmol）を用い、製造例６ｅと同様の方法により、標記化合物（515mg）をアモルファスとして得た。

（製造例２５ｄ）5-クロロ-2,2-ジメチル-4-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-カルボン酸メチル
製造例２５ｃで得られた化合物（515mg、1.53mmol）、塩化メチレン（10mL）、ピリジン（0.185mL、2.29mmol）および無水トリフルオロメタンスルホン酸（0.308mL、1.83mmol）を用いて、製造例２ｃと同様の方法によりトリフラート体の粗生成物（717mg）を得た。

得られた粗生成物（717mg、1.53mmol）、N,N-ジメチルホルムアルデヒド（6.4mL）、メタノール（1.24mL、30.5mmol）、酢酸パラジウム（34mg、0.15mmol）、1,3-ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（63mg、0.15mmol）、トリエチルアミン（4.24mL、30.6mmol）および一酸化炭素を用いて、製造例２ｃと同様の方法により、標記化合物（465mg）を白色固体として得た。

（製造例２５ｅ）5-クロロ-4-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,3]ジオキシン-7-イルメタノール

製造例２５ｄで得られた化合物（465mg、1.23mmol）、水素化リチウムアルミニウム（70mg、1.84mmol）およびテトラヒドロフラン（7mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物（432mg）をアモルファスとして得た。

（製造例２５ｆ）3-クロロ-2-[1-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-1-メトキシメチル]-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例２５ｅで得られた粗生成物（430mg、1.23mmol）、メタノール（10mL）およびパラトルエンスルホン酸一水和物（116mg、0.61mmol）を用い、製造例２４ｇと同様の方法により、油状の標記化合物（377mg）を得た。

（製造例２５ｇ）酢酸 3-クロロ-4-[1-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-1-メトキシメチル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例２５ｆで得られた化合物（377mg、1.16mmol）、テトラヒドロフラン（4mL）、酢酸ビニル（4mL）およびビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（192mg、0.35mmol）を用いて、製造例２ｅと同様の方法により、油状の標記化合物（414mg）を得た。

（製造例２５ｈ）酢酸 3-クロロ-4-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例２５ｇで得られた化合物（414mg、1.13mmol）、アセトニトリル（8mL）、トリエチルシラン（0.539mL、3.38mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.213mL、1.70mmol）を用いて、製造例２ｆと同様の方法により、標記化合物（271mg）を白色固体として得た。

（製造例２５ｉ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（236mg、0.39mmol）、塩化メチレン（4mL）、トリクロロアセトニトリル（0.195mL、1.93mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（6μL、0.04mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、イミダートを調製した。得られたイミダート（292mg）、製造例２５ｈで得られた化合物（100mg、0.30mmol）、塩化メチレン（4mL）、MS4Aおよび三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.049mL、0.39mmol）を用い、製造例２ｇと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（409mg）を得た。

（製造例２５ｊ）3-クロロ-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２５ｉで得られた粗生成物（409mg）、メタノール／塩化メチレン（8mL/2mL）および炭酸カリウム（534mg、3.89mmol）を用い製造例２ｈと同様の方法により、標記化合物（52mg）を白色固体として得た。ただし、固体化はヘキサン／酢酸エチル／メタノールから行った。
¹H NMR (400MHz, CD₃OD): δ 1.17-1.20 (6H, m), 2.58 (2H, q, J = 7.6 Hz), 3.34-3.43 (4H, m), 4.05 (1H, dd, J = 6.4 Hz, 3.7 Hz), 4.15 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.24 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.57 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 7.4Hz), 6.77-6.79 (2H, m), 6.87 (1H, d, J = 11.3 Hz), 7.13 (1H, s), 7.15 (1H, s);
MS (FAB) m/z: 509 (M+K)⁺.。

（製造例２６）3-フルオロ-2-(4-トリフルオロメチル)ベンジル-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.5）

（製造例２６ａ）3-ヒドロキシ-5-オキソ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（1.0g、5.4mmol）、塩化4-トリフルオロメチル安息香酸（1.16g、5.6mmol）、トリエチルアミン（2.3mL、16.5mmol）、トリメチルシリルシアニド（90μL、0.67mmol）およびアセトニトリル（15mL）を用いて、製造例４ａと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（2.25g）を淡黄色固体として得た。

（製造例２６ｂ）3-フルオロ-5-オキソ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例２６ａで得られた粗生成物（2.25g、5.4mmol）を塩化メチレン（20mL）に溶解し、氷冷下、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（2.2mL、16.7mmol）を加え、室温で2時間攪拌した。反応液に蒸留水（5mL）を滴下し、塩化メチレン（10mL）で希釈し、蒸留水（10mL、2回）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、6：1〜5：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（1.31g）を黄色固体として得た。

（製造例２６ｃ）3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンゾイル]安息香酸エチル
製造例２６ｂで得られた化合物（1.31g、3.7mmol）、トリエチルアミン（1.5mL、10.8mmol）、アセトニトリル（13mL）およびヨウ化トリメチルシラン（1.3mL、9.1mmol）を用い、製造例５ｃと同様の方法により、油状粗生成物であるシリルエノールエーテル体を得た。さらに製造例５ｃと同様の方法に従い、得られた油状粗生成物を、トルエン（13mL）、シリカゲルSK-85（5.2g）、炭酸カリウム（506mg、3.7mmol）およびエタノール（13mL）で順次処理し、シリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜4：1、V/V）を用いて精製して標記化合物（0.82g）を淡黄色個体として得た。

（製造例２６ｄ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-{1-ヒドロキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}フェノール
製造例２６ｃで得られた化合物（0.82g、2.3mmol）をテトラヒドロフラン（12mL）に溶解し、氷冷下、水素化リチウムアルミニウム（0.26g、6.5mmol）を加え、室温で15分間攪拌した。氷冷下、反応液に2M塩酸（5mL）を加え、酢酸エチル（20mL）で希釈し、2M塩酸（10mL）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄し、標記化合物の粗生成物（0.66g）を褐色油状物質として得た。

（製造例２６ｅ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-{1-メトキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}フェノール
製造例２６ｄで得られた粗生成物（0.66g、2.1mmol）をメタノール（10mL）に溶解し、パラトルエンスルホン酸一水和物（0.2g、1.1mmol）を加え、50℃で4時間撹拌した。氷冷下、反応液にトリエチルアミン（290μL、2.1mmol）を加えた。減圧下溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチル（20mL）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の粗生成物（0.74g）を黄色油状物質として得た。

（製造例２６ｆ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-{1-メトキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}ベンジル
製造例２６ｅで得られた粗生成物（0.74g、2.1mol）をジイソプロピルエーテル（4mL）に溶解し、酢酸ビニル（4mL、43.2mmol）およびブタ膵臓リパーゼ（0.37g）を加え、35℃で24時間撹拌した。濾過後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜4：1〜2：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.43g）を淡黄色油状物質として得た。

（製造例２６ｈ）酢酸 3-フルオロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]ベンジル
製造例２６ｇで得られた化合物（0.43g、1.2mmol）をアセトニトリル（5mL）に溶解し、氷冷下、トリエチルシラン（550μL、3.5mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（440μL、3.5mmol）を加え、50℃で4時間撹拌した。氷冷下、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）を加え、酢酸エチル（20mL）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、6：1〜5：1〜4：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.14g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.12 (3H, s), 4.05 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.13 (1H, brs), 6.61 (1H, s), 6.71 (1H, d, J = 9.8 Hz), 7.39 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.52 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 342 (M)⁺.

（製造例２６ｉ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-D-グルコ-ヘプトピラノシド（275mg、0.45mmol）、トリクロロアセトニトリル（135μL、1.35mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（7μL、0.05mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、製造例２６ｈで得られた化合物（0.14g、0.41mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（51μL、0.41mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（339mg）を得た。

（製造例２６ｊ）3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２６ｉで得られた粗生成物（339mg、0.36mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カリウム（56mg、0.41mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（100mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CD₃OD): δ 1.19 (3H, d, J=6.4 Hz), 3.33-3.40 (2H, m), 3.43-3.49 (2H, m), 4.03-4.07 (1H, m), 4.10 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.16 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.55 (2H, s), 4.95 (1H, d, J = 7.3 Hz), 6.81 (1H, d, J = 10.3 Hz), 7.00 (1H, s), 7.46 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.49 (2H, d, J = 8.3 Hz);
MS (FAB) m/z: 477 (M+H)⁺, 499 (M+Na)⁺.。

（製造例２７）3-クロロ-2-(4-トリフルオロメチル)ベンジル-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.11）

（製造例２７ａ）3-クロロ-5-オキソ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンゾイル]シクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例２６ａで得られた粗生成物（2.25g、5.4mmol）、二塩化オキサリル（500μL、3.8mmol）、2-メチル-2-ブテン（2.3mL、21.7mmol）、N,N-ジメチルホルムアミド（100μL、1.29mmol）および塩化メチレン（20mL）を用い、製造例４ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（2.5g）を褐色油状物質として得た。

（製造例２７ｂ）3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-[4-(トリフルオロメチル)ベンゾイル]安息香酸エチル
製造例２７ａで得られた粗生成物（2.5g）、N-メチルモルホリン（10mL）およびヨウ素（1.65g、6.5mmol）を用い、製造例４ｃと同様の方法により、標記化合物（1.66g）を褐色固体として得た。ただし、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、5：1〜4：1〜3：1、V/V）を用いて行った。

（製造例２７ｃ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-{1-ヒドロキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}フェノール
製造例２７ｂで得られた化合物（1.66g、4.5mmol）、水素化リチウムアルミニウム（0.51g、13.4mmol）およびテトラヒドロフラン（17mL）を用い、製造例２６ｄと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（1.44g）を無色固体として得た。

（製造例２７ｄ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-{1-メトキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}フェノール
製造例２７ｃで得られた粗生成物（1.44g、4.3mmol）、パラトルエンスルホン酸一水和物（0.41g、2.2mmol）およびメタノール（15mL）を用いて、製造例２６ｅと同様の方法により、標記化合物の粗生成物を得た。次いで、シリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、4：1〜3：1〜2：1、V/V）を用いて精製して標記化合物（0.31g）を無色油状物質として得た。

（製造例２７ｅ）酢酸 3-クロロ-5-ヒドロキシ-4-{1-メトキシ-1-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]メチル}ベンジル
製造例２７ｄで得られた化合物（0.31g、0.89mmol）、酢酸ビニル（3mL、32.4mmol）、ブタ膵臓リパーゼ（0.16g）およびジイソプロピルエーテル（3mL）を用いて、製造例２６ｆと同様の方法により、標記化合物（0.33g）を黄色油状物質として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、6：1〜5：1〜4：1、V/V）を用いて行った。

（製造例２７ｆ）酢酸 3-クロロ-5-ヒドロキシ-2-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]ベンジル
製造例２７ｅで得られた化合物（0.33g、0.85mmol）、トリエチルシラン（400μL、2.5mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（320μL、2.5mmol）およびアセトニトリル（3mL）を用いて、製造例２６ｈと同様の方法により、3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]フェノール（100mg）を得た。この化合物、酢酸ビニル（2mL、21.6mmol）、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（16mg、0.03mmol）およびテトラヒドロフラン（2mL）を用いて、製造例２１ｈと同様の方法により、標記化合物（95mg）を無色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、6：1〜5：1、V/V）を用いて行った。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.12 (3H, s), 4.21 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.09 (1H, s), 6.72 (1H, s), 7.02 (1H, s), 7.37 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (2H, d, J = 8.0 Hz);
MS (FAB) m/z: 358 (M)⁺.。

（製造例２７ｇ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-D-グルコ-ヘプトピラノシド（194mg、0.32mmol）、トリクロロアセトニトリル（95μL、0.95mmol）、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（5μL、0.03mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法によりイミダートを調製し、製造例２７ｆで得られた化合物（95mg、0.26mmol）、三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（33μL、0.26mmol）および塩化メチレン（5mL）を用い、製造例４ｉと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（313mg）を得た。

（製造例２７ｈ）3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２７ｇで得られた粗生成物（313mg、0.26mmol）、テトラヒドロフラン（1mL）、メタノール（4mL）および炭酸カリウム（36mg、0.26mmol）を用い、製造例４ｊと同様の方法により、標記化合物（84mg）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.20 (3H, d, J = 6.7 Hz), 3.34-3.46 (4H, m), 4.03-4.09 (1H, m), 4.26 (1H, d, J = 14.8 Hz), 4.35 (1H, d, J = 14.8 Hz), 4.56 (2H, s), 4.96 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.13 (1H, s), 7.16 (1H, s), 7.44 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.50 (2H, d, J = 8.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 493 (M+H)⁺, 515 (M+Na)⁺.。

（製造例２８）2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.20）

（製造例２８ａ）4-(2,2-ジフルオロアセチル)安息香酸メチル
4-アセチル安息香酸メチル（1.0ｇ、5.6mmol）をベンゼン（28mL）およびヘキサン（56mL）からなる溶液に溶解し、モルホリン（2.3mL、26mmol）および三塩化チタン（0.42mL、3.9mmol）を溶解させたヘキサン溶液（15mL）を用いて、文献既知（J.Org.Chem.,2005,70（14）,5763.）の方法により、相当するエナミンの粗生成物を黄色油状物質として得た。このエナミンを精製せず、アセトニトリル（120mL）に溶解し、MS4A（10g）および1-クロロメチル-4-フルオロ-1,4-ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタンビス(テトラフルオロホウ酸)（Aldrich社から購入、Selectfluor、3.9g、11mmol）を用いて、上記文献に従い、標記化合物の粗生成物（1.2g）を得た。

（製造例２８ｂ）4-(2,2-ジフルオロ-1-ヒドロキシエチル)安息香酸メチル
製造例２８ａで得られた粗生成物（1.2g、5.6mmol）をメタノール（5mL）およびテトラヒドロフラン（5mL）からなる溶液に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（0.32g、8.4mmol）を加えた。反応液を室温に昇温しつつ2時間撹拌し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液（1mL）を滴下して反応を停止した。混合物を酢酸エチル（50mL）で希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム（20mL、2回）および飽和食塩水（20mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、3：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.74g）を無色固体として得た。

（製造例２８ｃ）4-(2,2-ジフルオロエチル)安息香酸メチル
製造例２８ｂで合成した化合物（0.69g、3.2mmol）をテトラヒドロフラン（10mL）に溶解し、室温でチオカルボニルジイミダゾール（0.86g、4.8mmol）を加え、加熱還流下、1時間撹拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル（50mL）で希釈し、1M塩酸（5mL）、飽和炭酸水素ナトリウム（10mL）および飽和食塩水（10mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、キサンタートの粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずトルエン（10mL）に溶解し、脱気後、窒素気流下で水素化トリブチルスズ（1.2mL、4.6mmol）およびアゾビスイソブチロニトリル（0.10g、0.61mmol）を加えた。混合物を90℃で2時間撹拌し、反応液を直接シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（0.54g）を無色固体として得た。

（製造例２８ｄ）4-(2,2-ジフルオロエチル)安息香酸
製造例２８ｃで得られた化合物（0.53g、2.6mmol）を1,4-ジオキサン（3.4mL）に溶解し、室温で2M水酸化ナトリウム水溶液（3.4mL、6.8mmol）を加えて35℃で1時間撹拌した。反応液を1M塩酸（20mL）に注ぎ、酢酸エチル（50mL）で抽出後、有機層を飽和食塩水（10mL）で洗浄した。これを無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の粗生成物（0.48g）を無色固体として得た。

（製造例２８ｅ）塩化4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル
製造例２８ｄで得られた粗生成物（0.48g、2.6mmol）を塩化メチレンに溶解し、氷冷下、塩化オキサリル（1.1mL、13mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（0.1mL、1.3mmol）を加え、室温に昇温しつつ3時間半撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を除去し、標記化合物の粗生成物（0.53g）を無色油状物質として得た。

（製造例２８ｆ）4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル]-3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
3-ヒドロキシ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル（EP1571148A1）（0.48g、2.6mmol）および製造例２８ｅで得られた粗生成物（0.53g、2.6mmol）を用い、製造例１ｂと同様の方法で標記化合物の粗生成物（0.92g）を得た。

（製造例２８ｇ）4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル]-3-フルオロ-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例２８ｆで得られた粗生成物（0.95g、2.7mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、ジエチルアミノ硫黄三フッ化物（1.1mL、8.1mmol）を用いて製造例３ｂと同様の方法により、標記化合物（0.47g）を得た。

（製造例２８ｈ）4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例２８ｇで得られた化合物（0.47g、1.3mmol）をN-メチルモルホリン（6mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（0.47g）およびヨウ素（0.40g、1.6mmol）を用いて製造例３ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.46g）を得た。

（製造例２８ｉ）4-{1-[4-(2,2-ジフルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例２８ｈで得られた粗生成物（0.46g、1.3mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（2mL）からなる溶液に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（98mg、2.6mmol）を用いて製造例３ｄと同様の方法により標記化合物（0.33g）を無色固体として得た。

（製造例２８ｊ）4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例２８ｉで得られた化合物（0.33g、0.93mmol）をエタノール（10mL）に溶解し、10％塩化水素メタノール（0.33mL、0.93mmol）および10％パラジウム炭素触媒（含水、0.5g）を用い製造例３ｅと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（0.31g）を得た。

（製造例２８ｋ）2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例２８ｊで得られた粗生成物（0.31g、0.93mmol）をテトラヒドロフラン（10mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（0.14g、3.7mmol）を用い製造例３ｆと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.31g）を無色固体として得た。

（製造例２８ｌ）酢酸 4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-ヒドロキシベンジル
製造例２８ｋで得られた粗生成物（0.31g、0.93mmol）を酢酸ビニル（3mL）およびジイソプロピルエーテル（3mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（1.0g）を用い製造例３ｇと同様の方法により標記化合物（0.30g）を微褐色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 3.09 (2H, dt, J = 17.4, 4.3 Hz), 3.99 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.88 (1H, tt, J = 56.7, 4.1 Hz), 6.60 (1H, s), 6.70 (1H, d, J = 9.4 Hz), 7.16 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.26 (2H, d, J = 7.8 Hz).。

（製造例２８ｍ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（0.61g、1.0mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.30mL、3.0mmol)および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（4μL、0.03mmol)を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.75g、1.0mmol）、製造例２８ｌで得られた化合物（0.30g、0.89mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（56μL、0.44mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例２８ｎ）3-フルオロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２８ｍで得られた混合物（0.89mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）からなる溶液に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（0.12g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.3 Hz), 3.05 (2H, dt, J = 17.5, 4.6 Hz), 3.33-3.50 (4H, m), 3.99 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.03-4.08 (1H, m), 4.08 (1H, d, J = 14.5 Hz), 4.55 (2H, s), 4.94 (1H, d, J = 7.5 Hz), 5.92 (1H, tt, J = 56.8, 4.6 Hz), 6.79 (1H, d, J = 10.1 Hz), 6.99 (1H, s), 7.12 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.25 (2H, d, J = 8.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 495 (M+Na)⁺.。

（製造例２９）3-クロロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-（ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.21）

（製造例２９ａ）3-クロロ-4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル]-5-オキソシクロヘキサ-3-エンカルボン酸エチル
製造例２８ｆで得られた粗生成物（0.92g、2.6mmol）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、2-メチル-2-ブテン（1.1mL、10mmol）、二塩化オキサリル（0.23mL、2.7mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（0.05mL、0.07mmol）を用いて製造例１ｂと同様の方法により、標記化合物の粗生成物（0.96g）を得た。

（製造例２９ｂ）3-クロロ-4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンゾイル]-5-ヒドロキシ安息香酸エチル
製造例２９ａで得られた粗生成物（0.96g、2.6mmol）をN-メチルモルホリン（12mL）に溶解し、無水硫酸ナトリウム（0.96g）およびヨウ素（0.79g、3.1mmol）を用いて製造例３ｃと同様の方法により標記化合物の粗生成物（0.96g）を得た。

（製造例２９ｃ）3-クロロ-2-{1-[4-(2,2-ジフルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル｝-5-（ヒドロキシメチル）フェノール
製造例２９ｂで得られた粗生成物（0.96ｇ、2.6mmol）をテトラヒドロフラン（30mL）に溶解し、水素化アルミニウムリチウム（0.38g、10mmol）を用いて製造例１ｅと同様の方法により、標記化合物（0.85g)を粗生成物として得た。

（製造例２９ｄ）酢酸 3-クロロ-4-{1-[4-(2,2-ジフルオロエチル)フェニル]-1-ヒドロキシメチル}-5-ヒドロキシベンジル
製造例２９ｃで得られた粗生成物（0.85g、2.6mmol）を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）からなる溶液に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（2.0g）を用い製造例３ｇと同様の方法により標記化合物（0.51g）を無色固体として得た。

（製造例２９ｅ）酢酸 3-クロロ-4-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシベンジル
製造例２９ｄで得られた化合物（0.40g、1.1mmol）をアセトニトリル（10mL）に溶解し、トリエチルシラン（0.53mL、3.3mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.28mL、2.2mmol）を用いて製造例５ｆと同様の方法（ただし、精製は行っていない。）により、標記化合物を含む混合物を得た。

得られた混合物をメタノール（2.5mL）に溶解し、p-トルエンスルホン酸一水和物（72mg、0.38mmol）を加え50℃で1時間半撹拌し、酢酸エチル（20mL）で希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（5mL）および飽和食塩水（5mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール、98：2、V/V)を用いて精製し、標記化合物の脱アセチル体（0.16g)を無色固体として得た。

この脱アセチル体を酢酸ビニル（5mL）およびジイソプロピルエーテル（5mL）に溶解し、ブタ膵臓リパーゼ（2.0g）を用い、製造例３ｇと同様の方法により標記化合物（0.13g）を無色固体として得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 3.09 (2H, dt, J = 17.4, 4.6 Hz), 4.15 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.05 (1H, s), 5.88 (1H, tt, J = 56.7, 4.6 Hz), 6.72 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.02 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.15 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.3 Hz);
MS (FAB) m/z: 354 (M)⁺.。

（製造例２９ｆ）5-アセトキシメチル-3-クロロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（0.37g、0.60mmol）を塩化メチレン（4mL）に溶解し、トリクロロアセトニトリル（0.18mL、1.8mmol)および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（2μL、0.02mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、イミダートを調製した。このイミダート（0.45g、0.60mmol）、製造例２９ｅで得られた化合物（0.13g、0.36mmol）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（46μL、0.37mmol）を用いて製造例１ｈと同様の方法により、標記化合物を含む混合物を得た。

（製造例２９ｇ）3-クロロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-ヒドロキシメチル-フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例２９ｆで得られた混合物（0.37mmol）をテトラヒドロフラン（3mL）およびメタノール（3mL）に溶解し、2M水酸化ナトリウム水溶液（3.0mL、6.0mmol）を用いて製造例３ｉと同様の方法により、標記化合物（0.12g）を無色固体として得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.21 (3H, d, J = 6.3 Hz), 3.05 (2H, dt, J = 17.5, 4.6 Hz), 3.34-3.46 (4H, m), 4.03-4.09 (1H, m), 4.14 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.27 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.55 (2H, s), 4.94 (1H, d, J = 7.5 Hz), 5.93 (1H, tt, J = 56.7, 4.7 Hz), 7.10-7.13 (4H, m), 7.22 (2H, d, J = 8.2 Hz);
MS (FAB) m/z: 511 (M+Na)⁺.。

（製造例３０）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.7）

（製造例３０ａ）3,5-ジフルオロ-4-[1-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-1-ヒドロキシメチル]ベンゾニトリル
ジイソプロピルアミン（1.12mL、7.92mmol）、n-ブチルリチウム（2.59mL、7.17mmol、2.77M n-ヘキサン溶液）、3,5-ジフルオロベンゾニトリル（1.00g、7.19mmol）、2-フルオロ-4-メチルベンズアルデヒド（1.00ｇ、7.24mmol)およびテトラヒドロフラン（20mL）を用い、製造例７ａと同様の方法で標記化合物（1.44g）を淡黄色固体として得た。

（製造例３０ｂ）3,5-ジフルオロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)ベンゾニトリル
水素化ホウ素ナトリウム（1.69g、44.7mmol）をトリフルオロ酢酸（30mL）に溶解して0℃に冷却後、製造例３０ａで得られた化合物（1.24g、4.47mmol）を溶解させた塩化メチレン溶液（7mL）を加えた。その後、反応液を室温で30時間攪拌した。ただし、その間、反応が終了するまで、数回に分けて水素化ホウ素ナトリウム（2.00g、52.9mmol)およびトリフルオロ酢酸（20mL）を追加した。続いて、反応液を、0℃に冷却した10％水酸化ナトリウム水溶液（300mL）に加えた。ジエチルエーテル（300mL）で抽出し、水（100mL）、飽和塩化アンモニウム水溶液（100mL）および飽和食塩水（100mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜10：1、V/V）を用いて精製して、標記化合物（756mg）を白色固体として得た。

（製造例３０ｃ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)ベンゾニトリル
製造例３０ｂで得られた化合物（756mg、2.89mmol）、水素化ナトリウム（63％、165mg、4.33mmol）、ベンジルアルコール（387mg、3.58mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（10mL）を用い、製造例７ｃと同様の方法で、標記化合物（768mg）を白色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル19：1〜10：1、V/V）を用いて行った。

（製造例３０ｄ）3-ベンジルオキシ-5-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)安息香酸
製造例３０ｃで得られた化合物（768mg、2.20mmol）、5M水酸化ナトリウム水溶液（2.2mL、11.0mmol）およびエタノール（10mL）を用い、製造例７ｄと同様の方法で標記化合物の粗生成物（740mg）を得た。

（製造例３０ｅ）3-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシ安息香酸
製造例３０ｄで得られた粗生成物（740mg、2.01mmol）、10％パラジウム炭素触媒（含水、150mg）、テトラヒドロフラン（7mL）、メタノール（7mL）および水素を用い、製造例７ｅと同様の方法で標記化合物の粗生成物（553mg）を得た。

（製造例３０ｆ）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例３０ｅで得られた粗生成物（553mg、1.99mmol）、水素化アルミニウムリチウム（188mg、4.95mmol）およびテトラヒドロフラン（20mL）を用い、製造例７ｆと同様の方法で標記化合物の粗生成物（498mg）を得た。

（製造例３０ｇ）酢酸 3-フルオロ-4-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-ヒドロキシベンジル
製造例３０ｆで得られた粗生成物（498mg、1.88mmol）、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（312mg、0.56mmol）、酢酸ビニル（5mL）およびテトラヒドロフラン（5mL）を用い、製造例７ｇと同様の方法で標記化合物（522mg）を得た。
¹H NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 2.11 (3H, s), 2.29 (3H, s), 3.96 (2H, s), 5.00 (2H, s), 5.22 (1H, d, J = 3.9 Hz), 6.63 (1H, s), 6.68 (1H, d, J = 9.2 Hz), 6.83-6.87 (2H, m), 7.03 (1H, t, J = 7.9 Hz)；
MS (EI) m/z: 306 (M)⁺.。

（製造例３０ｈ）5-アセトキシメチル-3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（311mg、0.51mmol）、塩化メチレン（6mL）、トリクロロアセトニトリル（0.257mL、2.56mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（8μL、0.05mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法で、イミダートを調製した。

製造例３０ｇで得られた化合物（122mg、0.40mmol）、イミダート（0.51mmol）、塩化メチレン（6mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.064mL、0.51mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法で、標記化合物の粗生成物を得た。

（製造例３０ｉ）3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例３０ｈで得られた粗生成物、メタノール/塩化メチレン（10mL/2.5mL）および炭酸カリウム（700mg、5.06mmol）を用い、製造例２ｈと同様の方法で、標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、1：1〜塩化メチレン：メタノール、10：1、V/V）を用いて精製して標記化合物（87mg）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.19 (3H, d, J = 6.6 Hz), 2.27 (3H, s), 3.33-3.38 (2H, m), 3.43-3.45 (2H, m), 3.98-4.05 (3H, m), 4.57 (2H, s), 4.93 (1H, d, J = 7.4 Hz), 6.78-6.84 (3H, m), 6.95 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.00 (1H, s)；
MS (FAB) m/z:479 (M+K)⁺.。

（製造例３１）2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（表１のNo.22）

（製造例３１ａ）(4-エチル-2-フルオロフェニル)メタノール
塩化4-エチル-2-フルオロベンゾイル（US2006/20146 A1）（200mg、1.19mmol）、水素化アルミニウムリチウム（90mg、2.37mmol）およびテトラヒドロフラン（20mL）を用い、製造例２ｄと同様の方法により標記化合物の粗生成物(194mg)を得た。

（製造例３１ｂ）4-エチル-2-フルオロベンズアルデヒド
製造例３１ａで得られた粗生成物（194mg）を塩化メチレン（10mL）に溶解し、氷冷下、クロロクロム酸ピリジニウム（540mg、2.51mmol）を加え、室温で2時間攪拌した。反応液をセライトで濾過後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、9：1、V/V）を用いて精製し、油状の標記化合物（158mg）を得た。

（製造例３１ｃ）3,5-ジフルオロ-4-[1-(4-エチル-2-フルオロフェニル)-1-ヒドロキシメチル]ベンゾニトリル
ジイソプロピルアミン（0.85mL、6.01mmol）、n-ブチルリチウム（1.97mL、5.46mmol、2.77M n-ヘキサン溶液）、3,5-ジフルオロベンゾニトリル（759mg、5.46mmol）、製造例３１ｂで得られた化合物（830mｇ、5.45mmol)およびテトラヒドロフラン（12mL）を用い、製造例７ａと同様の方法で油状の標記化合物（1.49g）を得た。

（製造例３１ｄ）3,5-ジフルオロ-4-(4-エチル-2-フルオロベンジル)ベンゾニトリル
水素化ホウ素ナトリウム（1.94g、51.2mmol）をトリフルオロ酢酸（35mL）に溶解し、0℃に冷却後、製造例３１ｃで得られた化合物（1.49g、5.12mmol）を溶解させた塩化メチレン溶液（7mL）を加えた。その後、室温で30時間攪拌した。ただし、その間、反応が終了するまで、数回に分けて水素化ホウ素ナトリウム（1.94g、51.2mmol)およびトリフルオロ酢酸（20mL）を追加した。続いて、反応溶液を、0℃に冷却した10％水酸化ナトリウム水溶液（330mL）に加えた。ジエチルエーテル（300mL）で抽出し、水（100mL）、飽和塩化アンモニウム水溶液（100mL）および飽和食塩水（100mL）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、19：1〜10：1、V/V）を用いて精製し、標記化合物（947mg）を白色固体として得た。

（製造例３１ｅ）3-ベンジルオキシ-4-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-フルオロベンゾニトリル
製造例３１ｄで得られた化合物（940mg、3.41mmol）、水素化ナトリウム（63％、195mg、5.12mmol）、ベンジルアルコール（0.46mL、4.47mmol）およびN,N-ジメチルホルムアミド（12mL）を用い、製造例７ｃと同様の方法で、標記化合物（1.11g）を白色固体として得た。なお、精製はシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル19：1〜10：1、V/V）を用いて行った。

（製造例３１ｆ）3-ベンジルオキシ-4-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-フルオロ安息香酸
製造例３１ｅで得られた化合物（1.11g、3.05mmol）、5M水酸化ナトリウム水溶液（3.37mL、16.8mmol）およびエタノール（10mL）を用い、製造例７ｄと同様の方法で標記化合物の粗生成物（1.01g）を得た。

（製造例３１ｇ）4-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-ヒドロキシ安息香酸
製造例３１ｆで得られた粗生成物（1.01g、2.64mmol）、10％パラジウム炭素触媒（含水、300mg）、テトラヒドロフラン（10mL）、メタノール（10mL）および水素を用い、製造例７ｅと同様の方法で標記化合物の粗生成物（806mg）を得た。

（製造例３１ｈ）2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェノール
製造例３１ｇで得られた粗生成物（806mg、2.76mmol）、水素化アルミニウムリチウム（342mg、9.0mmol）およびテトラヒドロフラン（10mL）を用い、製造例７ｆと同様の方法で標記化合物の粗生成物（827mg）を得た。

（製造例３１ｉ）酢酸 2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-ヒドロキシベンジル
製造例３１ｈで得られた粗生成物（827mg、2.97mmol）、ビス(ジブチル塩化スズ)オキシド（164mg、0.30mmol）、酢酸ビニル（10mL）およびテトラヒドロフラン（10mL）を用い、製造例７ｇと同様の方法で標記化合物（871mg）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ 1.20 (3H, t, J = 7.6 Hz), 2.11 (3H, s), 2.60 (2H, q, J = 7.4 Hz), 3.97 (2H, s), 5.01 (2H, s), 5.38 (1H, brs), 6.64 (1H, s), 6.69 (1H, d, J = 9.4 Hz), 6.88-6.90 (2H, m), 7.06 (1H, t, J =8.0 Hz).。

（製造例３１ｊ）5-アセトキシメチル-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロフェニル 7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
7-デオキシ-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グリセロ-α,β-D-グルコ-ヘプトピラノシド（WO2008/016132（PCT/JP2007/65231））（2.5g、4.08mmol）、塩化メチレン（20mL）、トリクロロアセトニトリル（1.2mL、12.2mmol）および1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（61μL、0.41mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法で、イミダートを調製した。

製造例３１ｉで得られた化合物（870mg、2.7mmol）、イミダート（4.1mmol）、塩化メチレン（30mL）および三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体（0.38mL、3.0mmol）を用い、製造例１ｈと同様の方法で、標記化合物の粗生成物を得た。

（製造例３１ｋ）2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
製造例３１ｊで得られた粗生成物、メタノール/塩化メチレン（16mL/4mL）およびナトリウムメトキシド（162.1mg、3.0mmol）を用い、製造例２ｈと同様の方法で、標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、1：1〜塩化メチレン：メタノール、10：1、V/V）を用いて精製して標記化合物（829.5mg）を得た。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD): δ 1.18 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.19 (3H, d, J = 6.6 Hz), 2.58 (2H, q, J = 7.4 Hz), 3.33-3.36 (2H, m), 3.43-3.45 (2H, m), 3.99-4.09 (2H, m), 4.57 (2H, s), 4.93-4.95 (1H, m), 6.79-6.87 (3H, m), 6.97 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.00 (1H, s)；
MS (FAB) m/z:477 (M+Na)⁺.。

（試験例１）ヒトSGLT1発現細胞を用いたSGLT1阻害活性の測定
１）ヒトSGLT1 cDNAの動物細胞発現用ベクターの作成
ヒトSGLT1のcDNAクローン（Origene社Clone Number：TC119918；GenBank accession number：NM_000343）を鋳型としPCR法を用いて増幅した。PCR法のセンス・オリゴヌクレオチド・プライマーとして、
5’-ttaagcttaccatggacagtagcacctggagccc-3’（Primer 1：配列表の配列番号１）、
アンチセンス・オリゴヌクレオチド・プライマーとして、
5’-ttctcgagtcaggcaaaatatgcatggcaa-3’（Primer 2：配列表の配列番号２）
を用いた。PCR反応産物をアガロース電気泳動後、2013塩基に相当する単一バンドより目的のDNA断片を回収し、制限酵素HindIII、XhoIで切断した後、ベクターpCMV-Script（Stratagene社）のHindIII/XhoIサイトに導入し、SGLT1発現プラスミドpCMV-SGLT1とした。pCMV-SGLT1よりHindIII/XhoIフラグメントを切り出し、pENTR1A（Gateway、Invitrogen社）のBamHI/XhoIサイトへ導入し、pENTR-SGLT1を作成した。Gateway Vector Conversion System Cassette A（Invitrogen社）を導入したレトロ・ウイルス・ベクターpLPCX（Clontech社）をDestination Plasmidとして、SGLT1発現レトロ・ウイルス・ベクターpLPCX-SGLT1を作成した。

２）ヒトSGLT1発現細胞の樹立
１）で得られたレトロ・ウイルスpLPCX-SGLT1をインテグリンαｖβ3発現HEK-293細胞にトランスフェクションした後、抗生物質G418（商品名：Geneticin、Invitrogen社製）、puromycin（Clontech社製）で細胞を処理し、耐性を有する目的ベクターの安定発現細胞HEK-SGLT1を取得した。安定発現細胞の培養、維持は、250mg/ml G418、1mg/ml puromycin、3mM KGT-1075、10％FBS含有DMEM培地を用いて行った。

３）SGLT1阻害活性の測定
HEK-SGLT1細胞を250mg/ml G418、1mg/ml puromycin、10％FBS含有DMEM培地で10⁶cells/mlの密度で懸濁し、タイプＩコーラゲンコートした96穴培養プレート（コーニング社製）の各ウェルに100μlずつ播種した。翌日に培地を糖取り込みバッファー（10mM HEPES（pH7.5）、5mM Tris-HCl（pH7.5）、140mM NaCl、2mM KCl、1mM CaCl₂、1mM MgCl₂）に換え、1mM [¹⁴C]-α-methyl-D-glucopyranoside（0.1m Ci）および評価化合物と共に30分間37℃培養した後、洗浄バッファー（10mM HEPES（pH7.5）、5mM Tris-HCl（pH7.5）、140mM Choline Chloride、2mM KCl、1mM CaCl₂、1mM MgCl₂）で3回洗浄した。96穴プレートの各ウェルに100μlずつ液体シンチレーションカクテル（商品名：Supermix、パーキンエルマー社製）を加え、10分間攪拌した後、液体シンチレーションカウンターの一種であるマイクロβ（パーキンエルマー社製）により、放射活性を測定した。過剰量のSGLT1阻害化合物存在下での放射活性をバックグランドとして各測定値から差し引いた値を糖取り込み活性とし、試験化合物を用いずに求めたコントロールの糖取り込み活性と一定濃度の試験化合物を用いた時の糖取り込み活性から阻害率（％）を求め、糖取り込み活性を50％阻害する試験化合物の濃度を調べた。その結果を表２に示す。下記結果より、本発明の化合物は優れたSGLT1阻害活性を示した。

（試験例２）ヒトSGLT2発現細胞を用いたSGLT2阻害活性の測定
１）ヒトSGLT2 cDNAの動物細胞発現用ベクターへの作成
ヒトSGLT2のcDNAクローン（Origene社Clone Number：TC303267；GenBank accession number：NM_003041）を鋳型としPCR法を用いて増幅した。PCR法のセンス・オリゴヌクレオチド・プライマーとして、
5’-ttaagcttaccatggaggagcacacagaggcagg-3’（Primer 3：配列表の配列番号３）、
アンチセンス・オリゴヌクレオチド・プライマーとして、
5’-ttctcgagttaggcatagaagccccagagg-3’（Primer 4：配列表の配列番号４）
を用いた。PCR反応産物をアガロース電気泳動後、2037塩基に相当する単一バンドより目的のDNA断片を回収し、制限酵素HindIII、XhoIで切断した後、ベクターpCMV-Script（Stratagene社）のHindIII/XhoIサイトに導入した。SGLT2発現プラスミドpCMV-SGLT2とした。pCMV-SGLT2よりHindIII/XhoIフラグメントを切り出し、pENTR1A（Gateway、Invitrogen社）のBamHI/XhoIサイトへ導入し、pENTR-SGLT2を作成した。Gateway Vector Conversion System Cassette A（Invitrogen社）を導入したレトロ・ウイルス・ベクターpLPCX（Clontech社）をDestination Plasmidとして、SGLT2発現レトロ・ウイルス・ベクターpLPCX-SGLT2を作成した。

２）ヒトSGLT2発現細胞の樹立
１）で得られたレトロ・ウイルスpLPCX-SGLT2をインテグリンαｖβ3発現HEK-293細胞にトランスフェクションした後、抗生物質G418（商品名：Geneticin、Invitrogen社製）、puromycin（Clontech社製）で細胞を処理し、耐性を有する目的ベクターの安定発現細胞HEK-SGLT2を取得した。安定発現細胞の培養、維持は、250mg/ml G418、1mg/ml puromycin、3mM KGT-1075、10％FBS含有DMEM培地を用いて行った。

３）SGLT2阻害活性の測定
HEK-SGLT2細胞を250mg/ml G418、1mg/ml puromycin、10％FBS含有DMEM培地で10⁶cells/mlの密度で懸濁し、タイプＩコーラゲンコートした96穴培養プレート（コーニング社製）の各ウェルに100μlずつ播種した。翌日に培地を糖取り込みバッファー（10mM HEPES（pH7.5）、5mM Tris-HCl（pH7.5）、140mM NaCl、2mM KCl、1mM CaCl₂、1mM MgCl₂）に換え、1mM [¹⁴C]-α-methyl-D-glucopyranoside（0.1m Ci）および評価化合物と共に30分間37℃培養した後、洗浄バッファー（10mM HEPES（pH7.5）、5mM Tris-HCl（pH7.5）、140mM Choline Chloride、2mM KCl、1mM CaCl₂、1mM MgCl₂）で3回洗浄した。96穴プレートの各ウェルに100μlずつ液体シンチレーションカクテル（商品名：Supermix、パーキンエルマー社製）を加え、10分間攪拌した後、液体シンチレーションカウンターの一種であるマイクロβ（パーキンエルマー社製）により、放射活性を測定した。過剰量のSGLT2阻害化合物存在下での放射活性をバックグランドとして各測定値から差し引いた値を糖取り込み活性とし、試験化合物を用いずに求めたコントロールの糖取り込み活性と一定濃度の試験化合物を用いた時の糖取り込み活性から阻害率（％）を求め、糖取り込み活性を50％阻害する試験化合物の濃度を調べた。その結果を表３に示す。下記結果より、本発明の化合物は優れたSGLT2阻害活性を示した。

（試験例３）in vivo試験
各被検化合物を溶媒（0.5％メチルセルロース液）に10mL/kgの投与容量になるように懸濁あるいは溶解し、複数用量（好ましくは0.03〜10mg/kgの範囲に含まれる）を一晩絶食したC57BL/6NCrlCrljマウス（7〜10週齡、雄性）に経口投与する。対照群には溶媒を10mL/kg経口投与する。投与10分後にグルコースを2g/10mL/kg経口投与する。血糖値を経時的（グルコース投与前、投与20、40、60、120分後）に測定し、血糖値の曲線下面積を算出し、各群の血糖値曲線下面積の対照群からの低下率を指標に50％有効用量ED50を求めることで各被検化合物の生体での有効性を評価する。

（実施例）錠剤
製造例の化合物5g、乳糖90g、トウモロコシデンプン34g、結晶セルロース20gおよびステアリン酸マグネシウム1gをブレンダーで混合した後、打錠機で打錠することにより、錠剤が得られる。

本発明の医薬組成物に含有される化合物またはその水和物は、副作用が低く優れたヒトSGLT1および／またはSGLT2阻害活性を示すので、本発明の医薬組成物は１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全（impaired glucose tolerance：IGT）、糖尿病関連疾患（例えば、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症、痛風など）、または糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症、ケトーシスなど）の治療薬または予防薬として有用であり、哺乳動物（例えば、ヒト、ウマ、ウシまたはブタ、好ましくはヒト）の予防もしくは治療のために有用である。

配列番号１：ヒトSGLT1のPCRセンスプライマー
配列番号２：ヒトSGLT1のPCRアンチセンスプライマー
配列番号３：ヒトSGLT2のPCRセンスプライマー
配列番号４：ヒトSGLT2のPCRアンチセンスプライマー

Claims

一般式（Ｉ）：

（式中、R¹は水素原子または水酸基であり、
R²はフッ素原子または塩素原子であり、
R³はハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチル基、シクロプロピル基、または、ハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基であり、
R⁴は水素原子またはメチル基であり、
nは1または2であり、
mは0または1である、
但し、R¹が水素原子である場合、R⁴は水素原子であり、R¹が水酸基である場合、R⁴はメチル基である）
で表される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物。
一般式（ＩＩ）：

［式中、R¹は水素原子または水酸基であり、
R²はフッ素原子または塩素原子であり、
R³はハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチル基、シクロプロピル基、または、ハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基であり、
R⁴は水素原子またはメチル基であり、
nは1または2であり、
mは0または1である、
但し、R¹が水素原子である場合、R⁴は水素原子であり、R¹が水酸基である場合、R⁴はメチル基である
（但し、（イ）R¹が水酸基であり、R²がフッ素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメチル基、エチル基、シクロプロピル基またはメトキシ基ではない、
（ロ）R¹が水酸基であり、R²が塩素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメトキシ基ではない、あるいは、
（ハ）R¹が水素原子であり、R²がフッ素原子または塩素原子であり、mが0であり、かつ、nが1である場合、R³はメトキシ基ではない）］
で表される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物。
R¹が水酸基である、請求項２に記載の医薬組成物。
R³がハロゲン原子で置換されていてもよいメチル基またはハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ基である、請求項２または３に記載の医薬組成物。
R⁴がメチル基である、請求項２〜４いずれか１項に記載の医薬組成物。
nが1である、請求項２〜５いずれか１項に記載の医薬組成物。
3-クロロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(3-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メトキシベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-[4-(ジフルオロメトキシ)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-2-[4-(2-フルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[(4-トリフルオロメトキシ)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド；
3-クロロ-5-ヒドロキシメチル-2-(4-メチルベンジル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド；
2-(4-エチルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド；
3-クロロ-2-(4-エチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド；
2-(4-シクロプロピルベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 4-デオキシ-β-D-グルコピラノシド；
3-フルオロ-5-ヒドロキシメチル-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(4-エチル-3-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メチルベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-5-(2-ヒドロキシエチル)-2-(4-メトキシベンジル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[4-(2,2,2-トリフルオロエチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[(4-トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-5-(ヒドロキシメチル)-2-[(4-トリフルオロメチル)ベンジル]フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-クロロ-2-[4-(2,2-ジフルオロエチル)ベンジル]-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；
3-フルオロ-2-(2-フルオロ-4-メチルベンジル)-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド；および
2-(4-エチル-2-フルオロベンジル)-3-フルオロ-5-(ヒドロキシメチル)フェニル 7-デオキシ-D-グリセロ-β-D-グルコ-ヘプトピラノシド
からなる群より選択される化合物またはその水和物を含有する医薬組成物。
ヒトSGLT1および／またはヒトSGLT2活性を阻害するための、請求項１〜７いずれか１項に記載の医薬組成物。
１型糖尿病、２型糖尿病、妊娠糖尿病、その他の要因による高血糖症、耐糖能不全、糖尿病関連疾患もしくは糖尿病合併症の治療または予防のための、請求項８に記載の医薬組成物。
糖尿病関連疾患が、肥満、高脂血症、高コレステロール血症、脂質代謝異常、高血圧症、脂肪肝、メタボリックシンドローム、浮腫、心不全、狭心症、心筋梗塞、動脈硬化症、高尿酸血症または痛風であり、あるいは、糖尿病合併症が、網膜症、腎症、神経障害、白内障、足壊疽、感染症またはケトーシスである、請求項９に記載の医薬組成物。