JP2011025108A - 排ガス処理システムおよび方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 低品位炭の燃焼時等でも排水処理装置の負担増加を防ぐことができる排ガス処理システムおよび方法を提供する。
【解決手段】 ボイラ１０から煙突５０に至る煙道に、ボイラ１０からの排ガスを処理して燃焼灰を出す集塵装置３０を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置６０を備える排ガス処理システムにおいて、ボイラ１０から排出される排ガス中の所定物質を計測する自動ホウ素計７０と、自動ホウ素計７０による計測結果を基にして、ホウ素等の微量物質の量が多いときには集塵効率を高くし、微量物質の量が少ないときには集塵効率を低くする演算処理装置８０とを備える。
【選択図】 図１

Description

この発明は、発電所等の施設で発生する排ガスを処理する排ガス処理システムおよび方法に関する。

排ガスを発生する施設として、例えば石炭のような化石燃料を燃焼して発電する火力発電所がある。火力発電所には、ボイラで発生した排ガスを処理するために、脱硝装置、脱硫装置や電気集塵装置（ＥＰ：Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｏｒ）などの設備がある。これらの設備を含むシステムには、ボイラ、空気予熱器、ガスガスヒータ熱回収器、完全蒸発型の冷却塔、乾式電気集塵装置、乾式放電方式脱硝・脱硫装置、乾式電気集塵装置、ガスガスヒータ再加熱器および煙突を順次接続することによって、システムを構成するものがある（例えば、特許文献１参照。）。

このようなシステムによれば、ボイラから出た排ガスは、空気予熱器に入り冷却される。さらに、排ガスは、ガスガスヒータ熱回収器、冷却塔で冷却される。その後、電気集塵装置で排ガス中の媒塵が処理され、脱硝・脱硫装置でＮＯｘ・ＳＯｘが処理される。そして、処理で発生した生成物は、脱硝・脱硫装置の下流に設置された電気集塵装置で回収される。最後に、ガスガスヒータ再加熱器で排ガスの温度が再び上げられ、煙突から排出される。こうした排ガスの処理により、ＮＯｘやＳＯｘの除去と共に排熱の回収を行っている。

また、排ガス中の水銀を除去するシステムとして次のものがある（例えば、特許文献２参照。）。このシステムは、ボイラから排出される排ガスから、集塵装置で捕集した燃焼灰を、リサイクル管路を介して集塵装置の上流側に投入する。これにより、ボイラから排出される排ガス中の水銀は燃焼灰で吸着され、水銀を吸着した燃焼灰は集塵装置で捕集される。このとき、リサイクル管路により、ボイラ内の燃焼場に燃焼灰を投入すれば、燃焼灰の未燃分が燃焼されて、排ガスのクリーン度が高められる。

一方、火力発電所には、脱硝装置、脱硫装置や電気集塵装置等の設備で発生する排水を処理するための排水処理装置が設置されている。各設備から出る排水には、微量のホウ素、セレン等の微量物質や油分などが含まれているので、排水処理装置は、排水中の微量物質を分離して沈殿し、さらに中和等を行って排水処理を行っている。

特開平１０−５５４２号公報 特開２００４−１９０９３０号公報

ところで、火力発電所ではボイラで低品位炭を燃焼する場合がある。低品位炭には、微量物質が多く含まれている。このために、低品位炭の燃焼時には、排水に含まれる微量物質の量が多くなる。このように、排水中に微量物質が多く含まれると、排水処理装置の負担が大きくなる、という課題が発生する。また、先にのべた２つのシステムも同様である。

この発明の目的は、前記の課題を解決し、低品位炭の燃焼時等でも排水処理装置の負担増加を防ぐことができる排ガス処理システムおよび方法を提供することにある。

前記の課題を解決するために、請求項１の発明は、ボイラから煙突に至る煙道に、該ボイラからの排ガスを処理して燃焼灰を出す集塵装置を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置を備える排ガス処理システムにおいて、前記ボイラから排出される排ガス中の所定物質を計測する計測装置と、前記計測装置による計測結果を基にして、所定物質の量が多いときには前記集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くする処理装置と、を備えることを特徴とする排ガス処理システムである。

請求項１の発明では、排ガス処理システムが次の施設に設置されている。この施設は、ボイラから煙突に至る煙道に、ボイラからの排ガスを処理して燃焼灰を出す集塵装置を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置を備える。そして、排ガス処理システムの計測装置は、煙道に設置され、ボイラから排出される排ガス中の所定物質を計測する。処理装置は、計測装置による計測結果を基にして、所定物質の量が多いときには集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くする。

請求項２の発明は、請求項１に記載の排ガス処理システムにおいて、前記集塵装置は放電電流を間欠的に流すことにより集塵を行い、前記処理装置は、所定物質の量が多いときには、前記放電電流の間欠の状態を表す荷電率を高くする指示を前記集塵装置に出し、所定物質の量が少ないときには荷電率を低くする、ことを特徴とする。

請求項３の発明は、請求項２に記載の排ガス処理システムにおいて、前記処理装置は、所定物質の量が多いときには荷電率を全荷電に設定し、所定物質の量が少ないときには全荷電より低く荷電率を設定する、ことを特徴とする。

請求項４の発明は、ボイラから煙突に至る煙道に、該ボイラからの排ガスを処理する集塵装置を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置を備える設備に用いられる排ガス処理方法において、前記ボイラから排出される排ガス中の所定物質を計測し、排ガスの計測結果を基にして、所定物質の量が多いときには前記集塵装置の集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くする、ことを特徴とする排ガス処理方法である。

請求項１および請求項４の発明によれば、所定物質、例えばホウ素等の微量物質の量が多いときには集塵装置の集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くして、排ガス中の所定物質を、集塵装置で燃焼灰として除去するので、排水処理装置の負担を軽減することを可能にする。

請求項２の発明によれば、荷電率を調整することにより、集塵装置の集塵効率を容易に制御することを可能にする。

請求項３の発明によれば、所定物質の量が多いときには荷電率を全荷電に設定するので、集塵装置により微量物質を燃焼灰として回収することができる。

実施の形態１による排ガス処理システムの構成および火力発電所の構成を示す構成図である。 荷電率を説明する説明図である。 排ガス処理システムの詳しい構成を示す構成図である。 微量物質の濃度制御処理を示すフローチャートである。 荷電率の修正処理を示すフローチャートである。 実施の形態２による排ガス処理システムの構成および火力発電所の構成を示す構成図である。

次に、この発明の実施の形態について、電力会社の火力発電所を例とし、図面を用いて詳しく説明する。

（実施の形態１）
この実施の形態による排ガス処理システムは、火力発電所に設置されている。火力発電所には、図１に示すように、ボイラ１０、脱硝装置２０、集塵装置３０、脱硫装置４０、煙突５０および排水処理装置６０が基本的に設置され、ボイラ１０〜煙突５０までの間は煙道で連結されている。なお、図１では、発電に必要とする蒸気タービン等の記載を省略している。排ガス処理システムは、火力発電所に設置されている集塵装置３０と、自動ホウ素計７０と、演算処理装置８０とで構成されている。

ボイラ１０は石炭を燃焼して高温・高圧の蒸気を生成し、この蒸気を蒸気タービンに供給する。石炭の燃焼に伴う煤煙がボイラ１０の熱交換器に付着すると、ボイラ１０は、スートブロワ装置から熱交換器に蒸気を噴射してスートブロワを行い、付着した煤煙を除去する。一方、ボイラ１０のボイラ水（缶水）は蒸発で減少した量だけ補給されるので、ボイラ水中の不純物が濃縮される。このために、ボイラ１０には、不純物が濃縮されたボイラ水の排水が定期的に発生する。

脱硝装置２０は、ボイラ１０で発生する排ガスに対して脱硝処理を行い、排ガス中のＮＯｘを除去する。脱硝装置２０は、処理工程で定常的に排水を発生する。

集塵装置３０は、脱硝装置２０で脱硝処理が行われた排ガスから、微量物質等の煤塵を除去して、燃焼灰を生成する。集塵装置３０としては次のものがある。この集塵装置３０は、複数の放電用電極および集塵用電極を備え、これらの電極の間に直流の高電圧を加える。これにより、煤塵には電荷が与えられ、集塵用電極に付着するので、排ガスから煤塵が除去される。この実施の形態で集塵装置３０は、放電用電極と集塵用電極との間に、荷電電流を間欠的に流す。つまり、集塵装置３０は間欠荷電型の装置である。例えば図２に示すように、集塵装置３０は、荷電時間Ｔ１で荷電電流を流し、荷電休止時間Ｔ２で荷電電流を停止する。そして、集塵装置３０は、荷電電流の制御を、荷電率を基にして行う。集塵装置３０は、荷電率Ｒｃを、
荷電率Ｒｃ＝荷電時間Ｔ１／（荷電時間Ｔ１＋荷電休止時間Ｔ２）
によって算出する。荷電率Ｒｃが値１／１であるときが、全荷電である。つまり、全荷電では、排ガス中に存在する煤塵の量と、除去した煤塵の量との比である集塵効率が最も高い。また、荷電率Ｒｃの値が１／２、１／３のように低くなる程、集塵効率が低くなる。

集塵装置３０は、こうした荷電により集塵用電極に付着した煤塵を、集塵用電極に設けられたハンマの槌打により、集塵用電極から取り除く。なお、集塵装置３０の洗浄の際には排水が発生する。

脱硫装置４０は、集塵装置３０から流れてくる排ガスに対し脱硫処理を行い、排ガス中のＳＯｘを除去する。脱硫装置４０には、排ガスの処理工程で定常的に排水が発生する。なお、排ガス中の微量物質は、脱硫装置４０から排出される排水に溶解して、排水処理装置６０に流れる。煙突５０は、脱硫装置４０から流れてくる排ガスを大気中に放出する。

排水処理装置６０は、ボイラ１０〜脱硫装置４０からの排水を、あらかじめ定められた排出基準を満たすように処理する。つまり、排水処理装置６０は、排水のｐＨ（水素イオン濃度）を中性化する処理、排水中の濁りを除去する凝集沈殿処理や濾過処理などを行う。また、ホウ素のような微量物質を沈殿物に変える処理なども行う。こうした処理を行う場合、ホウ素等の微量物質の量が多くなれば、沈殿物の生成に必要な薬剤が多くなると共に沈殿物の量も多くなり、排水処理に係る負荷が大きくなる。逆に、微量物質の量が少なくなれば、排水処理に係る負荷が小さくなる。排水処理装置６０は、こうした処理で浄化した排水を河川や海に放出する。

自動ホウ素計７０は、ホウ素の量を自動で計測する装置であり、集塵装置３０と脱硫装置４０とを接続する煙道に設置されている。自動ホウ素計７０は、煙道を流れる排ガス中のホウ素の値を自動で計測し、計測した結果である計測値を演算処理装置８０に送る。

演算処理装置８０は微量物質の濃度制御を行うコンピュータである。演算処理装置８０は、図３に示すように、入力部８１、操作部８２、処理部８３、記憶部８４、出力部８５および表示部８６を備えている。入力部８１は自動ホウ素計７０からの計測値を処理部８３に送るためのインターフェースであり、出力部８５は処理部８３からの制御指示等を集塵装置３０に送るためのインターフェースである。操作部８２は、濃度制御などに必要なデータ等を入力するための装置であり、キーボードやマウスが該当する。表示部８６は、濃度制御等に関連するデータを、処理部８３の制御で表示するＬＣＤ（液晶ディスプレイ）などの表示装置である。記憶部８４は、読み書きのできる記憶装置であり、微量物質の濃度制御に必要とするプログラムをあらかじめ記憶している。

処理部８３は演算処理装置８０に必要とする各種の処理を、記憶部８４に記憶されているプログラムに従って行う。処理部８３が行う処理には、微量物質の濃度制御処理がある。微量物質の濃度制御処理では、自動ホウ素計７０からの計測値が高ければ、集塵装置３０の荷電率を高めて集塵効率を高め、煤塵の回収量を多くする。これにより、微量物質を含む燃焼灰の生成量が多くなり、排水処理装置６０が行う排水処理に係る負荷を軽減することができる。逆に、自動ホウ素計７０からの計測値が低ければ、集塵装置３０の荷電率を低めて集塵効率を低くし、燃焼灰の生成量を減らす。このときには、排水処理装置６０の排水処理に係る負荷は軽くなっている。

こうした微量物質の濃度制御処理の一例を図４に示す。演算処理装置８０の処理部８３は、微量物質の濃度制御処理を開始すると、イニシャルセットを行う（ステップＳ１）。ステップＳ１で、処理部８３は、集塵装置３０の荷電率Ｒｃを値１／１に設定する。ステップＳ１が終了すると、処理部８３は、制御周期およびサンプリング周期のカウントアップをする（ステップＳ２）。ステップＳ２で、制御周期は集塵装置３０に対する制御を行う周期であり、サンプリング周期は自動ホウ素計７０等によるサンプリングの周期である。ステップＳ２が終了すると、処理部８３は、サンプリング周期が経過したかどうかを判断する（ステップＳ３）。サンプリング周期が経過すると、処理部８３は、アナログ量をサンプリングする（ステップＳ４）。ここでサンプリングされるアナログ量は、自動ホウ素計７０が出力する計測値や、必要とする負荷をボイラ１０に対して要求する指令つまりボイラデマンド指令である。ステップＳ４が終了するか、または、ステップＳ３でサンプリング周期が経過していなければ、処理部８３は、荷電率の修正処理を行う（ステップＳ５）。

ステップＳ５の修正処理を図５に示す。処理部８３は、荷電率の修正処理を開始すると、ステップＳ４でサンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過したかどうかを判断する（ステップＳ２１）。具体的には、ステップＳ２１で自動ホウ素計７０の計測値が設定値以上で設定時間を超過したかどうかを判断する。ステップＳ２１で、アナログ量が設定値以上で設定時間を超過していないと、処理部８３は、集塵装置３０に対する制御がスタートしているかどうかを判断する（ステップＳ２２）。集塵装置３０に対する制御がスタートしていると、処理部８３は、集塵装置３０に対する制御がスタート直後かどうかを判断する（ステップＳ２３）。集塵装置３０に対する制御がスタート直後でないと、処理部８３は、ボイラ負荷が上昇中かどうかを判断する（ステップＳ２４）。具体的には、ステップＳ４でサンプリングしたボイラデマンド指令を基にして、ステップＳ２４を行う。ステップＳ２４でボイラ負荷が上昇中でないと、処理部８３は、ボイラ負荷上昇後に設定時間が超過したかどうかを判断する（ステップＳ２５）。設定時間を超過していると、処理部８３は、ボイラ１０がスートブロワ中かどうかを判断する（ステップＳ２６）。スートブロワ中でなければ、処理部８３は、制御周期が経過したかどうかを判断する（ステップＳ２７）。制御周期が経過していると、処理部８３は荷電率の修正処理を終了する。

一方、ステップＳ２１において、ステップＳ４でサンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していると、処理部８３は「濃度高」を出力する（ステップＳ２８）。ステップＳ２８で、処理部８３は表示部８６を制御して「濃度高」を表示する。この後、処理部８３は、集塵装置３０に対する制御を切る（ステップＳ２９）。ステップＳ２９で、処理部８３は、後述の荷電率のアップ・ダウン制御を停止する。ステップＳ２９が終了するか、または、ステップＳ２２で、集塵装置３０に対する制御がストップしていると、処理部８３は、集塵装置３０に対する制御がストップ直後かどうかを判断する（ステップＳ３０）。集塵装置３０に対する制御がストップ直後であると、処理部８３は、荷電率Ｒｃを値１／１にする（ステップＳ３１）。つまり、値１／１に設定された荷電率Ｒｃが集塵装置３０に対する制御指示になる。

ステップＳ３１が終了するか、ステップＳ３０で、集塵装置３０に対する制御がストップ直後でなか、または、ステップＳ２７で制御周期が経過していないと、処理部８３は、処理をステップＳ２に戻して、荷電率の修正処理を終了する。

また、処理部８３は、
（ａ）集塵装置３０に対する制御がスタート直後である（ステップＳ２３）
（ｂ）ボイラ負荷が上昇中である（ステップＳ２４）
（ｃ）ボイラ負荷が上昇終了後に設定時間が経過していない（ステップＳ２５）
という条件が１つ満足されると、制御周期のカウントをクリアして（ステップＳ３２）、ステップＳ３１の処理を行う。

また、処理部８３は、ステップＳ２６で、ボイラ１０がスートブロワ中であると、スートブロワ継続状態で設定時間が経過したかどうかを判断する（ステップＳ３３）。スートブロワ継続状態で設定時間が経過していると、処理部８３はステップＳ２７の処理を行う。また、スートブロワ継続状態で設定時間が経過していないと、処理部８３は、制御周期のカウントをクリアして（ステップＳ３４）、荷電率Ｒｃを再設定する（ステップＳ３５）。つまり、再設定された荷電率Ｒｃが集塵装置３０に対する制御指示になる。具体的には、ステップＳ３５で、処理部８３は、ボイラ１０によるスートブロワ中のホウ素を含む微量物質の濃度が突出することを防ぐために、荷電率Ｒｃを現状に比べて高い値にする。例えば現状の荷電率Ｒｃが値１／７であると、処理部８３は、この値を１／２に高める。ステップＳ３５が終了すると、処理部８３は、処理をステップＳ２に戻して、荷電率の修正処理を終了する。

こうした荷電率の修正処理において、処理部８３は、ボイラ１０の状態および集塵装置３０に対する制御が定常的ではない場合に、つまり、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過した
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がストップ直後である
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃを値１／１にして全荷電にする。また、処理部８３は、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がストップであり、かつ、ストップ直後である
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃを値１／１にして全荷電にする。また、処理部８３は、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がスタートであり、かつ、スタート直後である
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃを値１／１にして全荷電にする。また、処理部８３は、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がスタート直後ではない
（ｃ）ボイラ負荷が上昇中である
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃを値１／１にして全荷電にする。また、処理部８３は、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がスタート直後ではない
（ｃ）ボイラ負荷が上昇終了後に設定時間が超過していない
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃを値１／１にして全荷電にする。

さらに、処理部８３は、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がスタート直後ではない
（ｃ）ボイラ負荷が上昇終了後に設定時間が超過している
（ｄ）ボイラ１０がスートブロワ中である
という条件が満足されると、荷電率Ｒｃの再設定をする。

処理部８３は、荷電率の修正処理を終了すると、ステップＳ４でサンプリングしたアナログ量を基にして、微量物質の濃度の平均値を算出する（ステップＳ６）。具体的には、微量物質に含まれるホウ素の平均値を算出する。ステップＳ６の後、処理部８３は、算出した平均値を基にして微量物質の濃度が過多かどうかを判断する（ステップＳ７）。具体的には、ホウ素の濃度が過多かどうかを判断している。微量物質が過多でないと、処理部８３は、ステップＳ６で算出した平均値を基にして微量物質の濃度が過少かどうかを判断する（ステップＳ８）。具体的には、ホウ素の濃度が過少かどうかを判断している。

微量物質の濃度が過少であると、処理部８３は、荷電率Ｒｃの値をダウンして集塵装置３０に出力し（ステップＳ９）、処理をステップＳ２に戻す。具体的には、ホウ素の濃度が過少であると、処理部８３は、荷電率Ｒｃの値をダウンする。例えばステップＳ９では、良好な品質の石炭燃焼時には、白煙対策を行うために、荷電率Ｒｃを全荷電の３０〜４０パーセントに設定する。一方、ステップＳ７で微量物質の濃度が過多であると、処理部８３は、荷電率Ｒｃの値をアップして集塵装置３０に出力し（ステップＳ１０）、処理をステップＳ２に戻す。具体的には、ホウ素の濃度が過多であると、処理部８３は、荷電率Ｒｃの値１／１つまり全荷電に設定する。

このように、処理部８３は、ボイラ１０の状態および集塵装置３０に対する制御が定常的である場合に、つまり、
（ａ）サンプリングしたアナログ量が設定値以上で設定時間を超過していない
（ｂ）集塵装置３０に対する制御がスタートしているが、スタート直後ではない
という条件を満足した後、さらに、
（ｃ）ボイラ負荷が上昇終了後であり、設定時間が超過している
（ｄ）ボイラ１０がスートブロワ中ではない
（ｅ）制御周期が経過している
という条件が満足された場合に、微量物質が過多であると、荷電率Ｒｃの値をアップし、逆に微量物質が過少であると、荷電率Ｒｃの値をダウンする、アップ・ダウン制御を行う。つまり、アップ・ダウン制御が集塵装置３０に対する制御指示となる。

次に、この実施の形態の排ガス処理システムによる排ガス処理方法について説明する。演算処理装置８０は、サンプリングしたアナログ量、具体的には自動ホウ素計７０の計測値を基にして、微量物質の濃度制御処理を行う。このとき、ボイラ１０がスートブロワ中である、また、集塵装置３０に対する制御がスタート直後である、というようにボイラ１０の状態および集塵装置３０に対する制御が定常的でない場合に、演算処理装置８０は、荷電率の修正処理により、状態に応じて荷電率Ｒｃを値１／１に設定するか、または再設定する。

一方、ボイラ１０の状態および集塵装置３０に対する制御が定常的ある場合に、演算処理装置８０は、微量物質の濃度制御処理のステップＳ６〜Ｓ１０により、ボイラ１０で燃焼される石炭の品質に応じて、荷電率Ｒｃの値をアップ・ダウンする。例えば、ボイラ１０で低品位炭が燃焼されると、排ガス中にホウ素やセレン等の微量物質が多く含まれるので、演算処理装置８０は、集塵装置３０に対する荷電率を全荷電に設定する。また、ボイラ１０で良好な品位の石炭が燃焼されると、演算処理装置８０は、白煙対策のために、集塵装置３０に対する荷電率を全荷電の３０〜４０パーセントに設定する。

こうして、この実施の形態によれば、ボイラ１０で燃焼される石炭の品質に応じて、集塵装置３０の集塵効率を調整することができる。これにより、ボイラ１０で低品位炭が燃焼されると、集塵装置３０に対する荷電率を全荷電にして、微量物質を燃焼灰として回収することができる。かつ、微量物質を燃焼灰として回収するので、脱硝装置２０〜脱硫装置４０からの排水を処理する排水処理装置６０の負担を、従来に比較して軽減することができる。また、この実施の形態によれば、ボイラ１０で良好な品質の石炭が燃焼されると、集塵装置３０に対する荷電率を荷電の３０〜４０パーセントにして、白煙対策を行うことができる。

なお、この実施の形態では、自動ホウ素計７０を用いてホウ素を計測し、計測値を演算処理装置８０に送ったが、担当者が演算処理装置８０の操作部８２を操作して、手動で計測値を入力してもよい。この場合には、微量物質の濃度制御処理のステップＳ４で、計測値が手動入力になる。また、処理部８３は、操作部８２に入力される処理停止の指示により、微量物質の濃度制御処理を終了する。

（実施の形態２）
この実施の形態による排ガス処理システムを図６に示す。この実施の形態では、実施の形態１の自動ホウ素計７０の代わりに自動ホウ素計７０Ａを用いる。なお、この実施の形態では、先に説明した実施の形態１と同一もしくは同一と見なされる構成要素には、それと同じ参照符号を付けて、その説明を省略する。

実施の形態２で用いられる自動ホウ素計７０Ａは、ホウ素の量を自動で計測する装置であり、脱硫装置４０からの排水を流す配管に設置されている。自動ホウ素計７０Ａは、配管を流れる排水中のホウ素の値を計測し、計測結果である計測値を演算処理装置８０に送る。

こうした実施の形態によれば、実施の形態１と同様に、ホウ素の量を計測することができる。これにより、実施の形態１と同様の効果を達成することができる。

上記の各実施の形態では、火力発電所を例としたが、この発明は、化石燃料等を燃焼して発生する排ガスから、集塵装置と排水処理装置を利用して微量物質を除去する、すべての設備に利用可能である。

１０ ボイラ
２０ 脱硝装置
３０ 集塵装置
４０ 脱硫装置
５０ 煙突
６０ 排水処理装置
７０ 自動ホウ素計（計測装置）
８０ 演算処理装置（処理装置）

Claims (4)

1. ボイラから煙突に至る煙道に、該ボイラからの排ガスを処理して燃焼灰を出す集塵装置を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置を備える排ガス処理システムにおいて、
   前記ボイラから排出される排ガス中の所定物質を計測する計測装置と、
   前記計測装置による計測結果を基にして、所定物質の量が多いときには前記集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くする処理装置と、
   を備えることを特徴とする排ガス処理システム。
2. 前記集塵装置は放電電流を間欠的に流すことにより集塵を行い、
   前記処理装置は、所定物質の量が多いときには、前記放電電流の間欠の状態を表す荷電率を高くする指示を前記集塵装置に出し、所定物質の量が少ないときには荷電率を低くする、
   ことを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理システム。
3. 前記処理装置は、所定物質の量が多いときには荷電率を全荷電に設定し、所定物質の量が少ないときには全荷電より低く荷電率を設定する、
   ことを特徴とする請求項２に記載の排ガス処理システム。
4. ボイラから煙突に至る煙道に、該ボイラからの排ガスを処理する集塵装置を含む各種の処理設備を備えると共に、各処理設備からの排水を処理する排水処理装置を備える設備に用いられる排ガス処理方法において、
   前記ボイラから排出される排ガス中の所定物質を計測し、
   排ガスの計測結果を基にして、所定物質の量が多いときには前記集塵装置の集塵効率を高くし、所定物質の量が少ないときには集塵効率を低くする、
   ことを特徴とする排ガス処理方法。

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