JP2011023719A - 鉛フリーc4相互接続の信頼性を改善するための構造体及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 構造体は、ボール制限メタライゼーション(BLM)層と、BLM層の上に形成された制御崩壊チップ接続(C4)はんだボールとを含む。さらに、構造体は、BLM層の下に最終金属パッド層を含み、最終金属パッド層の下にキャップ層を含む。さらにまた、構造体は、C4はんだボールの下に、最終金属パッド層とBLM層及びキャップ層のうちの1つとの間に形成されたエア・ギャップを含む。
【選択図】 図7
Description
本発明の1つの態様によれば、C4構造体は、パッド構造体(例えば、最終アルミニウム・パッド又はBLM層)を含み、パッド構造体は、通常はひび割れ及びホワイト・バンプをもたらすような接合(又は他の熱的CPI)応力がC4構造体に及ぼされる前に、柔軟性(例えば、曲がりやすさ)がパッド(例えば、最終アルミニウム・パッド層又はBLM層)に与えられるように、エア・ギャップ上のパッド構造体の幅全体にわたってほとんど支持されない。実施形態においては、エア・ギャップは、アルミニウム・パッド層とボール制限メタラジ(BLM)捕捉パッド・メタライゼーションとの間に形成される。別の実施形態においては、エア・ギャップは、アルミニウム・パッド層とアルミニウム・パッド層の下の層(例えば、キャップ窒化物層)との間に形成される。本発明は、構造体及び構造体を作るプロセスの両方を含み、構造体は、例えばC4NPといったいずれかのドライC4プロセス技術又は他のいずれかのはんだ配置プロセスに組み入れることが可能な、「自立型」BLM捕捉パッド・メタライゼーション薄膜を含む。構造体自体は、さらに、めっきC4にも有用な場合がある。
本発明の更なる態様によれば、C4の縁部の周りに形成された支持材料は、ホワイト・バンプを防止する好ましい応力分布を可能にする。実施形態においては、構造体、例えば支持ショルダ又はカラー構造体は、リフローの際にC4はんだボールが自己整合するウェハ・レベルに形成される。このようにして、C4はんだボールは、自動的に、側壁支持体(例えば、カラー構造体又は支持ショルダ)に寄りかかる。実施形態においては、側壁支持体は、C4自体の外側周縁部の下のBLM被覆のための基部として機能することによって、C4支持構造体の一部として直接形成される。実施形態において、本発明は、ハーフトーン・マスク又は薄い第2のPSPI膜塗布プロセスを用いて、表面の面は連続しているが均一な高さではない最終カラーを形成することができる。
本発明の態様によれば、C4が底部及び上部において円形にならないようにC4の形状を変更することによって、C4にかかる応力を劇的に低減させることができる。これにより、C4疲労のリスクが低減すると共に、C4ホワイト・バンプのリスクが低減する。
本発明の更なる態様によれば、BEOLの中まで延びてホワイト・バンプ形成をもたらす引張り応力場の影響を最小化するためのBEOL設計方法を用いることができる。モデル化することによって、2つの主要な引張り応力点(これは、下にある銅配線構造体とは無関係である)、即ち、BLMの縁部における引張り応力点と、ポリイミド最終ビアの基部における別の引張り応力点(C4のチップ中心点から離れた位置の側に位置する)とを特定した。さらに、別の故障の状態は、CTEによるアンダーフィル層分離(又は、CPIチップ・レベルひび割れ)を含むが、これは、例えばチップ縁部又はコーナーにおいて発生し、例えば応力場におけるチップの信頼性ストレス又は熱サイクル中に成長し続ける。層分離は、ひび割れがC4バンプを通って伝搬するか又は下降してBLM若しくはチップBEOL配線内に伝搬するかのいずれかの可能性がある近くのC4位置に達するまで、アンダーフィル/チップ・パッシベーション界面に沿って成長を続けることがある。
(電流に必要な最小ビア・サイズ)<{a}<b:{(b−a)/2>/=〜10μm}(1)
ここで、(b−a)/2=AB、b=BLM直径、a=最終ビア直径である。不等式(1)は、「a」(各々のビア位置においてカスタマイズすることができる最終ビア・サイズ)が、特定の設計によって必要とされる電流が効率的に伝導するのに必要なサイズより大きい下限値を有し、線分ABを(例えば、環状配線領域353に十分な空間を提供するために)少なくとも10μmの長さに留めるようなサイズによって上限が定められることを示す。
特定のC4はんだバンプにおける応力は、はんだバンプの片側(チップ中心側に向いた側)では圧縮として、はんだバンプの反対側(チップ縁部側に向いた側)では引張りとして作用する。チップ縁部側に作用する引張力は、BEOL損傷を引き起こすことがある。上述のように、引張力は、2つの主要な位置、即ち、BLMはんだパッドの縁部のほぼ直下と、はんだバンプがアルミニウム又は銅パッドのBEOLメタライゼーションに接続するポリイミド最終ビアのまさしく基部底とにおいて、最も強大である。高応力を克服するために、その上に重なるBLM層の周縁部寸法を越える上側金属アルミニウム金属パッド延長部を用いて、ホワイト・バンプの引張り応力がはんだバンプを通じてチップBEOLレベルに移動するのを軽減することができる。
図61は、例えば、半導体の設計、製造、及び/又は試験に用いられる例示的な設計フロー6100のブロック図を示す。設計フロー6100は、設計されるICのタイプに応じて変わることがある。例えば、特定用途向けIC(ASIC)を構築するための設計フロー6100は、標準的なコンポーネントを設計するための設計フロー6100、又は、例えばAltera(登録商標)社若しくはXilinx(登録商標)社によって提供されるプログラマブル・ゲート・アレイ(PGA)又はフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)などのプログラマブル・アレイに設計を具体化するための設計フロー6100とは異なるものとすることができる(Alteraは、米国、その他の国々、又はその両方における、Altera Corporationの登録商標である。Xilinxは、米国、その他の国々、又はその両方における、Xilinx,Inc.の登録商標である)。設計構造6120は、好ましくは、設計プロセス6110への入力であり、IPプロバイダ、コア・デベロッパ、若しくは他の設計会社から提供されるか、又は、設計フローのオペレータによって若しくは他のソースから生成される場合がある。設計構造6120は、図1−図24、図26−図40、図44、図53、図54、図57、及び図58に示される本発明の実施形態を、図又はHDL即ちハードウェア記述言語(例えば、VERILOG(登録商標)、Very High Speed Integrated Circuit(VHSIC)ハードウェア記述言語(VHDL)、C言語など)の形態で含む。(VERILOGは、米国、その他の国々、又はその両方における、Cadence Design Systems,Inc.の登録商標である)。設計構造6120は、1つ又は複数の機械可読媒体に収容することができる。例えば、設計構造6120は、図1−図24、図26−図40、図44、図53、図54、図57、及び図58に示される本発明の実施形態のテキスト・ファイル又は図表現とすることができる。設計プロセス6110は、好ましくは、図1−図24、図26−図40、図44、図53、図54、図57、及び図58に示される本発明の実施形態をネットリスト6180に統合(又は翻訳)し、ネットリスト6180は、集積回路設計における他の要素及び回路への接続を記述する、例えば配線、トランジスタ、論理ゲート、制御回路、I/O、モデルなどのリストであり、機械可読媒体の少なくとも1つに記録される。例えば、媒体は、CD、コンパクト・フラッシュ、他のフラッシュ・メモリ、インターネットを経由して送信されるデータのパケット、又は他のネットワークに適した手段とすることができる。統合は、反復プロセスとすることができ、このプロセスにおいては、ネットリスト6180は、回路の設計仕様及びパラメータに応じて1回又は複数回再統合される。
10:銅金属レベル
15:キャップ層
17:バルク窒化物層(窒化物層)
18:バルク酸化物層
19:キャップ窒化物層(窒化物キャップ層)
20:感光性ポリイミド(PSPI)層
25:アルミニウム・パッド
30:スピン・オン・ガラス(SOG)層
37:開口部(BLM:Alパッド・ビア)
40:捕捉パッド・ボール制限メタライゼーション(BLM)
45:捕捉パッド・レジスト・マスク
50:ギャップ
55:C4 Pbフリーはんだバンプ
60:第2のPSPI層
63:スロット
65:PSPIブロック
70:SOGレジスト・マスク
75:SOGブロック
80:感光性ポリイミド(PSPI)層
83:BLM:Al最終ビア
85:捕捉パッド・レジスト・マスク
90、95、97:マスク
92:酸化物チージング形状
100:従来のC4構造体
105、300、300’、300’’、350、405、425、475:C4構造体
110、200、400、450:チップ
115:支持ショルダ
120:リストン
125:めっき
130:輪郭付きPSPI層
135:追加層
205:球形状を有する従来のC4
210:卵型C4
220:ラミネート
305、310:応力領域
315:ビア
320:最終ビア直径
325、325’’:弦の長さ
353:環状配線領域
355、360、365:制限ゾーン
410、420、480:金属パッド
415、490:BLM層
430:固い誘電体層
485:POR金属パッド
487、497:応力領域突部
495:延長された金属パッド
6100:設計フロー
6110:設計プロセス
6120:設計構造
6130:ライブラリ要素
6140:設計仕様
6150:特性データ
6160:検証データ
6170:設計ルール
6180:ネットリスト
6185:試験データ・ファイル
Claims (25)
- 集積回路(IC)パッケージング構造体を製造する方法であって、
少なくとも1つのポリイミド層を形成するステップと、
金属パッドへの最終ビアと少なくとも1つの支持ショルダとを設けるように前記少なくとも1つのポリイミド層をエッチングするステップと、
前記最終ビア内に、前記金属パッドと前記少なくとも1つのポリイミド層の一部とに少なくとも接触するボール制限メタライゼーション(BLM)層を形成するステップと、
制御崩壊チップ接続(C4)はんだボールが前記少なくとも1つの支持ショルダによって支持されるように、前記C4はんだボールを前記BLM層の上に形成するステップと、
を含む方法。 - 前記C4はんだボールは、前記少なくとも1つの支持ショルダとの直接接触により、前記少なくとも1つの支持ショルダによって支持される、請求項1に記載の方法。
- 前記BLM層は、さらに前記少なくとも1つの支持ショルダと接触し、前記C4はんだボールは、前記少なくとも1つの支持ショルダにおける前記BLM層との直接接触により、前記少なくとも1つの支持ショルダによって支持される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのポリイミド層をエッチングする前記ステップは、
グレイトーン・エッチング・プロセスを用いるステップと、
前記少なくとも1つの支持ショルダを有する輪郭付きポリイミド層を形成するステップと、
前記少なくとも1つの支持ショルダを有する延長されたポリイミド層を形成するステップと、
前記少なくとも1つの支持ショルダを形成するように、少なくとも2つのポリイミド層をエッチングするステップと、
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記少なくとも1つのポリイミド層の上に層を形成するステップであって、前記層は、前記少なくとも1つのポリイミド層より高い弾性率を有する、当該ステップと、
前記金属パッドへの前記最終ビアと前記少なくとも1つの支持ショルダとを形成するように、前記層をエッチングするステップと、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 各々が最終ビアをもつ複数のボール制限メタライゼーション(BLM)−制御崩壊チップ接続(C4)構造体を有するフリップ・チップ・プラスチック・ボール・グリッド・アレイ構造体を設計する方法であって、
前記複数のBLM−C4構造体の各々のチップ縁部側におけるBLM縁部及び最終ビア縁部の直下のバック・エンド・オブ・ライン(BEOL)層内において配線及びビア接続のための制限ゾーンを用いて、前記制限ゾーンが前記配線及びビア接続を含まないようにするステップを含む方法。 - 前記制限ゾーンは、約5μm−10μmの幅を有する、請求項6に記載の方法。
- 前記複数のBLM−C4構造体のうちの少なくとも1つのBLM−C4構造体について、前記少なくとも1つのBLM−C4構造体のための特定の局所配線要件に応じて、前記BLM縁部と前記最終ビア縁部との間の距離を最大にするステップをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- 前記距離を最大にする前記ステップは、前記最終ビアの寸法を最小にすることによって達成される、請求項8に記載の方法。
- 前記最終ビアの寸法を最小にする前記ステップは、bをBLM直径とし、aを最終ビア直径とすると、
(電流に必要な最小ビア・サイズ)<{a}<b:{(b−a)/2>/=〜10μm}
に従って行われる、請求項9に記載の方法。 - 集積回路(IC)パッケージング構造体であって、
ボール制限メタライゼーション(BLM)層と、
前記BLM層の上に形成された制御崩壊チップ接続(C4)はんだボールと、
前記BLM層の下の最終金属パッド層と、
前記最終金属パッド層の下のキャップ層と、
前記C4はんだボールの下において、前記最終金属パッド層と前記BLM層及び前記キャップ層の一方との間に形成されたエア・ギャップと、
を含む構造体。 - 前記BLM層は、前記最終金属パッド層への少なくとも1つの開口部を有し、前記開口部は、前記最終金属パッド層と前記BLM層との間に堆積された材料を除去して前記エア・ギャップを作るための少なくとも1つの通路となる、請求項11に記載の構造体。
- 前記少なくとも1つの開口部は、前記BLM層におけるスロット型開口部である、請求項12に記載の構造体。
- 前記BLM層の寸法は、前記少なくとも1つの開口部を設けるために、少なくとも1つの方向において前記最終金属パッド層の寸法より小さい、請求項12に記載の構造体。
- 前記最終金属パッド層は、前記キャップ層への少なくとも1つの開口部を設けるために、少なくとも1つの方向において前記キャップ層の寸法より小さい寸法を有し、前記開口部は、前記最終金属パッド層と前記キャップ層との間に堆積された材料を除去して前記エア・ギャップを作るための少なくとも1つの通路となる、請求項11に記載の構造体。
- 前記エア・ギャップは、前記構造体に柔軟性を与え、その柔軟性によって、チップ・パッケージ相互作用によるひび割れ及びホワイト・バンプの形成のうちの少なくとも1つが低減する、請求項11に記載の構造体。
- 各々が制御崩壊チップ接続(C4)はんだボールを収容するようにチップ上に構成され配置された複数のボール制限メタライゼーション(BLM)を含み、
前記チップの少なくともコーナーに位置する前記複数のBLMのサブセットの、中立点までの距離(DNP)軸線方向の寸法は、前記チップの前記複数のBLMのうち残りのBLMのDNP軸線方向の寸法に比べて小さく、それにより、前記複数のBLMの前記サブセットの1つに収容された前記C4はんだボールは卵型形状を示す、
構造体。 - 前記複数のBLMの前記サブセットは、前記チップの前記コーナーにおいて前記複数のBLMの外側の2つ又はそれ以上の列を含む、請求項17に記載の構造体。
- 前記複数のBLMの前記サブセットは、前記チップ上における前記複数のBLMの外側の2つ又はそれ以上の列を含む、請求項17に記載の構造体。
- 複数のC4はんだボールの各々によって前記チップに取り付けられたラミネートをさらに含み、
前記ラミネートは、前記複数のBLMの前記サブセットの位置に対応する複数の卵型はんだレジスト開口部を含む、
請求項17に記載の構造体。 - 前記複数のBLMの前記サブセットは、前記C4はんだボールの大部分が前記卵型形状をとるように前記BLMの少なくとも大部分を構成する、請求項17に記載の構造体。
- BLM周縁部を有するボール制限メタライゼーション(BLM)層と、
前記BLM層の上に形成された制御崩壊チップ接続(C4)はんだボールと、
金属パッド層周縁部を有する前記BLM層の下の金属パッド層と、
を含み、
前記金属パッド層周縁部は、前記C4はんだボールの少なくともチップ縁部側において前記金属パッド層に平行な方向に前記BLM周縁部を越える、
集積回路(IC)パッケージング構造体。 - 前記金属パッド層周縁部は、前記C4はんだボールの少なくとも両側において前記金属パッド層に平行な方向に前記BLM周縁部を越える、請求項22に記載の構造体。
- 前記金属パッド層周縁部は、前記C4はんだボールの全ての側において前記金属パッド層に平行な方向に前記BLM周縁部を越える、請求項22に記載の構造体。
- 前記C4はんだボールの前記チップ縁部側に作用する引張力は、前記金属パッド層を引っ張り、前記金属パッドの下のBEOL層への応力伝達を軽減する、請求項22に記載の構造体。
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