JP2011023671A - 現像装置、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】載置台上の基板に対して例えば共通のノズルから常温現像液とレジストパターンの表層部を改質するための高温現像液とを切り替えて供給できるようにする。常温現像液用の供給路と高温現像液用の供給路とを切り替えて両現像液を順次吐出するようにしてもよいが、常温温調用の供給路と高温温調用の供給路とを合流させ、前者の供給路から常温現像液を供給した後、両供給路の流量比を調整して、その混合液を高温現像液として供給してもよい。また高温現像液の供給時間は現像液の温度を安定化させるために常温現像液の供給時間よりも長く、また現像液の消費量削減のために高温現像液の供給流量を常温現像液の供給流量よりも少なくする。
【選択図】図4
Description
前記基板を水平に載置する載置台と、
第1の温度に温調された第1の現像液を、前記載置台上の基板の表面に供給するための第1のノズルと、
第1の温度よりも高い第2の温度に温調された第2の現像液を、前記載置台上の基板の表面に供給するための第2のノズルと、
第1のノズルにより第1の現像液を基板の表面に供給して現像を行った後、第2のノズルにより第2の現像液を基板の表面に供給するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
前記基板を載置台に水平に載置する工程と、
第1の温度に温調された第1の現像液を、第1のノズルから前記載置台上の基板の表面に供給してレジストパターンを形成する工程と、
次いで第1の温度よりも高い第2の温度に温調された第2の現像液を、第2のノズルから前記載置台上の基板の表面に供給して、レジストパターンの表層部を酸が浸透しやすい状態に改質する工程と、を含むことを特徴とする。
本発明の現像装置1について、その斜視図である図1及び平面図である図2を参照しながら説明する。現像装置1は4つの現像処理部11a、11b、11c、11dと、4つの洗浄機構3a、3b、3c、3dと、現像液供給機構5と、を備えている。現像処理部11a〜11dは横方向に一列に配列されている。各現像処理部11a〜11dは各々同様に構成されており、ここでは現像処理部11aを例に挙げて、その縦断側面を示した図3を参照しながら説明する。現像処理部11aは夫々ウエハWの裏面中央部を吸着して水平に保持する載置台であるスピンチャック12aを備え、スピンチャック12aは回転軸13aを介して回転駆動機構14aと接続されている。スピンチャック12aは、ウエハWを保持した状態で回転駆動機構14aを介して鉛直軸回りに回転自在に構成されており、その回転軸上にウエハWの中心が位置するように設定されている。回転駆動機構14aは後述の制御部1Aからの制御信号を受けてスピンチャック12aの回転速度を制御する。
D2 高温現像液
F 純水
W ウエハ
1 現像装置
1A 制御部
11a〜11d 現像処理部
12a〜12d スピンチャック
21a〜21d カップ体
3a〜3d 洗浄機構
31a〜31d 純水ノズル
4A〜4C 温度調整部
5 現像液供給機構
51 現像液ノズル本体
52 吐出口
75 改質部
77 レジストパターン
Claims (17)
- レジスト膜が形成され、露光された後の基板に現像液を供給して現像を行う現像装置において、
前記基板を水平に載置する載置台と、
第1の温度に温調された第1の現像液を、前記載置台上の基板の表面に供給するための第1のノズルと、
第1の温度よりも高い第2の温度に温調された第2の現像液を、前記載置台上の基板の表面に供給するための第2のノズルと、
第1のノズルにより第1の現像液を基板の表面に供給して現像を行った後、第2のノズルにより第2の現像液を基板の表面に供給するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする現像装置。 - 洗浄液を、前記載置台上の基板の表面に供給するための洗浄ノズルを備え、
前記制御部は、第1の現像液を基板の表面に供給して現像を行った後、前記洗浄ノズルから基板の表面に洗浄液を供給し、次いで第2のノズルにより第2の現像液を基板の表面に供給するように制御信号を出力することを特徴とする請求項1記載の現像装置。 - 前記第1のノズルに接続され、現像液を第1の温度に温調しながら通流するための第1の供給路と、
前記第2のノズルに接続され、現像液を第2の温度に温調しながら通流するための第2の供給路と、を備えたことを特徴とする請求項1または2記載の現像装置。 - 現像液を設定温度に温調しながら通流するための第1の供給路と、
現像液を前記設定温度よりも高い温度に温調しながら通流するための第2の供給路と、
前記第1の供給路及び第2の供給路が合流する合流部と、
前記第1の供給路における現像液の流量と第2の供給路における現像液の流量との流量比を調整するための流量調整部と、
基板の表面に第2の現像液を供給するときには、前記合流部よりも下流側の現像液を第2の現像液として用いるために当該現像液の温度が前記第2の温度となるように前記流量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする請求項1または2記載の現像装置。 - 前記第1の供給路における設定温度は第1の温度であり、前記第1の現像液は、第1の供給路を通流する現像液が使用されることを特徴とする請求項4記載の現像装置。
- 前記第1のノズル及び第2のノズルはノズル本体及びこのノズル本体に形成された現像液吐出口を共有し、
前記第1の供給路及び第2の供給路は前記現像液吐出口に接続され、
前記制御部は、基板の表面に第1の現像液を供給するときには前記現像液吐出口から吐出される現像液の温度が前記第1の温度となるように、また基板の表面に第2の現像液を供給するときには前記現像液吐出口から吐出される現像液の温度が前記第2の温度となるように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の現像装置。 - 第1のノズル及び第2のノズルはノズル本体を共有し、このノズル本体に第1の現像液及び第2の現像液を夫々吐出する第1の現像液吐出口及び第2の現像液吐出口が形成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の現像装置。
- 前記制御部は、第2の現像液の供給時に基板の表面の温度を安定化させるために、第2の現像液の供給時間が第1の現像液の供給時間よりも長くなるように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の現像装置。
- 第1の現像液の流量を調整する手段と第2の現像液の流量を調整する手段とを備え、
前記制御部は、第2の現像液の供給流量が第1の現像液の供給流量よりも少なくなるように前記各手段を調整するための制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の現像装置。 - レジスト膜が形成され、露光された後の基板に現像液を供給してレジストパターンを形成する方法において、
前記基板を載置台に水平に載置する工程と、
第1の温度に温調された第1の現像液を、第1のノズルから前記載置台上の基板の表面に供給してレジストパターンを形成する工程と、
次いで第1の温度よりも高い第2の温度に温調された第2の現像液を、第2のノズルから前記載置台上の基板の表面に供給して、レジストパターンの表層部を酸が浸透しやすい状態に改質する工程と、を含むことを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 第1の現像液を前記基板の表面に供給した後、第2の現像液を当該基板の表面に供給する前に、洗浄液を基板の表面に供給する工程を行うことを特徴とする請求項10記載のレジストパターンの形成方法。
- 第2の現像液を前記基板の表面に供給する工程は、現像液を設定温度に温調しながら通流するための第1の供給路からの現像液と、現像液を前記設定温度よりも高い温度に温調しながら通流するための第2の供給路からの現像液と、を混合し、その混合液を第2の現像液として用いるために、当該混合液が第2の温度となるように前記第1の供給路における現像液の流量と第2の供給路における現像液の流量との流量比を調整する工程を含むことを特徴とする請求項10または11記載のレジストパターンの形成方法。
- 前記第1の供給路における設定温度は第1の温度であり、第1の現像液を前記基板の表面に供給する工程は、第1の供給路を通流する現像液が使用されることを特徴とする請求項12記載のレジストパターンの形成方法。
- 第2の現像液を基板の表面に供給する供給時間は、基板の表面における第2の現像液の温度を安定化させるために、第1の現像液の供給時間よりも長いことを特徴とする請求項10ないし13のいずれか一項に記載のレジストパターンの形成方法。
- 第2の現像液の供給流量が第1の現像液の供給流量よりも少ないことを特徴とする請求項10ないし14のいずれか一項に記載のレジストパターンの形成方法。
- 第2の現像液を前記基板の表面に供給する工程が行われた後、基板の表面に酸を供給する工程と、
次いで前記基板を加熱して酸を拡散させる工程と、
その後、前記基板に現像液を供給してレジストパターンにおける酸の拡散部分を溶解させてレジストパターンを細くする工程と、を含むことを特徴とする請求項10ないし15のいずれか一項に記載のレジストパターンの形成方法。 - レジストパターンの形成方法に用いられるプログラムを格納する記憶媒体であって、
前記プログラムは、請求項10ないし16のいずれか一項の方法を実行するようにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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