JPH09297404A - 現像方法 - Google Patents
現像方法Info
- Publication number
- JPH09297404A JPH09297404A JP11363996A JP11363996A JPH09297404A JP H09297404 A JPH09297404 A JP H09297404A JP 11363996 A JP11363996 A JP 11363996A JP 11363996 A JP11363996 A JP 11363996A JP H09297404 A JPH09297404 A JP H09297404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- temp
- temperature
- tank
- heating tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】感光性樹脂のパターン露光後の現像工程におい
て、現像液の温度調節の急速な変更が困難である問題を
解決する。 【解決手段】現像液槽として、加温槽と冷温槽との２種
を設け、それぞれの槽から送られる現像液の配合比を調
節する機構を経て、被現像体へ現像液を適用する。
て、現像液の温度調節の急速な変更が困難である問題を
解決する。 【解決手段】現像液槽として、加温槽と冷温槽との２種
を設け、それぞれの槽から送られる現像液の配合比を調
節する機構を経て、被現像体へ現像液を適用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用カ
ラーフィルタ等に用いる感光性樹脂の現像方法に係わ
る。
ラーフィルタ等に用いる感光性樹脂の現像方法に係わ
る。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタ等に用いる感光性樹脂の
パターン露光後の現像工程では、主としてスプレー（シ
ャワー）方式で現像液を被現像体に吹き付けて現像す
る。現像条件の最適化のために、現像液には温度調節が
必要となるが、現在、この温調はタンク内でのヒーター
及び冷却器による一括温調となっている。そのため温調
に数十分もの時間がかかり、別品種の加工のための条件
の変更が困難である。例えば、３０℃の現像液を２５℃
の現像液から得る場合、現状では、２００リッターのタ
ンクを用い、ヒーターにて２５℃から３０℃に上げるの
に３０分かかっている。逆に２５℃の現像液を３０℃の
現像液から得る場合、冷却器にて３０℃から２５℃に下
げるのに６０分かかっている。
パターン露光後の現像工程では、主としてスプレー（シ
ャワー）方式で現像液を被現像体に吹き付けて現像す
る。現像条件の最適化のために、現像液には温度調節が
必要となるが、現在、この温調はタンク内でのヒーター
及び冷却器による一括温調となっている。そのため温調
に数十分もの時間がかかり、別品種の加工のための条件
の変更が困難である。例えば、３０℃の現像液を２５℃
の現像液から得る場合、現状では、２００リッターのタ
ンクを用い、ヒーターにて２５℃から３０℃に上げるの
に３０分かかっている。逆に２５℃の現像液を３０℃の
現像液から得る場合、冷却器にて３０℃から２５℃に下
げるのに６０分かかっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
を解消し、素早い温調により条件変更を容易にすること
を目的とする。
を解消し、素早い温調により条件変更を容易にすること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基体上に形成
された感光性樹脂の現像液槽として、加温槽と冷温槽と
の２種を設け、それぞれの槽から送られる現像液の配合
比を調節する機構を経て、被現像体へ現像液を適用する
ことを特徴とする現像方法である。
された感光性樹脂の現像液槽として、加温槽と冷温槽と
の２種を設け、それぞれの槽から送られる現像液の配合
比を調節する機構を経て、被現像体へ現像液を適用する
ことを特徴とする現像方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図面を用
いて以下に説明する。図１は本発明の現像方法に用いる
現像液供給装置の概要を示したものである。加温槽６お
よび冷温槽７の双方の中には現像液１ｈおよび１ｃがそ
れぞれ入っている。加温槽６はヒーターにより加温され
ており、冷温槽７は冷却器により冷却されているかまた
は常温のままである。加温槽６および冷温槽７から現像
液が送られる先には電磁弁８が設けられており、それぞ
れの槽からの現像液１ｈおよび１ｃが混合比を調節しつ
つ混合されてノズル２より噴霧される。その混合比の調
節方法としては、以下のような手段によるのが一般的で
ある。
いて以下に説明する。図１は本発明の現像方法に用いる
現像液供給装置の概要を示したものである。加温槽６お
よび冷温槽７の双方の中には現像液１ｈおよび１ｃがそ
れぞれ入っている。加温槽６はヒーターにより加温され
ており、冷温槽７は冷却器により冷却されているかまた
は常温のままである。加温槽６および冷温槽７から現像
液が送られる先には電磁弁８が設けられており、それぞ
れの槽からの現像液１ｈおよび１ｃが混合比を調節しつ
つ混合されてノズル２より噴霧される。その混合比の調
節方法としては、以下のような手段によるのが一般的で
ある。
【０００６】すなわち、温度設定器１１で設定した所望
の温度の現像液１を、加温槽６および冷温槽７にあるそ
れぞれの現像液１ｈおよび１ｃにより作り出すにはそれ
らの現像液１ｈおよび１ｃをどのような配合比で混合す
ればよいかを、温度調節器１０にて導きだし、それによ
る指示で電磁弁８を作動させ、所望の温度の現像液１が
ノズル２より噴霧されるようにする。そして一方、ノズ
ル２の下方の、現像液１がかかる部位にあるセンサー９
により、噴霧された現像液１の温度を測定し、得られた
データを温度調節器１０にフィードバックすることによ
り、それが所望の現像液１の温度とのずれがあった場合
には、電磁弁８を再調整して所望の温度に近づけるよう
にする。この機構により、既に加温槽６および冷温槽７
それぞれの加温または冷却が完了しているならば、温度
条件変更の際の温度調節は約５分で可能となる。
の温度の現像液１を、加温槽６および冷温槽７にあるそ
れぞれの現像液１ｈおよび１ｃにより作り出すにはそれ
らの現像液１ｈおよび１ｃをどのような配合比で混合す
ればよいかを、温度調節器１０にて導きだし、それによ
る指示で電磁弁８を作動させ、所望の温度の現像液１が
ノズル２より噴霧されるようにする。そして一方、ノズ
ル２の下方の、現像液１がかかる部位にあるセンサー９
により、噴霧された現像液１の温度を測定し、得られた
データを温度調節器１０にフィードバックすることによ
り、それが所望の現像液１の温度とのずれがあった場合
には、電磁弁８を再調整して所望の温度に近づけるよう
にする。この機構により、既に加温槽６および冷温槽７
それぞれの加温または冷却が完了しているならば、温度
条件変更の際の温度調節は約５分で可能となる。
【０００７】このようにして所望の温度に調節されてノ
ズル２より噴霧される現像液１は、搬送コロ３により一
定速度で連続移動される被現像体４上に吹き付けられ
る。
ズル２より噴霧される現像液１は、搬送コロ３により一
定速度で連続移動される被現像体４上に吹き付けられ
る。
【０００８】
【実施例】米国コーニング社製の板ガラス（製品名「７
０５９」、厚さ１．１ｍｍ）上に、下記組成の青色のア
クリル系顔料分散感光性樹脂をスピンコート法で塗布
し、プレベーク後酸素遮断膜としてポリビニルアルコー
ルを塗布し、活性光でパターン露光した。顔料分散感光
性樹脂は、以下の組成よりなる。 １）メタクリル酸 １０重量部 メチルメタクリレート ２０重量部 ヒドロキシメタクリレート ２０重量部 ブチルメタクリレート ３０重量部 シクロヘキシルメタクリレート ２０重量部 から成るアクリル共重合体 ： ７．４重量％ ２）アクリル系モノマー、「アロニックスＭ−３０５」（東亞合成（株）製、 商品名） ： ３．９重量％ ３）青色顔料（カラーインデックスナンバー15:6）： ４．５重量％ ４）光重合開始剤、「Ｂ−ＣＩＭ」（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名） ： ０．８重量％ ５）増感剤「ＥＡＢＦ」（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名） ： ０．８重量％ ６）有機溶剤 ：８２．６重量％
０５９」、厚さ１．１ｍｍ）上に、下記組成の青色のア
クリル系顔料分散感光性樹脂をスピンコート法で塗布
し、プレベーク後酸素遮断膜としてポリビニルアルコー
ルを塗布し、活性光でパターン露光した。顔料分散感光
性樹脂は、以下の組成よりなる。 １）メタクリル酸 １０重量部 メチルメタクリレート ２０重量部 ヒドロキシメタクリレート ２０重量部 ブチルメタクリレート ３０重量部 シクロヘキシルメタクリレート ２０重量部 から成るアクリル共重合体 ： ７．４重量％ ２）アクリル系モノマー、「アロニックスＭ−３０５」（東亞合成（株）製、 商品名） ： ３．９重量％ ３）青色顔料（カラーインデックスナンバー15:6）： ４．５重量％ ４）光重合開始剤、「Ｂ−ＣＩＭ」（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名） ： ０．８重量％ ５）増感剤「ＥＡＢＦ」（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名） ： ０．８重量％ ６）有機溶剤 ：８２．６重量％
【０００９】こののち、上記の工程を経た被現像体４
を、以下に示す成分のアルカリ性現像液で後述の現像方
法により現像し、水洗後１００℃で５分間乾燥した。 炭酸ナトリウム １５重量部 炭酸水素ナトリウム ６重量部 陰イオン系界面活性剤「ペレックスＮＢＬ」（花王
（株）製、商品名）（アルキルナフタレンスルフォン酸
ナトリウム） ９５重量部 非イオン系湿潤浸透剤「エマルゲンＬ−４０」（花王
（株）製、商品名）（ポリオキシエチレン誘導体） ７
０重量部 水 ９００重量部
を、以下に示す成分のアルカリ性現像液で後述の現像方
法により現像し、水洗後１００℃で５分間乾燥した。 炭酸ナトリウム １５重量部 炭酸水素ナトリウム ６重量部 陰イオン系界面活性剤「ペレックスＮＢＬ」（花王
（株）製、商品名）（アルキルナフタレンスルフォン酸
ナトリウム） ９５重量部 非イオン系湿潤浸透剤「エマルゲンＬ−４０」（花王
（株）製、商品名）（ポリオキシエチレン誘導体） ７
０重量部 水 ９００重量部
【００１０】本実施例における現像方法は、以下の如く
である。すなわち図２に示すように、被現像体４を、搬
送コロ３により一定速度で連続移動させ、現像チャンバ
ー内に搬送し、既述の現像液供給装置により、加温槽６
の６０℃の現像液１ｈと冷温槽７の２０℃の現像液１ｃ
が、混合比を調節しつつ混合された２３℃の現像液１で
シャワー現像する。
である。すなわち図２に示すように、被現像体４を、搬
送コロ３により一定速度で連続移動させ、現像チャンバ
ー内に搬送し、既述の現像液供給装置により、加温槽６
の６０℃の現像液１ｈと冷温槽７の２０℃の現像液１ｃ
が、混合比を調節しつつ混合された２３℃の現像液１で
シャワー現像する。
【００１１】ただし、本実施例では、噴霧されたのち現
像チャンバー下部に流れ落ちた現像液１は、経済的理由
から、ポンプ５により再び加温槽６に導かれ、劣化する
まで再利用される。この場合、加温槽６にある現像液１
ｈは、たえず再利用のため注入される使用済みの現像液
１により温度低下が起こるが、常にヒーターにより加温
を行う一方、既述の、センサー９と温度調節器１０によ
るフィードバック制御で電磁弁８の再調整が頻繁に行わ
れるため、ノズル２より噴霧される現像液１の温度調節
は正確に行われる。
像チャンバー下部に流れ落ちた現像液１は、経済的理由
から、ポンプ５により再び加温槽６に導かれ、劣化する
まで再利用される。この場合、加温槽６にある現像液１
ｈは、たえず再利用のため注入される使用済みの現像液
１により温度低下が起こるが、常にヒーターにより加温
を行う一方、既述の、センサー９と温度調節器１０によ
るフィードバック制御で電磁弁８の再調整が頻繁に行わ
れるため、ノズル２より噴霧される現像液１の温度調節
は正確に行われる。
【００１２】次いで、現像する感光性樹脂パターンの品
種替えにより、現像温度を２７℃に変更することになっ
たが、本発明の現像方法により、温度設定器１１を２７
℃に設定するだけで、約５分で温度変更が完了した。
種替えにより、現像温度を２７℃に変更することになっ
たが、本発明の現像方法により、温度設定器１１を２７
℃に設定するだけで、約５分で温度変更が完了した。
【００１３】
【発明の効果】本発明の、現像液の温度管理（制御）方
法により、現像液の温度条件設定の幅が広がり、さまざ
まな品種に対応した生産ライン条件が瞬時に設定でき、
間接時間が約５分と大幅に低減する。
法により、現像液の温度条件設定の幅が広がり、さまざ
まな品種に対応した生産ライン条件が瞬時に設定でき、
間接時間が約５分と大幅に低減する。
【００１４】
【図１】本発明の現像方法に用いる現像液供給装置の概
要を示す説明図である。
要を示す説明図である。
【図２】本発明の現像方法の一例を示す説明図である。
１ 現像液 ２ ノズル ３ 搬送コロ ４ 被現像体 ５ ポンプ ６ 加温槽 ７ 冷温槽 ８ 電磁弁 ９ センサー １０ 温度調節器 １１ 温度設定器
Claims (1)
- 【請求項１】基体上に形成された感光性樹脂の現像液槽
として、加温槽と冷温槽との２種を設け、それぞれの槽
から送られる現像液の配合比を調節する機構を経て、被
現像体へ現像液を適用することを特徴とする現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11363996A JPH09297404A (ja) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11363996A JPH09297404A (ja) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09297404A true JPH09297404A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=14617342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11363996A Pending JPH09297404A (ja) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09297404A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023671A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体 |
-
1996
- 1996-05-08 JP JP11363996A patent/JPH09297404A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023671A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体 |
| US8474396B2 (en) | 2009-07-17 | 2013-07-02 | Tokyo Electron Limited | Developing apparatus, resist pattern forming method and storage medium |
| TWI427438B (zh) * | 2009-07-17 | 2014-02-21 | Tokyo Electron Ltd | 顯影裝置、光阻圖形之形成方法及記憶媒體 |
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