JP2011023085A - 半導体記憶装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】同期動作の高速化が可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】第1のバンク数を有するBootRAMと、第1のバンク数より多い第2のバンク数を有するDataRAMと、BootRAMおよびDataRAMに設けられたビット線に対して行うプリチャージ動作を制御するイコライズタイマ制御回路42とを備える。イコライズタイマ制御回路42は、クロックに同期して動作する同期動作をBootRAMに対して行う際、アドレスADDを受け取った後、最初の第1プリチャージ動作の終了後から次の第2プリチャージ動作が開始されるまでの間に、第2プリチャージ動作を第1プリチャージ動作と異なる動作時間に切り替える。
【選択図】図2

Description

本発明は、複数種類のメモリを1チップに集積した半導体記憶装置に関し、例えば非同期動作と同期動作を有する半導体記憶装置に関するものである。
複数種類のメモリを1チップに集積した半導体記憶装置の一例として、OneNAND(登録商標)がある(例えば、特許文献1参照)。このOneNANDは、主記憶部としてのNAND型フラッシュメモリおよびバッファ部としてのSRAMなどを、1チップに集積したものである。さらに、OneNANDには、例えばNAND型フラッシュメモリとSRAMとの間のデータ転送を制御するために、ステートマシンを搭載したコントローラが用意されている。
ここで、OneNANDにおいては、SRAMをバンク構成の異なる複数のバッファメモリにより構成することが可能である。
しかし、これら複数のバッファメモリにおける動作を同じタイマで制御する場合、従来は非同期動作に合わせて同期動作も同様に設定されていた。この場合、非同期動作時に外部から入力される外部入力信号のスキューに対応するため、動作期間は長めに設定されている。このため、同期動作中では、動作期間は必要以上に長い設定となっている。
すなわち、構成が異なる複数のメモリ装置が1チップ内に存在する場合、データ保証のため、制御タイマを各動作の一番遅いメモリ装置に合わせる必要がある。このため、同期動作においても、一番遅いメモリ装置に合わせる必要が生じ、動作を高速化できないという問題がある。
特開2006−286179号公報
本発明は、同期動作の高速化が可能な半導体記憶装置を提供する。
本発明の一実施態様の半導体記憶装置は、第1のバンク数を有する第1のメモリと、前記第1のバンク数より多い第2のバンク数を有する第2のメモリと、前記第1、第2のメモリに設けられたビット線に対して行うプリチャージ動作を制御する制御回路とを具備し、前記制御回路は、クロックに同期して動作する同期動作を前記第1のメモリに対して行う際、アドレスを受け取った後、最初の第1プリチャージ動作の終了後から次の第2プリチャージ動作が開始されるまでの間に、前記第2プリチャージ動作を前記第1プリチャージ動作と異なる動作時間に切り替えることを特徴とする。
本発明の他の実施態様の半導体記憶装置は、第1のバンク数を有する第1のメモリと、前記第1のバンク数より多い第2のバンク数を有する第2のメモリと、アドレスの切り替わりを検知し、検知信号を出力する検知回路と、前記アドレスにより設定されたレイテンシをカウントし、前記レイテンシのカウントが終了したとき、切り替え信号を出力するレイテンシカウンタと、前記検出信号に応じて前記第1のメモリに設けられたビット線に対して行うプリチャージ動作を制御すると共に、前記切り替え信号に応じて前記プリチャージ動作の動作時間を切り替える制御回路とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、同期動作の高速化が可能な半導体記憶装置を提供することが可能である。
本発明の実施形態の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。 実施形態の半導体記憶装置におけるイコライズタイマ制御回路及びイコライズタイマとその周辺回路の構成を示すブロック図である。 実施形態の半導体記憶装置におけるSRAMセルアレイ、イコライズトランジスタ、及びロウデコーダの構成を示す回路図である。 実施形態におけるイコライズタイマ制御回路の構成を示す回路図である。 実施形態におけるイコライズタイマ制御回路の構成を示す回路図である。 実施形態におけるイコライズタイマの構成を示す回路図である。 実施形態におけるイコライズタイマ内の遅延回路の構成を示す回路図である。 実施形態のDataRAMにおける外部非同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のBootRAMにおける外部非同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のDataRAMにおける外部同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のBootRAMにおける外部同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のDataRAMにおける内部同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のBootRAMにおける内部同期動作時の読み出し動作を示すタイミングチャートである。 実施形態のSRAMの各動作において信号ROM1,2のいずれが選択されるかを表す図である。
以下、図面を参照して本発明の実施形態の半導体記憶装置について説明する。ここでは、半導体記憶装置としてOneNANDを例に取る。説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
[1]実施形態に係る半導体記憶装置の構成
図1は、本発明の実施形態の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
図示するように、この半導体記憶装置は、主記憶部(NAND部)としてのNAND型フラッシュメモリ1と、バッファ部(RAM部)としてのSRAM2と、NAND型フラッシュメモリ1およびSRAM2を制御する制御部(Controller部)としてのコントローラ3と、を1つのチップに集積したものである。
[1−1]NAND型フラッシュメモリ1の構成
NAND型フラッシュメモリ1は、メモリセルアレイ(NAND Array)11、センスアンプ(S/A)12、ページバッファ(NAND Page Buffer)13、ロウデコーダ(Row Dec.)14、電圧供給回路(Voltage Supply)15、シーケンサ(NAND Sequencer)16、及びオシレータ(OSC)17,18を備える。
メモリセルアレイ11は、NAND型フラッシュメモリ1のセルアレイであり、ビット線とワード線との交差位置にマトリクス状に配置された複数のメモリセル(図示しない)を備えている。複数のメモリセルの各々は、例えば、半導体基板上にトンネル絶縁膜を介して順に積層された、浮遊ゲート電極、ゲート間絶縁膜、および制御ゲート電極を備える、積層ゲート構造を有するMOS型トランジスタによって構成される。
また、複数のメモリセルの各々は、例えば、浮遊ゲート電極に注入された電子の多寡による閾値電圧の変化に応じて、1ビットのデータを保持することが可能である。なお、閾値電圧の制御を細分化し、各々のメモリセルに2ビット以上のデータを保持する構成としてもよい。また、メモリセルは、窒化膜に電子をトラップさせる方式を用いたMONOS(Metal Oxide Nitride Oxide Silicon)構造であってもよい。
センスアンプ12は、メモリセルアレイ11の1ページ分のメモリセルのデータを読み出すものである。ここで、ページとはNAND型フラッシュメモリ1において一括してデータが書き込まれ、または読み出される単位を指す。例えば、同一のワード線に接続された複数のメモリセルが1ページを構成する。
ページバッファ13は、シーケンサ16の制御にしたがって、1ページ分の読み出しデータまたは書き込みデータを一時的に格納するものであり、例えば2KB+64Bの記憶容量を有している。
ロウデコーダ14は、メモリセルアレイ11のワード線を選択するためのデコーダである。
電圧供給回路15は、シーケンサ16の制御にしたがって、メモリセルアレイ11の読み出し、書き込み、および消去に必要な電圧(Internal Voltage)を生成し、ロウデコーダ14に供給するものである。
シーケンサ16は、アドレス/コマンド発生回路(NAND Add/Command Gen.)31で発行されたNAND型フラッシュメモリ1へのコマンド(Program/Load)を受けて、NAND型フラッシュメモリ1に対する書き込み(Program)、読み出し(Load)、または消去などの制御を行うものである。
オシレータ17は、シーケンサ16の内部制御回路のための内部クロックACLKを発生するものである。オシレータ18は、ステートマシン(OneNAND State Machine)32の内部制御回路のための内部クロックACLKを発生するものである。
[1−2]SRAM2の構成
SRAM2は、複数(この例の場合、3つ)のSRAMセルアレイ(Array)21a〜21c、複数のロウデコーダ(Row Dec.)22a〜22c、複数のセンスアンプ(S/A)23a〜23c、ECCバッファ24、ECCエンジン25、DQバッファ26、アクセスコントローラ27、バーストバッファ(Burst Read/Write buffer)28a,28b、およびユーザインターフェイス(I/F)29を備える。
SRAMセルアレイ21a〜21cは、それぞれ、NAND型フラッシュメモリ1へプログラムする書き込みデータ、または、NAND型フラッシュメモリ1からロードした読み出しデータを格納する。これらSRAMセルアレイ21a〜21cは、図示せぬ外部ホスト装置とやり取りするためのバッファメモリとして使用される。SRAMセルアレイ21a〜21cは、それぞれ、ワード線とビット線対との交差位置にマトリクス状に配置された複数のメモリセル(SRAMセル)を備える。
ロウデコーダ22a〜22cは、それぞれ、SRAMセルアレイ21a〜21cのワード線を選択するためのデコーダである。
センスアンプ23a〜23cは、それぞれ、SRAMセルのデータを読み出すためのものである。また、このセンスアンプ23a〜23cは、書き込みのための負荷としても機能する。
本実施形態の場合、例えば、SRAMセルアレイ21aは、バンク0の1バンク(1KB)で構成されたBootRAMとして機能するバッファメモリである。SRAMセルアレイ21bは、バンク0,1の2バンク(2KB)で構成されたDataRAM0として機能するバッファメモリであり、SRAMセルアレイ21cは、バンク0,1の2バンク(2KB)で構成されたDataRAM1として機能するバッファメモリである。なお、DataRAMは、2つ(DataRAM0,1)に限らず、さらに増設することも可能である。
ECCバッファ24は、SRAM2とページバッファ13との間に位置し、ECC処理(データロード時は誤り訂正/データプログラム時はパリティ発生)のために、一時的にデータを格納する。
ECCエンジン25は、ECCバッファ24に入力されたデータ(Data)の誤りを訂正するものであり、さらに訂正したデータ(Correct)を再びECCバッファ24に出力する。
DQバッファ26は、SRAMセルアレイ21a〜21cからのデータ読み出し(Read)、SRAMセルアレイ21a〜21cへのデータ書き込み(Write)を行うために、データを一時的に格納する。
アクセスコントローラ27は、ユーザインターフェイス29から入力されたアドレス(ADD<15:0>)および制御信号(/CE,/AVD,CLK,/WE,/OE)などを受け、内部の各回路に対して必要な制御を行うものである。
例えば、このアクセスコントローラ27は、クロックに同期して動作するクロック同期バーストリード機能を実行するための制御回路を備える。この制御回路は、クロック同期バーストリード時にバーストバッファ(Burst buffer0)28a,(Burst buffer1)28bを制御する。
バーストバッファ28a,28bは、それぞれ、データ読み出しまたはデータ書き込みのために、データを一時的に保存するバッファである。
ユーザインターフェイス29は、NOR型フラッシュメモリと同様のインターフェイス規格をサポートしており、外部ホスト装置からのアドレスおよび制御信号の入力、並びに、外部ホスト装置との間でのデータの入出力などを行う。
[1−3]コントローラ3の構成
コントローラ3は、アドレス/コマンド発生回路31、ステートマシン32、レジスタ33、CUI(Command User Interface)34、およびアドレス/タイミング発生回路(SRAM Add/Timing)35を備える。
アドレス/コマンド発生回路31は、内部シーケンス動作時に、必要に応じてNANDコア(NAND部)に対する、アドレスおよびコマンドなどの制御信号を生成するものである。
ステートマシン32は、アドレス/コマンド発生回路31よりコマンドが発行されたこと、または、CUI34からの内部コマンド信号を受けて、コマンドの種類に応じた内部シーケンス動作を制御する。
レジスタ33は、ファンクションの動作状態を設定するためのものであって、外部アドレス空間の一部を割り当てることにより、ユーザインターフェイス29を介して、外部ホスト装置によるアドレスまたはコマンドなどの制御信号の読み出しまたは書き込みが行われる。
CUI34は、レジスタ33の所定の外部アドレス空間にアドレスまたはコマンドなどの制御信号が書き込まれることで、ファンクション実行コマンドが与えられたことを認識し、内部コマンド信号を発行する。
アドレス/タイミング発生回路35は、内部シーケンス動作時に、必要に応じてSRAM2を制御するための、アドレスおよびタイミングなどの制御信号を生成するものである。
本実施形態においては、ページバッファ13とECCバッファ24との間が64bitのNANDデータバスによって接続されている。また、ECCバッファ24とDQバッファ26との間が64bitのECCデータバスによって接続されている。DQバッファ26とセンスアンプ23a〜23cとの間が64bitのSRAMデータバスによって接続されている。DQバッファ26と、バーストバッファ28a,28bおよびレジスタ33との間が64bit(4×16・I/O)のRAM/Registerデータバスによって接続されている。さらに、バーストバッファ28a,28bとユーザインターフェイス29との間がそれぞれ16bitのData Input/Output(DIN/DOUT)バスによって接続されている。
[1−4]イコライズタイマ制御回路及びイコライズタイマの構成
SRAM2内のアクセスコントローラ27は、ユーザインターフェイス29から入力されたアドレス(ADD<15:0>)および制御信号(CLK,/CE,/AVD,/WE,/OE)などを受け、SRAMセルアレイ(BootRAM、DataRAM0,1)21a〜21cに対して必要な制御を行う。アドレスADDは、ワード線を選択するためのロウアドレス、及びビット線を選択するためのカラムアドレスを含む。
アクセスコントローラ27は、イコライズタイマ制御回路及びイコライズタイマを備えている。これらイコライズタイマ制御回路及びイコライズタイマは、SRAMセルアレイ21a〜21c内のメモリセルに接続されたワード線の選択の切り替えを行う時に、メモリセルに接続されたビット線をプリチャージ及びイコライズするプリチャージ動作を制御する。
図2は、アクセスコントローラ27内のイコライズタイマ制御回路及びイコライズタイマと、その周辺回路の構成を示すブロック図である。
アドレス遷移検知回路(ATD回路)41、イコライズタイマ制御回路42、イコライズタイマ43、レイテンシカウンタ44はアクセスコントローラ27に含まれ、レジスタ33はコントローラ部3のレジスタであり、SRAMコア45はSRAM2に含まれている。
外部入力として、チップイネーブル信号/CE、アドレスバリッド信号/AVD、アドレスADDがATD回路41に入力される。すると、ATD回路41は、アドレスADDの切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnをイコライズタイマ43に出力する。
イコライズタイマ制御回路42には、信号FT_EQLSW、信号CMD_RAMWRITE、信号ADCTENB、信号ROM1、及び信号ROM2が入力される。
信号FT_EQLSWは、ビット線をプリチャージ及びイコライズするプリチャージ動作時間を切り替え可能とするか否かを指定する信号である。信号CMD_RAMWRITEは、コントローラ部3内のレジスタ33から出力される信号であり、NAND型フラッシュメモリ1とSRAM2との間で行われる内部動作であることを指定する。
アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBは、レイテンシが所定値に達したとき、レイテンシカウンタ44から出力される信号であり、この信号に応じてアドレスカウンタが起動する。信号ROM1,ROM2(遅延情報)は、NAND型フラッシュメモリ1内のメモリセルアレイ11の所定領域に記憶されており、SRAMセルアレイ21a〜21cのビット線BLをプリチャージ及びイコライズする時間がそれぞれ設定されている。
イコライズタイマ制御回路42は、信号FT_EQLSW、信号CMD_RAMWRITE、信号ADCTENBに応じて、信号ROM1、信号ROM2のいずれかを選択して、信号EQL_TRIM<n:0>として出力する。
イコライズタイマ43は、信号RAMTDn、信号EQL_TRIM<n:0>に応じてプリチャージ及びイコライズする時間を決定し、イコライズ信号EQLをSRAMコア45に出力する。SRAMコア45は、信号EQLに応じてビット線をプリチャージ及びイコライズする。
[1−4−1]SRAMコア45の構成
図2に示したSRAMコア45、すなわち図1に示したSRAMセルアレイ21a,21b,21cおよびロウデコーダ22a,22b,22cの構成について説明する。
図3は、SRAM2内のSRAMセルアレイ及びロウデコーダの構成を示す回路図である。なお、SRAMセルアレイ21a,21b,21cの構成は同一であり、ロウデコーダ22a,22b,22cの構成も同一であるため、SRAMセルアレイ21aとロウデコーダ22aの構成を説明し、その他の説明は省略する。
図3に示すように、SRAMセルアレイ21aは、ワード線WL<0>〜WL<n>とビット線対BL,/BLとの交差位置にマトリクス状に配置された複数のSRAMセル212を備える。
SRAMセル212の各々は、並列、かつ逆向きに接続された2個のC-MOSインバータを有する。各SRAMセル212は、ゲートがワード線WL<0>〜WL<n>にそれぞれ接続されたトランスファトランジスタ(N-MOSトランジスタ)211を個々に介して、ビット線対BL,/BLに接続されている。
また、SRAMセルアレイ21aには、イコライズ線/EQLとビット線対BL,/BLとの交差位置に、それぞれ、ビット線プリチャージ用トランジスタ213、およびイコライズ用トランジスタ(PMOSトランジスタ)214が設けられている。
ビット線プリチャージ用トランジスタ213は、P-MOSトランジスタからなり、ビット線対BL,/BLの電位をVDD電源によりプリチャージする。イコライズ用トランジスタ214は、P-MOSトランジスタからなり、ビット線対BL,/BLの電位をイコライズする。
ロウデコーダ22aは、WL選択回路221およびWLEコントロール回路222を有する。WL選択回路221は、ワード線WL<0>〜WL<n>ごとに配置され、アドレス<n:0>に基づいてワード線WL<0>〜WL<n>を選択する。WLEコントロール回路222は、WL選択回路221およびイコライズ線/EQLを制御する。
WL選択回路221およびWLEコントロール回路222は、アクセスコントローラ27の制御により、ビット線BL,/BLをプリチャージ及びイコライズする際に、ビット線BL,/BLの電位をVDD電源によりプリチャージすると同時に、対応するワード線WL<0>〜WL<n>の電位を一時的に“0”レベルに制御する。
[1−4−2]イコライズタイマ制御回路42の詳細な構成
イコライズタイマ制御回路42は、図4、図5に示す回路を備える。
図4に示す回路は、C-MOSインバータ421,422,423,424と、NAND素子425,426を含む。NAND素子425の第1入力端にはアドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBが入力され、その第2入力端にはC-MOSインバータ421を介して信号CMD_RAMWRITEが入力される。
NAND素子425の出力はC-MOSインバータ422,423を介してNAND素子426の第1入力端に入力され、その第2入力端には信号FT_EQLSWが入力される。そして、NAND素子426の出力が信号CNTENBとして出力されると共に、NAND素子426の出力がC-MOSインバータ424を介して信号CNTENBnとして出力される。
図5に示す回路は、クロックドC-MOSインバータ427,428、C-MOSインバータ429を含む。クロックドC-MOSインバータ427,428の入力端には、信号ROM1,ROM2がそれぞれ入力される。
クロックドC-MOSインバータ427,428の第1制御端には信号CNTENBがそれぞれ入力され、クロックドC-MOSインバータ427,428の第2制御端には信号CNTENBnがそれぞれ入力されている。そして、クロックドC-MOSインバータ427,428の出力がC-MOSインバータ429を介して信号EQL_TRIMとして出力される。
図5に示した回路では、信号CNTENB,信号CNTENBnに応じて信号ROM1あるいは信号ROM2が選択されて、信号EQL_TRIMとして出力される。例えば、信号CNTENBが“H”のとき、信号ROM2が信号EQL_TRIMとして出力される。一方、信号CNTENBが“L”のときは、信号ROM1が信号EQL_TRIMとして出力される。
[1−4−3]イコライズタイマ43の詳細な構成
ビット線BL,/BLをプリチャージ及びイコライズする時間を決定するイコライズタイマ43の詳細な構成について述べる。
図6は、図2に示したイコライズタイマ43の構成を示す回路図である。
このイコライズタイマ43は、遅延回路431、NAND素子432、及びC-MOSインバータ433,434を含む。NAND素子432の第1入力端には信号ACTが入力され、その第2入力端には信号RAMTDnが入力される。遅延回路431の第1入力端には信号RAMTDnが入力され、その第2入力端には信号EQL_TRIM<n:0>が入力される。信号EQL_TRIM<n:0>に応じて遅延された信号OUTは、NAND素子432の第3入力端に入力される。そして、NAND素子432の出力がC-MOSインバータ433,434を介してイコライズ信号EQLとして出力される。
図7は、イコライズタイマ43内の遅延回路431の構成を示す回路図である。
この遅延回路431は、C-MOSインバータ4311,4312,4313、N-MOSトランジスタ4314、P-MOSトランジスタ4315,4316<n:0>、及び抵抗素子4317<n−1:0>を含む。
信号RAMTDnがC-MOSインバータ4311を介して、N-MOSトランジスタ4314及びP-MOSトランジスタ4315のゲートにそれぞれ入力される。P-MOSトランジスタ4315のソースにはVDD電源が接続され、N-MOSトランジスタ4314のソースは、基準電位源(例えば、接地電源)に接続されている。
P-MOSトランジスタ4315のドレインと、N-MOSトランジスタ4314のドレインとの間には、P-MOSトランジスタ4316<n:0>が並列に接続されている。P-MOSトランジスタ4316<n:0>の隣接するドレイン間には、抵抗素子4317<n−1:0>がそれぞれ接続されている。そして、P-MOSトランジスタ4316<0>のドレインと抵抗素子4317<0>とが接続されたノードの出力が、C-MOSインバータ4312,4313を介して信号OUTとして出力される。
遅延回路431では、信号EQL_TRIM<n:0>によりP-MOSトランジスタ4316<n:0>のいずれかがオンされる。P-MOSトランジスタ4316<n:0>のうち、オンされるP-MOSトランジスタの位置にしたがって、抵抗素子4317<n−1:0>の抵抗値が変化し、信号OUTの出力が遅延される。
[2]実施形態に係る半導体記憶装置の動作
[2−1]半導体記憶装置の基本的動作
ここでは、メモリセルアレイ11に書き込まれたデータを読み出す通常のリード動作について説明する。
通常のリード動作においては、まず、ユーザが外部ホスト装置からユーザインターフェイス29を通じて、ロードするデータのNANDアドレスおよびSRAMアドレスをレジスタ33に設定する。
また、ユーザが外部ホスト装置からユーザインターフェイス29を通じて、ロードコマンドをレジスタ33に設定する。レジスタ33にコマンドが書かれると、CUI34がファンクション実行コマンドであることを認識し、内部コマンド信号を生成する。この場合は、ロードコマンドが成立する。
このロードコマンドの成立を受けて、ステートマシン32が起動する。ステートマシン32は、必要な回路の初期化を行った後、アドレス/コマンド発生回路31にNAND部1に対するセンスコマンドを発行するように要求する。
すると、アドレス/コマンド発生回路31は、レジスタ33に設定されたNANDアドレスのデータをセンスさせるために、シーケンサ16へセンスコマンドを発行する。
このセンスコマンドを受けて、シーケンサ16が起動する。シーケンサ16は、必要な回路の初期化を行った後、指定されたNANDアドレスのセンス動作を行うために、電圧供給回路15、ロウデコーダ14、センスアンプ12、ページバッファ13を制御する。そして、メモリセルアレイ11よりロードしたセンスデータ(セルデータ)をページバッファ13に保存する。
また、シーケンサ16は、センスデータのページバッファ13への保存にともない、メモリセルアレイ11に対するセンス動作が終了したことを、ステートマシン33へ通知する。
この通知を受けたステートマシン32は、アドレス/コマンド発生回路31にリードコマンド(クロック)を発行するように要求する。
アドレス/コマンド発生回路31からのリードコマンドはシーケンサ16に送られ、そのリードコマンドを受けたシーケンサ16は、ページバッファ13をリード可能な状態にセットする。
こうして、ステートマシン32の要求により、アドレス/コマンド発生回路31からのリードコマンドをシーケンサ16へ発行することによって、NANDデータバスにページバッファ13内のデータを読み出し、そのデータをECCバッファ24へ転送させる。
この後、アドレス/タイミング発生回路35を介して、ステートマシン32からECC訂正開始制御信号が発行されることにより、ECCエンジン25は、ECCバッファ24からのデータの誤りを訂正し、その誤り訂正した後のデータをECCバッファ24に出力する。
そして、ECCバッファ24内の誤り訂正後のデータをECCデータバスに読み出し、DQバッファ26へと転送する。
DQバッファ26は、例えば、格納したデータをSRAMデータバスからセンスアンプ23bを経て、対応するSRAMセルアレイ21bに送る。SRAMセルアレイ21bでは、SRAMアドレスにしたがってデータ書き込みが行われる。
ユーザが、外部ホスト装置からユーザインターフェイス29を通じて、データを読み出すための制御信号を入力することにより、アクセスコントローラ27は、そのデータをSRAMセルアレイ21b内よりDQバッファ26に読み出す。そして、DQバッファ26に読み出されたデータは、例えばRAM/Registerデータバス、バーストバッファ28a、およびユーザインターフェイス29を介して、外部ホスト装置に出力される。以上により、通常のリード動作は終了する。
[2−2]半導体記憶装置のSRAM2における読み出し動作/書き込み動作
本実施形態の半導体記憶装置における、SRAMセルアレイ(BootRAM、DataRAM0,1)21a〜21cに対する読み出し動作及び書き込み動作について説明する。SRAMセルアレイに対する読み出し動作及び書き込み動作では、SRAMセルアレイ内のメモリセルに接続されたビット線対BL,/BLをプリチャージ及びイコライズするプリチャージ動作が行われる。ここでは、ビット線をプリチャージ及びイコライズするプリチャージ動作について詳述する。
BootRAMとDataRAM0,1とは異なるバンク構成を有する。例えば、BootRAMは1つのバンクを持ち、DataRAM0,1はそれぞれ2つのバンクを持つ。
以下に、外部ホスト装置から入力されるクロック(外部クロック)に非同期で行われる読み出し動作あるいは書き込み動作(外部非同期動作)、また外部クロックに同期して行われる読み出し動作あるいは書き込み動作(外部同期動作)、内部で発生するクロック(内部クロック)に同期して行われる読み出し動作あるいは書き込み動作(内部動作)に分けて記述する。外部非同期動作および外部同期動作は、BootRAMあるいはDataRAM0,1とユーザインターフェイス29との間でデータのやり取りが行われる動作である。内部動作は、BootRAMあるいはDataRAM0,1とメモリセルアレイ11との間でデータのやり取りが行われる動作である。
[2−2−1]外部非同期動作
図8は、DataRAMに対する外部非同期動作時のプリチャージ動作のタイミングチャートである。
まず、各信号について説明する。チップイネーブル信号/CE、アドレスバリッド信号/AVD、及びアドレスADDは外部ホスト装置から入力される信号である。チップイネーブル信号/CEは、半導体記憶装置を動作可能な状態にする信号である。アドレスバリッド信号/AVDは、アドレスADDを取り込むことができる期間を設定する。アドレスADDは、外部ホスト装置から入力されるアドレスである。
アクティブ信号ACT、アドレス遷移検知信号RAMTDn、イコライズ信号EQL、信号EQL_TRIMは半導体記憶装置内部で供給される信号である。アクティブ信号ACTは、DataRAMが選択されたことを示す信号であり、アドレスADDにより指定されたBootRAM、DataRAM0,1のいずれかが選択される。ここでは、DataRAM0,1のいずれかが選択される。アドレス遷移検知信号RAMTDnは、前述したように、アドレスADDの遷移、すなわちアドレスADDの切り替わりを検知したとき、出力される信号であり、ここでは所定の“L”パルスが出力される。
イコライズ信号EQLは、SRAMセルアレイ(BootRAM、DataRAM0,1)内のメモリセルに接続されたビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)を実行するための信号である。信号EQL_TRIMは、信号ROM1または信号ROM2により設定されたプリチャージ及びイコライズの動作期間を決定する信号である。
以下に、図8、図9を参照して、外部非同期動作を説明する。
まず、チップイネーブル信号/CEが“L”となり、この半導体記憶装置が動作可能状態となる。さらに、アドレスバリッド信号/AVDが“L”となり、アドレスADDを取り込む期間が設定される。
次に、アクティブ信号ACTが“H”となり、このDataRAMが選択される。さらに、アドレスADDの切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnが一定期間“L”となる。すなわち、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、イコライズ信号EQLは“H”になっており、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行されている。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T1後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき期間T1は、信号ROM1により設定される信号EQL_TRIMによって決定される。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出しあるいは書き込み(センスアンプ動作)が開始される。
図9は、BootRAMに対する外部非同期動作時のプリチャージ動作を示すタイミングチャートである。
図示するように、BootRAMにおけるプリチャージ動作は、図8に示した動作と同様であるため、説明は省略する。外部非同期動作では、バンク構成が異なるDataRAM0,1、及びBootRAMにおいても、同様な動作が実行される。
[2−2−2]外部同期動作
次に、図10、図11を参照して、外部同期動作を説明する。
図10は、DataRAMに対する外部同期動作時のプリチャージ動作を示すタイミングチャートである。
ここでは、外部クロックに同期したバーストリードについて説明する。このバーストリードでは、アドレスカウンタのカウントを開始するアドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBが追加される。信号ADCTENBは、アドレスADDが入力された後、レイテンシカウンタからの出力を受けて、すなわちレイテンシによって設定された所定数のクロックが経過した後に“H”となる。この信号ADCTENBにより、アドレスカウンタが起動を開始する。
まず、チップイネーブル信号/CEが“L”となり、この半導体記憶装置が動作可能状態となる。さらに、アドレスバリッド信号/AVDが“L”となり、アドレスADDを取り込む期間が設定される。
次に、アクティブ信号ACTが“H”となり、このDataRAMが選択される。さらに、アドレスADDの切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnが一定期間“L”となる。すなわち、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、イコライズ信号EQLは“H”になっており、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行されている。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T1後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき期間T1は、信号ROM1により設定される信号EQL_TRIMによって決定される。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出し(センスアンプ動作)が開始される。以上に述べた、アドレスADDが入力されてセンスアンプ動作が終了するまでの動作を、第1の動作とする。
前述した第1の動作の期間、すなわちアドレスADDが入力され、ビット線のプリチャージ及びイコライズが実行され、センスアンプ動作が終了するまでの期間、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBは“L”となっており、アドレスカウンタはアドレスをカウントしない。
この第1の動作に続いて、以下のような第2の動作が実行される。
第1の動作の後、レイテンシにより設定された所定期間が経過すると、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBが“H”となり、アドレスカウンタによるアドレスのカウントが開始される。これにより、アドレスカウンタは、クロックCLKに同期してアドレスをインクリメントし、インクリメントしたアドレスを順次出力する。
そして、アドレスカウンタから順次出力されるアドレスにおいて、アドレスに含まれるロウアドレスが切り替わると、すなわちワード線の選択が切り替わると、その切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnが一定期間“L”となる。すなわち、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて“H”から“L”に立ち下がると、その立ち下がりエッジに応じて、イコライズ信号EQLは“H”となり、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行される。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T1後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき期間T1は、前述したように、信号ROM1により設定される信号EQL_TRIMによって決定される。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出し(センスアンプ動作)が開始される。
図11は、BootRAMに対する外部同期動作時のプリチャージ動作を示すタイミングチャートである。
図示するように、第1の動作は、図10に示した動作と同様であるため、説明は省略する。
第1の動作に続いて行われる第2の動作は以下のようになる。
第1の動作の後、レイテンシにより設定された所定期間が経過すると、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBが“H”となり、アドレスカウンタによるアドレスのカウントが開始される。この信号ADCTENBが“H”になるのを検出して、すなわちアドレスカウンタの起動を検出して、信号EQL_TRIMが信号ROM1から信号ROM2に切り替わる。
ここで、信号EQL_TRIMを信号ROM1から信号ROM2に切り替えるタイミングは、第1の動作におけるプリチャージ動作あるいはセンスアンプ動作の終了後から、次の第2の動作におけるプリチャージ動作が開始されるまでの間に行われればよい。したがって、ここでは、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBを用いたが、この信号ADCTENBに限るわけではなく、第1の動作のプリチャージ動作の終了後から、次の第2の動作のプリチャージ動作の開始までの間に発生するその他の信号を用いて、信号EQL_TRIMを信号ROM1から信号ROM2に切り替えてもよい。
前述したように、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBが“H”となり、アドレスカウンタによるアドレスのカウントが開始されると、アドレスカウンタは、クロックCLKに同期してアドレスをインクリメントし、インクリメントしたアドレスを順次出力する。
そして、アドレスカウンタから順次出力されるアドレスにおいて、アドレスに含まれるロウアドレスが切り替わると、すなわちワード線の選択が切り替わると、その切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて“H”から“L”に立ち下がると、その立ち下がりエッジに応じて、イコライズ信号EQLは“H”となり、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行される。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T2後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき、信号EQL_TRIMは信号ROM1から信号ROM2に切り替わっているため、期間T2は、信号ROM2により設定された時間となる。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出し(センスアンプ動作)が開始される。
このように、外部クロックに同期して動作するバーストリードでは、アドレスの入力直後に行われるビット線のプリチャージ及びイコライズの実行時間が第1の時間に設定され、次に行われるビット線のプリチャージ及びイコライズの実行時間が第1の時間より短い第2の時間に設定される。
これにより、SRAMセルにおけるビット線のプリチャージ及びイコライズの実行時間を最適化することができるため、外部同期動作の高速化、例えば外部クロックに同期して動作するバーストリードの高速化が可能となる。
[2−2−3]内部動作
次に、図12、図13を参照して、内部動作を説明する。
図12は、DataRAMに対する内部動作時のプリチャージ動作を示すタイミングチャートである。
ここでは、半導体記憶装置内で生成された内部クロックACLKに同期したロード及びプログラムについて説明する。ロードは、NAND型フラッシュメモリ1からSRAM2にデータを読み出す動作である。プログラムは、SRAM2からNAND型フラッシュメモリ1にデータを書き込む動作である。
信号CMD_RAMWRITEは、前述したように、コントローラ部3内のレジスタ33から出力される信号であり、NAND型フラッシュメモリ1とSRAM2との間で行われる内部動作であることを指定する。信号CMD_RAMWRITEが“H”になると、内部動作であることが指定され、信号ROM1と信号ROM2の切り替えが行われず、信号EQL_TRIMは信号ROM1に固定される。
まず、信号CMD_RAMWRITEが“H”となり、内部動作であることが指定される。また、アクティブ信号ACTが“H”となり、このDataRAMが選択される。
次に、信号CMD_RAMWRITEの立ち上がりエッジに応じて、アドレス遷移検知信号RAMTDnが一定期間“L”となる。すなわち、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、イコライズ信号EQLは“H”になっており、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行されている。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T1後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき期間T1は、信号ROM1により設定される信号EQL_TRIMによって決定される。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出しあるいは書き込み(センスアンプ動作)が開始される。
その後、アドレスカウンタから順次出力されるアドレスにおいて、アドレスに含まれるロウアドレスが切り替わると、すなわちワード線の選択が切り替わると、その切り替わりを検知して、アドレス遷移検知信号RAMTDnが一定期間“L”となる。すなわち、アドレス遷移検知信号RAMTDnとして所定の“L”パルスが出力される。
ここで、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて“H”から“L”に立ち下がると、その立ち下がりエッジに応じて、イコライズ信号EQLは“H”となり、ビット線BLのプリチャージ及びイコライズが実行される。そして、アドレス遷移検知信号RAMTDnの“L”パルスにおいて、信号RAMTDnが“L”から“H”へ立ち上がると、その立ち上りエッジから期間T1後に、イコライズ信号EQLは“H”から“L”に立ち下がる。このとき期間T1は、前述したように、信号ROM1により設定される信号EQL_TRIMによって決定される。
これにより、ビット線対BL,/BLのプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)が終了し、センスアンプによる読み出しあるいは書き込み(センスアンプ動作)が開始される。
図13は、BootRAMに対する内部動作時のプリチャージ動作を示すタイミングチャートである。
図示するように、BootRAMにおけるプリチャージ動作は、図12に示した動作と同様であるため、説明は省略する。内部動作では、バンク構成が異なるDataRAM0,1、及びBootRAMにおいても、同様な動作が実行される。
[2−2−4]SRAM2の各動作における信号ROM1,2の選択
図14は、実施形態のSRAM2の各動作において、信号ROM1,2のいずれが選択されるかを表す図である。
SRAM2内のSRAMセルアレイ(BootRAM、DataRAM0,1)21a〜21cにおいて、外部クロックに非同期の読み出し動作(Async Read)、外部クロックに非同期の書き込み動作(Async Write)、外部クロックに同期する読み出し動作(Sync Read)、外部クロックに同期する書き込み動作(Sync Write)、内部クロックに同期したロード(Load)、及び内部クロックに同期したプログラム(Program)の各動作時に、信号ROM1あるいは信号ROM2のいずれを選択するかが示されている。
なお、BootRAMに対しては、通常、外部ホスト装置から書き込みを行わないため、読み出し動作時の選択を(ROM1)あるいは(ROM2)にて示している。しかし、BootRAMを、DataRAM0,1よりバンク数が少なく、外部ホスト装置から書き込みが行われるDataRAMとした場合も、本発明を適用できる。この場合は、図14に示したように、非同期書き込み動作時に信号ROM1が選択され、同期書き込み動作時に信号ROM2が選択される。
[3]実施形態の効果
以上説明したように本実施形態では、クロックに同期して動作する読み出し動作及び書き込み動作において、アドレスの入力直後に行われるビット線のプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)の実行時間が第1の時間に設定され、次に行われるビット線のプリチャージ及びイコライズの実行時間が第1の時間より短い第2の時間に設定される。
これにより、SRAMセルにおけるビット線のプリチャージ及びイコライズの実行時間を最適化することができるため、同期動作の高速化、例えば外部クロックに同期して動作するバーストリードの高速化が可能となる。
さらに、外部非同期動作、外部同期動作、内部動作等の動作毎に、プリチャージ及びイコライズの動作時間を制御する制御回路を保有する必要がないため、半導体記憶装置の形成に必要な面積(レイアウト)を低減することができる。
また、クロックに同期して動作する同期動作中は、ワード線の切り替えを行うときにビット線をプリチャージ及びイコライズ(プリチャージ動作)する必要があり、同期動作中は、クロックに同期してアドレスが切り替わるため、アドレスがスキューすることはない。このため、プリチャージ動作時間を短くすることが可能になる。
同期動作では、アドレスが入力されて最初のプリチャージ動作が終了した後、次のプリチャージ動作が始まるまでの間に、プリチャージ動作時間の設定を切り替えればよい。例えば、アドレスカウンタイネーブル信号ADCTENBでプリチャージ動作時間の設定を切り替えることにより、DataRAMとはバンク構成の異なるBootRAMにおけるプリチャージ動作時間を最適化することができ、動作の高速化が可能になる。
本実施形態では、1チップ内に複数の動作を有する複数のメモリ装置が存在しても、それぞれのメモリ装置を制御するタイマの設定を、各メモリ装置に各動作でダイナミックに設定することにより、それぞれの動作に影響なくタイマを設定することができる。さらに、それぞれの動作毎にタイマの設定回路を保有する必要がないため、レイアウトに必要な面積を縮小することができる。
なお、前述した実施形態は唯一の実施形態ではなく、前記構成の変更あるいは各種構成の追加によって、様々な実施形態を形成することが可能である。さらに、前述した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、実施形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。
1…NAND型フラッシュメモリ、2…SRAM、3…コントローラ、11…メモリセルアレイ、12…センスアンプ、13…ページバッファ、14…ロウデコーダ、15…電圧供給回路、16…シーケンサ、17,18…オシレータ、21a〜21c…SRAMセルアレイ、22a〜22c…ロウデコーダ、23a〜23c…センスアンプ、24…ECCバッファ、25…ECCエンジン、26…DQバッファ、27…アクセスコントローラ、28a,28b…バーストバッファ、29…ユーザインターフェイス、31…アドレス/コマンド発生回路、32…ステートマシン、33…レジスタ、34…CUI(Command User Interface)、35…アドレス/タイミング発生回路、41…アドレス遷移検知回路、42…イコライズタイマ制御回路、43…イコライズタイマ、44…レイテンシカウンタ、45…SRAMコア。

Claims (10)

  1. 第1のバンク数を有する第1のメモリと、
    前記第1のバンク数より多い第2のバンク数を有する第2のメモリと、
    前記第1、第2のメモリに設けられたビット線に対して行うプリチャージ動作を制御する制御回路とを具備し、
    前記制御回路は、クロックに同期して動作する同期動作を前記第1のメモリに対して行う際、アドレスを受け取った後、最初の第1プリチャージ動作の終了後から次の第2プリチャージ動作が開始されるまでの間に、前記第2プリチャージ動作を前記第1プリチャージ動作と異なる動作時間に切り替えることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 第1のバンク数を有する第1のメモリと、
    前記第1のバンク数より多い第2のバンク数を有する第2のメモリと、
    アドレスの切り替わりを検知し、検知信号を出力する検知回路と、
    前記アドレスにより設定されたレイテンシをカウントし、前記レイテンシのカウントが終了したとき、切り替え信号を出力するレイテンシカウンタと、
    前記検出信号に応じて前記第1のメモリに設けられたビット線に対して行うプリチャージ動作を制御すると共に、前記切り替え信号に応じて前記プリチャージ動作の動作時間を切り替える制御回路と、
    を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 前記制御回路は、クロックに同期して動作する同期動作を前記第1のメモリに対して行う際、前記アドレスを受け取った後、最初の第1プリチャージ動作の終了後から次の第2プリチャージ動作が開始されるまでの間に、前記第2プリチャージ動作を前記第1プリチャージ動作と異なる動作時間に切り替えることを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。
  4. 所定のレイテンシが経過したとき、前記アドレスをカウントするアドレスカウンタの起動を指示する起動信号を出力するレイテンシカウンタをさらに具備し、
    前記制御回路は、前記起動信号に応じて前記第2プリチャージ動作の動作時間を切り替えることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  5. 前記アドレスの切り替わりを検知し、検知信号を出力する検知回路をさらに具備し、
    前記制御回路は、前記検知信号に応じて前記第1,第2プリチャージ動作を停止させることを特徴とする請求項1または4に記載の半導体記憶装置。
  6. 前記第1,第2プリチャージ動作の動作時間を設定するための遅延情報を記憶した第3のメモリをさらに具備し、
    制御回路は、前記第3のメモリから読み出した前記遅延情報に基づいて、前記第1,第2プリチャージ動作の動作時間を設定することを特徴とする請求項1,3乃至5のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  7. 前記第1,第2プリチャージ動作は、前記第1のメモリに設けられたワード線の選択が切り替わる際、前記第1のメモリの前記ビット線をプリチャージ及びイコライズする動作であることを特徴とする請求項1,3乃至6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  8. 前記第1のメモリは1バンクで構成され、前記第2のメモリは2バンクで構成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  9. 前記第1,第2のメモリはバッファメモリとして機能し、前記第3のメモリはメインメモリとして機能することを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  10. 前記第1,第2のメモリはSRAMセルアレイで構成され、前記第3のメモリはNAND型フラッシュメモリで構成されていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載の半導体記憶装置。
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