JP2011000871A - 表面反応性支持体、それを用いた配線基板及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】HS-R1-SiX3-nYnで示されるアルコキシシリル基含有チオール化合物やアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の支持体表面に付着させてなる表面反応性支持体。該表面反応性支持体を、積層材として用いた配線基板。
【選択図】図1
Description
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の支持体表面に付着させてなる表面反応性支持体であり、
前記一般式(1)において、
前記R1は、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、又は−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−であり、
前記Xは、CH3−、C2H5−、n−C3H7−、i−C4H9−又はt−C4H9−であり、
前記Yは、CH3O−、C2H5O−、n−C3H7O−、i−C3H7O−、n−C4H9O−又はt−C4H9O−である該表面反応性支持体であり、
支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である該表面反応性支持体であり、
スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される該表面反応性支持体であり、
下記一般式(1):
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の表面に付着させる工程を含む表面反応性支持体の製造方法であり、
前記支持体表面に付着させる工程は、前記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶液に、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体を浸漬する工程を含む、該製造方法であり、
前記支持体表面に付着させる工程は、前記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶液を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体に噴霧する工程を含む、該製造方法であり、
支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である該製造方法であり、
スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される該製造方法であり、
前記溶液中のアルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上の濃度が0.0001g/l以上500g/l以下の範囲である該製造方法であり、
該表面反応性支持体を、積層材として用いた配線基板であり、
下記一般式(1):
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の表面に付着させる工程と、
前記支持体を積層して配線基板とする工程とを含む配線基板の製造方法であり、
支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である該配線基板の製造方法であり、
スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される該配線基板の製造方法である。
本実施形態において、次の表面処理剤を支持体の表面に付着させることにより、後述する表面反応性支持体を得ることができる。
HS-R1-SiX3-nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上からなる。
本実施形態において、表面反応性支持体は、下記一般式(1):
HS-R1-SiX3-nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体表面に付着させることにより形成される。
上記式(1)において、R1はアルキレン鎖である。
上記HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマーとは、その側鎖又は末端のアルキル基の一部が、無機物と反応するアルコシキ基、樹脂と反応する反応性有機基、樹脂との相溶化や濡れを改良する相溶性有機基に置換されている構造を有する。
本実施形態において、上記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上が付着され、反応性を付与される支持体は、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種である。
本実施形態に係る表面反応性支持体の製造方法は、
下記一般式(1):
HS-R1-SiX3-nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体表面に付着させる工程を含む。
上記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選択される1種以上を希釈して用いる場合には、溶剤が使用される。
本実施形態に係る配線基板は、
下記一般式(1):
HS-R1-SiX3-nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及びHS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体表面に付着させてなる表面反応性支持体を積層材として用いた配線基板である。
下記一般式(1):
HS-R1-SiX3-nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及びHS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体表面に付着させる工程と、
前記支持体を積層して配線基板とする工程とを含む配線基板の製造方法である。
上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールAのノボラック型等が挙げられる。
本発明の表面反応性支持体を接着させるのに適した物質としては、ソルダーレジストが挙げられる。ソルダーレジストとしては、効果が大きい点で、部分アクリル変性ノボラックエポキシ樹脂が好ましい。
(実施例1)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)0.196gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.196g/l)溶液を調製した。
10%硫酸処理済み銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したものを、上記溶液に2時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
実施例1と同様の溶液を調製した。
10%硫酸処理済み銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したものを、上記溶液に24時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)196gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1M(196g/l)溶液を調製した。
10%硫酸処理済み銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したものを、上記溶液に2時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)原液を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行い、溶液浸漬処理済銅箔を作製した。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
(実施例5)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)10gに対し、メチルエチルケトン100mlを加え、10%(100g/l)溶液を調製した。
これを100mlビーカー内に20ml充填し、10%硫酸処理済銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したもの10cm×10cmを張付けた密閉ガス置換ボックス内にて、エアーポンプにより大気バブリングを6時間実施した。
その後、銅箔をn−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、噴霧処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
実施例1同様に銅箔を調製し、各種被着体との接着に使用した。条件は表4に従った。銅箔については、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−802)0.180gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.180g/l)溶液を調製した。
10%硫酸処理済み銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したものを、上記溶液に24時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
1分子内にメルカプト基と加水分解性アルコキシ基を含有したアルコキシオリゴマー(信越化学工業社製 X−41−1805)1.00gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.100g/l)溶液を調製した。
10%硫酸処理済み銅箔に140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成したものを、上記溶液に24時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。この銅箔は、表面解析により、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在しないことが確認された。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)0.196gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.196g/l)溶液を調製した。
この溶液にAu箔を2時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済Au箔とした。
(比較例1)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製 KBM−803)0.196gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.196g/l)溶液を調製した。
この溶液に10%硫酸処理済み銅箔を2時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。
トリエチレングリコールジメルカプタン(丸善石油化学社製 DMDO)0.200gに対し、n−ヘキサン1000mlを加え、1mM(0.200g/l)溶液を調製した。これに140℃×10分間の加熱処理を施し、酸化被膜を形成した10%硫酸処理済み銅箔を2時間浸漬し、n−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、溶液浸漬処理済銅箔とした。
浸漬時間を24時間とした以外は、比較例2と同様にして浸漬処理銅箔を作製した。
(比較例4)
トリエチレングリコールジメルカプタン(丸善石油化学社製 DMDO)10gに対し、メチルエチルケトン100mlを加え、10%(100g/l)溶液を調製した。
これを100mlビーカー内に20ml充填し、10%硫酸処理済銅箔10cm×10cmを張付けた密閉ガス置換ボックス内にて、エアーポンプにより大気バブリングを6時間実施した。その後、銅箔をn−ヘキサンにて3回洗浄実施後、窒素ガス乾燥を行い、噴霧処理済銅箔とした。
比較例1同様に銅箔を調製し、各種被着体との接着に使用した。
上記方法により処理した金属箔は、フーリエ変換赤外分光法及びエネルギー分散型蛍光X線分析法により、その表面解析を実施した。
フーリエ変換赤外分光法及びエネルギー分散型蛍光X線分析法測定により、銅箔の表面解析を実施した結果によれば、フーリエ変換赤外分光スペクトルから、何れの表面処理済み銅箔においても表面処理成分帰属のピーク(KBM−803、DMDO)が検出されていることがわかる。
一方、エネルギー分散型蛍光X線チャートから、KBM−803処理済銅箔のSKa、SiKa、OKa帰属のピーク増大が検出されたのに対し、DMDO処理済銅箔表面から、SKa帰属のピークは極微小にしか検出されなかった。これより、KBM−803が銅箔への表面処理能力が高いことがわかる。
上記方法により処理した金属箔(100mm×10mm×0.1mmt)とガラス(100mm×25mm×2.5mmt)をソルダーレジスト(部分アクリル変性ノボラックエポキシ樹脂)又は光硬化型接着剤にて接着し、90°引張試験(引張速度は10mm/min)を実施することにより、ピール強度を算出した。
HAST(温度130℃、相対湿度90%)50時間後のピール強度も同様に測定した。HAST50時間後のピール強度測定後、被着体の破壊状態を観察した。凝集破壊が存在することが、界面への水分等の浸入が抑制されており、接着力が大きい点で、好ましい。界面破壊は存在する場合、水分等が界面に浸入し、箔とソルダーレジストの接着力を低下するので、好ましくない。
実施例1については、溶液浸漬処理法により、1mM(0.196g/l)KBM−803溶液処理を施した銅箔のフーリエ変換赤外分光スペクトルは、1088cm−1、2840cm-1(Si−O−C−結合)、及び2568cm−1(−SH結合)にKBM−803帰属の吸収ピークが観測されており、更にエネルギー分散型蛍光X線チャートでは、SKa、CKaに基づくピーク強度がそれぞれ2、2cpsから8、7cpsに増大し、更にSiKaに基づくピークが新規に10cpsの強度で発現した。
これに対して、溶液浸漬処理法により、DMDO処理を施した銅箔のフーリエ変換赤外分光スペクトルは、2568cm−1(−SH)にDMDO帰属の吸収ピークが観測されているが、エネルギー分散型蛍光X線チャートでは、SKaに基づくピークは2cpsから4cpsと微少な増大にとどまり、更にCKaに基づくピーク強度は2cpsから増大しなかった。
2 銅箔
3 プリプレグ
4 コア層
5 ビルドアッププリント配線板
6 ビルドアップ層
7 コア層
8 ソルダーレジスト層
9 半田バンプ
10 アンダーフィル材
11 シリコンチップ
Claims (14)
- 下記一般式(1):
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の支持体表面に付着させてなる表面反応性支持体。 - 前記一般式(1)において、
前記R1は、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、又は−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−であり、
前記Xは、CH3−、C2H5−、n−C3H7−、i−C4H9−又はt−C4H9−であり、
前記Yは、CH3O−、C2H5O−、n−C3H7O−、i−C3H7O−、n−C4H9O−又はt−C4H9O−である請求項1に記載の表面反応性支持体。 - 支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である請求項1又は2記載の表面反応性支持体。
- スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される請求項3に記載の表面反応性支持体。
- 下記一般式(1):
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の表面に付着させる工程を含む表面反応性支持体の製造方法。 - 前記支持体表面に付着させる工程は、前記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶液に、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体を浸漬する工程を含む、請求項5に記載の製造方法。
- 前記支持体表面に付着させる工程は、前記アルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶液を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)アルミニウム及び(4)高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体に噴霧する工程を含む、請求項5に記載の製造方法。
- 支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である請求項5〜7のうちの1項に記載の製造方法。
- スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される請求項8に記載の製造方法。
- 前記溶液中のアルコキシシリル基含有チオール化合物及びアルコキシオリゴマーからなる群から選ばれる1種以上の濃度が0.0001g/l以上500g/l以下の範囲である請求項5〜9のうちの1項に記載の製造方法。
- 請求項1〜4のうちの1項に記載の表面反応性支持体を、積層材として用いた配線基板。
- 下記一般式(1):
HS−R1−SiX3−nYn・・・(1)
[式中、R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]で表されるアルコキシシリル基含有チオール化合物、
及び
HS−R1−及び−Si−X3−nYnで表される構造を有するアルコキシオリゴマー[R1は、アルキレン鎖であり、Xはアルキル基であり、Yはアルコキシ基であり、nは、1から3までの整数を意味する]
からなる群から選ばれる1種以上を、(1)スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅、(2)金、(3)及び高分子材料から形成される少なくとも1種の支持体の表面に付着させる工程と、
前記支持体を積層して配線基板とする工程とを含む配線基板の製造方法。 - 支持体が、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体である請求項12に記載の配線基板の製造方法。
- スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、コバルト、インジウム、モリブデン、アルミニウム又はこれらの合金が表面に存在せず、かつ表面に酸化銅被膜が形成された銅から形成される支持体が、銅表面を100℃以上に加熱処理することにより形成される請求項13に記載の配線基板の製造方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6377123A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-07 | ブリューワー サイエンス インコーポレイテッド | 付着促進剤及び集積回路基板の処理方法 |
JPH02308595A (ja) * | 1989-05-23 | 1990-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | エポキシ樹脂多層銅張積層板 |
JP2006086212A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Fujitsu Ltd | 回路基板及びその製造方法 |
JP2008010718A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 配線部材およびプリント配線基板 |
JP2008041720A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Fujitsu Ltd | 回路基板およびその製造方法 |
JP2008041947A (ja) * | 2006-08-07 | 2008-02-21 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 配線部材の製造方法 |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6377123A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-07 | ブリューワー サイエンス インコーポレイテッド | 付着促進剤及び集積回路基板の処理方法 |
JPH02308595A (ja) * | 1989-05-23 | 1990-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | エポキシ樹脂多層銅張積層板 |
JP2006086212A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Fujitsu Ltd | 回路基板及びその製造方法 |
JP2008010718A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 配線部材およびプリント配線基板 |
JP2008041720A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Fujitsu Ltd | 回路基板およびその製造方法 |
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