JP2010540774A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. 光学膜又は光学アレイを製造する方法であって、
   ａ） 第１薄膜を基板上に形成するために、実質的に平行な細長チャネルに沿って一連のガス流を同時に方向付けする工程、ここで該一連のガス流は、順番に、少なくとも第１反応ガス材料と、不活性パージガスと、第２反応ガス材料とを含み、該第１反応ガス材料は、該第１薄膜を形成するために、該第２反応ガス材料で処理された基板表面と反応することができる；
   ｂ） 第１光学特性を有する第１膜層の第１厚を生成するように、工程ａ）を複数回繰り返す工程、ここで該方法は大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる；
   ｃ） 第２膜層を生成するように、工程ａ）及びｂ）を繰り返す工程
   を含み；
   そして、該方法が実質的に大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる、
   光学膜又は光学アレイを製造する方法。
2. 該堆積中の該基板の温度が２５０℃未満である、請求項１に記載の方法。
3. 光学膜又は光学アレイを製造する方法であって、
   ａ） 第１薄膜を基板上に形成するために、実質的に平行な細長チャネルに沿って一連のガス流を同時に方向付けする工程、ここで該一連のガス流は、順番に、少なくとも第１反応ガス混合物と、不活性パージガスと、第２反応ガス混合物とを含み、該第１反応ガス混合物は、該第１薄膜を形成するために、該第２反応ガス混合物で処理された基板表面と反応することができる；
   ｂ） 第３反応ガス混合物で、工程ａ）を繰り返す工程；
   ｃ） 第１光学特性を有する第１膜層の第１の厚みを生成するように、工程ａ）及びｂ）を複数回繰り返す工程
   を含み；
   そして該方法が大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる、
   光学膜又は光学アレイを製造する方法。