JP2010538147A5 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 19
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 9
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 7
- 230000003667 anti-reflective Effects 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid ethyl ester Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- -1 epoxy silane Chemical compound 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N fluoro prop-2-enoate Chemical compound FOC(=O)C=C ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- HDYFAPRLDWYIBU-UHFFFAOYSA-N [SiH3]C(=O)C=C Chemical compound [SiH3]C(=O)C=C HDYFAPRLDWYIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007777 multifunctional material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Description
実施例１〜６は、アクリルシラン表面処理剤とポリエーテル表面処理剤との組合せが、改善された反射特性をもたらし、様々な非フッ素化（メタ）アクリレート架橋剤におけるヘイズを減少させることを実証する。実施例１０は、ゾルゲル法に由来するナノ粒子の使用並びにエポキシシラン表面処理剤の実用性を実証する。実施例７〜１０は、低ヘイズと相まって良好な反射防止特性を示している。実施例１１〜１８は、フルオロアクリレートポリマーの溶液粘度が約８ｃｐｓ以上であるとき又はフルオロアクリレートポリマーの溶液粘度が２ｃｐｓ以下であるとき、乏しい反射防止特性、及び高いヘイズがもたらされ得るということを実証している。本発明の実施態様の一部を以下に列記する。
［１］
溶媒と、
１．５未満の屈折率及び低表面張力を有する低屈折率有機組成物と、
少なくとも１．６の屈折率を有する、少なくとも１５質量％の無機ナノ粒子と、
を含み、
前記無機ナノ粒子は、前記有機組成物の前記表面張力よりも大きい表面張力を有する表面処理剤で表面改質されている、自己組織化反射防止コーティング組成物。
［２］
前記表面処理剤は少なくとも５ダイン／ｃｍであり、前記低屈折率有機組成物よりも大きい表面張力を有する、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［３］
前記表面処理剤は有機金属化合物又はこれらの混合物を含み、前記化合物又は混合物は、表面張力が少なくとも２５ダイン／ｃｍである、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［４］
前記有機金属化合物又はこれらの混合物はフッ素化されていない、［３］に記載のＡＲコーティング組成物。
［５］
前記表面処理剤は、（メタ）アクリルシランとポリエーテルシラン又はエポキシシランとの混合物を含む、［４］に記載のＡＲコーティング組成物。
［６］
前記低屈折率有機組成物は、エチレン性不飽和フッ素化モノマー、オリゴマー、ポリマー又はこれらの混合物を含む、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［７］
前記低屈折率有機組成物はエチレン性不飽和フッ素化ポリマーを含む、［６］に記載のＡＲコーティング組成物。
［８］
前記フッ素化ポリマーはフルオロ（メタ）アクリレートポリマーである、［７］に記載のＡＲコーティング組成物。
［９］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、２２℃、エチルアセテート中１４．５質量％（固形分）溶液において約２ｃｐｓ〜約８ｃｐｓの範囲の溶液粘度を有する、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１０］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、前記乾燥させたコーティング組成物の少なくとも約１０質量％固形分の濃度で存在する、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１１］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、
ｉ）少なくとも約２５質量％のフッ素含有率を有する、少なくとも１種のフリーラジカル重合可能な多官能性物質と、
ｉｉ）任意に、０質量％〜２５質量％未満の範囲のフッ素含有率を有する、少なくとも１種のフリーラジカル重合可能な多官能性物質と、
の反応生成物を含み、
前記多官能性物質の総量が、固形分質量％を基準として少なくとも２５質量％である、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１２］
前記低屈折率有機組成物は、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する少なくとも１０質量％の非フッ素化架橋剤を更に含む、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１３］
前記溶媒は非フッ素化有機溶媒である、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１４］
［１］〜［１３］のいずれかに記載の前記コーティング組成物を提供する工程と、
前記組成物を基材又は剥離ライナーの上にコーティングする工程と、
前記コーティング組成物が低屈折率層と高屈折率層に分離するように、前記コーティングを乾燥させる工程と、
前記乾燥させたコーティング組成物を硬化させる工程と、
を含む、ＡＲフィルムの製造方法。
［１５］
前記乾燥させたコーティング組成物は紫外線への曝露により硬化される、［１４］に記載の方法。
［１６］
前記乾燥させ、硬化させたコーティングは、前記低屈折率層と高屈折率層との間の境界面を含む、［１４］に記載の方法。
［１７］
前記乾燥させ、硬化させた低屈折率層は、２０℃における表面張力が約３５ダイン／ｃｍ以下である、［１４］に記載の方法。
［１８］
前記乾燥させ、硬化させた低屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［１４］に記載の方法。
［１９］
前記高屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［１４］に記載の方法。
［２０］
架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記高屈折率層は、フッ素原子を約０．５原子質量％〜約５原子質量％の範囲の濃度で含む、反射防止フィルム。
［２１］
架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記低屈折率層は、少なくとも１．６の屈折率を有する前記表面改質無機ナノ粒子のランダムに分散した粒塊を含む、反射防止フィルム。
［２２］
前記高屈折率層は、約０．５原子質量％〜約５原子質量％の範囲の濃度でフッ素原子を含む、［２１］に記載のＡＲフィルム。
［２３］
前記ＡＲフィルムは、前記低屈折率層と高屈折率層との間に境界面を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２４］
前記表面改質ナノ粒子は、有機金属化合物又はこれらの混合物で表面処理されており、前記化合物又は混合物は、表面張力が少なくとも２５ダイン／ｃｍである、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２５］
前記有機金属化合物又はこれらの混合物はフッ素化されていない、［２４］に記載のＡＲフィルム。
［２６］
前記表面改質ナノ粒子は、（メタ）アクリルシランとポリエーテルシラン又はエポキシシランとを含む混合物で表面処理されている、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２７］
前記低屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２８］
前記低屈折率層は少なくとも１５％のフッ素原子濃度を有する、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２９］
前記高屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３０］
前記高屈折率層は、少なくとも１．６の屈折率を有する少なくとも２０質量％の前記表面改質無機ナノ粒子を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３１］
前記低屈折率層は、架橋フッ素化モノマー、オリゴマー、ポリマー又はこれらの混合物を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３２］
前記低屈折率層は架橋フッ素化ポリマーを含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３３］
前記フッ素化ポリマーはフルオロ（メタ）アクリレートポリマーである、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３４］
前記高屈折率金属は、ジルコニア、チタニア、及びこれらの混合物又は混合金属酸化物を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３５］
前記低屈折率層は１．４５未満の屈折率を有する、［２０］〜［３４］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３６］
前記高屈折率層は少なくとも１．５５の屈折率を有する、［２０］〜［３５］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３７］
前記高屈折率層の下に光透過性基材を更に含む、［２０］〜［３６］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３８］
前記高屈折率層の下に不透明な基材を更に含む、［２０］〜［３７］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３９］
前記フィルムは４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長に関して２．０以下の最小反射を示す、［２０］〜［３８］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４０］
前記フィルムは４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長に関して１．０以下の最小反射を示す、［３９］に記載のＡＲフィルム。
［４１］
前記フィルムは２％未満のヘイズを示す、［２０］〜［４０］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４２］
前記フィルムは１％未満のヘイズを示す、［４１］に記載のＡＲフィルム。
［４３］
前記ＡＲフィルムは、少なくとも２回交互した高屈折率層及び低屈折率層を含む多層ＡＲフィルムである、［２０］〜［４２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４４］
光透過性の又は不透明な物品の光学経路上に提供された、［２０］〜［４３］のいずれかのＡＲフィルムを含む物品。
［４５］
前記物品は、光学ディスプレイ、窓、レンズ、標識又は商業グラフィックから選択される、［４４］に記載の物品。
［１］
溶媒と、
１．５未満の屈折率及び低表面張力を有する低屈折率有機組成物と、
少なくとも１．６の屈折率を有する、少なくとも１５質量％の無機ナノ粒子と、
を含み、
前記無機ナノ粒子は、前記有機組成物の前記表面張力よりも大きい表面張力を有する表面処理剤で表面改質されている、自己組織化反射防止コーティング組成物。
［２］
前記表面処理剤は少なくとも５ダイン／ｃｍであり、前記低屈折率有機組成物よりも大きい表面張力を有する、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［３］
前記表面処理剤は有機金属化合物又はこれらの混合物を含み、前記化合物又は混合物は、表面張力が少なくとも２５ダイン／ｃｍである、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［４］
前記有機金属化合物又はこれらの混合物はフッ素化されていない、［３］に記載のＡＲコーティング組成物。
［５］
前記表面処理剤は、（メタ）アクリルシランとポリエーテルシラン又はエポキシシランとの混合物を含む、［４］に記載のＡＲコーティング組成物。
［６］
前記低屈折率有機組成物は、エチレン性不飽和フッ素化モノマー、オリゴマー、ポリマー又はこれらの混合物を含む、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［７］
前記低屈折率有機組成物はエチレン性不飽和フッ素化ポリマーを含む、［６］に記載のＡＲコーティング組成物。
［８］
前記フッ素化ポリマーはフルオロ（メタ）アクリレートポリマーである、［７］に記載のＡＲコーティング組成物。
［９］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、２２℃、エチルアセテート中１４．５質量％（固形分）溶液において約２ｃｐｓ〜約８ｃｐｓの範囲の溶液粘度を有する、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１０］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、前記乾燥させたコーティング組成物の少なくとも約１０質量％固形分の濃度で存在する、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１１］
前記フルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、
ｉ）少なくとも約２５質量％のフッ素含有率を有する、少なくとも１種のフリーラジカル重合可能な多官能性物質と、
ｉｉ）任意に、０質量％〜２５質量％未満の範囲のフッ素含有率を有する、少なくとも１種のフリーラジカル重合可能な多官能性物質と、
の反応生成物を含み、
前記多官能性物質の総量が、固形分質量％を基準として少なくとも２５質量％である、［８］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１２］
前記低屈折率有機組成物は、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する少なくとも１０質量％の非フッ素化架橋剤を更に含む、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１３］
前記溶媒は非フッ素化有機溶媒である、［１］に記載のＡＲコーティング組成物。
［１４］
［１］〜［１３］のいずれかに記載の前記コーティング組成物を提供する工程と、
前記組成物を基材又は剥離ライナーの上にコーティングする工程と、
前記コーティング組成物が低屈折率層と高屈折率層に分離するように、前記コーティングを乾燥させる工程と、
前記乾燥させたコーティング組成物を硬化させる工程と、
を含む、ＡＲフィルムの製造方法。
［１５］
前記乾燥させたコーティング組成物は紫外線への曝露により硬化される、［１４］に記載の方法。
［１６］
前記乾燥させ、硬化させたコーティングは、前記低屈折率層と高屈折率層との間の境界面を含む、［１４］に記載の方法。
［１７］
前記乾燥させ、硬化させた低屈折率層は、２０℃における表面張力が約３５ダイン／ｃｍ以下である、［１４］に記載の方法。
［１８］
前記乾燥させ、硬化させた低屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［１４］に記載の方法。
［１９］
前記高屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［１４］に記載の方法。
［２０］
架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記高屈折率層は、フッ素原子を約０．５原子質量％〜約５原子質量％の範囲の濃度で含む、反射防止フィルム。
［２１］
架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記低屈折率層は、少なくとも１．６の屈折率を有する前記表面改質無機ナノ粒子のランダムに分散した粒塊を含む、反射防止フィルム。
［２２］
前記高屈折率層は、約０．５原子質量％〜約５原子質量％の範囲の濃度でフッ素原子を含む、［２１］に記載のＡＲフィルム。
［２３］
前記ＡＲフィルムは、前記低屈折率層と高屈折率層との間に境界面を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２４］
前記表面改質ナノ粒子は、有機金属化合物又はこれらの混合物で表面処理されており、前記化合物又は混合物は、表面張力が少なくとも２５ダイン／ｃｍである、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２５］
前記有機金属化合物又はこれらの混合物はフッ素化されていない、［２４］に記載のＡＲフィルム。
［２６］
前記表面改質ナノ粒子は、（メタ）アクリルシランとポリエーテルシラン又はエポキシシランとを含む混合物で表面処理されている、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２７］
前記低屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２８］
前記低屈折率層は少なくとも１５％のフッ素原子濃度を有する、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［２９］
前記高屈折率層は、少なくとも２０ｎｍの厚さに関して、実質的に一定の屈折率である、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３０］
前記高屈折率層は、少なくとも１．６の屈折率を有する少なくとも２０質量％の前記表面改質無機ナノ粒子を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３１］
前記低屈折率層は、架橋フッ素化モノマー、オリゴマー、ポリマー又はこれらの混合物を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３２］
前記低屈折率層は架橋フッ素化ポリマーを含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３３］
前記フッ素化ポリマーはフルオロ（メタ）アクリレートポリマーである、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３４］
前記高屈折率金属は、ジルコニア、チタニア、及びこれらの混合物又は混合金属酸化物を含む、［２０］〜［２２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３５］
前記低屈折率層は１．４５未満の屈折率を有する、［２０］〜［３４］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３６］
前記高屈折率層は少なくとも１．５５の屈折率を有する、［２０］〜［３５］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３７］
前記高屈折率層の下に光透過性基材を更に含む、［２０］〜［３６］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３８］
前記高屈折率層の下に不透明な基材を更に含む、［２０］〜［３７］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［３９］
前記フィルムは４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長に関して２．０以下の最小反射を示す、［２０］〜［３８］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４０］
前記フィルムは４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長に関して１．０以下の最小反射を示す、［３９］に記載のＡＲフィルム。
［４１］
前記フィルムは２％未満のヘイズを示す、［２０］〜［４０］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４２］
前記フィルムは１％未満のヘイズを示す、［４１］に記載のＡＲフィルム。
［４３］
前記ＡＲフィルムは、少なくとも２回交互した高屈折率層及び低屈折率層を含む多層ＡＲフィルムである、［２０］〜［４２］のいずれかに記載のＡＲフィルム。
［４４］
光透過性の又は不透明な物品の光学経路上に提供された、［２０］〜［４３］のいずれかのＡＲフィルムを含む物品。
［４５］
前記物品は、光学ディスプレイ、窓、レンズ、標識又は商業グラフィックから選択される、［４４］に記載の物品。
Claims (3)
- 溶媒と、
１．５未満の屈折率及び低表面張力を有する低屈折率有機組成物と、
少なくとも１．６の屈折率を有する、少なくとも１５質量％の無機ナノ粒子と、
を含み、
前記無機ナノ粒子は、前記有機組成物の前記表面張力よりも大きい表面張力を有する表面処理剤で表面改質されている、自己組織化反射防止コーティング組成物。 - 架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記高屈折率層は、フッ素原子を約０．５原子質量％〜約５原子質量％の範囲の濃度で含む、反射防止フィルム。 - 架橋されたフッ素化有機材料を含む低屈折率層と、
架橋された有機材料中に分散した、少なくとも１．６の屈折率を有する表面改質無機ナノ粒子を含む、高屈折率層と、
を含み、
前記低屈折率層は、少なくとも１．６の屈折率を有する前記表面改質無機ナノ粒子のランダムに分散した粒塊を含む、反射防止フィルム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US97054107P | 2007-09-07 | 2007-09-07 | |
| PCT/US2008/074988 WO2009035874A1 (en) | 2007-09-07 | 2008-09-02 | Self-assembling antireflective coating comprising surface modified high refractive index nanoparticles |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010538147A JP2010538147A (ja) | 2010-12-09 |
| JP2010538147A5 true JP2010538147A5 (ja) | 2011-09-29 |
Family
ID=40014981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010524107A Pending JP2010538147A (ja) | 2007-09-07 | 2008-09-02 | 表面改質高屈折率ナノ粒子を含む自己組織化反射防止コーティング |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8202573B2 (ja) |
| EP (1) | EP2193174A1 (ja) |
| JP (1) | JP2010538147A (ja) |
| KR (1) | KR20100080788A (ja) |
| CN (1) | CN101796146B (ja) |
| WO (1) | WO2009035874A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2215171B1 (en) * | 2007-11-29 | 2013-07-03 | LG Chem, Ltd. | Coating composition and coating film having enhanced abrasion resistance and fingerprint traces removability |
| US9096712B2 (en) | 2009-07-21 | 2015-08-04 | 3M Innovative Properties Company | Curable compositions, method of coating a phototool, and coated phototool |
| US9051423B2 (en) | 2009-09-16 | 2015-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coating and phototools made therewith |
| WO2012005542A2 (ko) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 |
| KR20140002704A (ko) * | 2010-12-22 | 2014-01-08 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 전사 필름 및 그의 제조방법 및 적층체 및 그의 제조방법 |
| KR20140015443A (ko) * | 2011-03-09 | 2014-02-06 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 입자 크기가 큰 건식 실리카를 포함하는 반사 방지 필름 |
| US9272947B2 (en) * | 2011-05-02 | 2016-03-01 | Corning Incorporated | Glass article having antireflective layer and method of making |
| US8568958B2 (en) * | 2011-06-21 | 2013-10-29 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Underlayer composition and process thereof |
| WO2013031799A1 (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
| BR112014018980A8 (pt) * | 2012-02-01 | 2017-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Materiais nanoestruturados e métodos para a produção dos mesmos |
| CN102759761B (zh) * | 2012-07-17 | 2014-10-08 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种高遮盖高辉度的光学薄膜及包括该光学薄膜的显示器件 |
| FR3009302B1 (fr) * | 2013-08-05 | 2018-01-12 | Saint-Gobain Glass France | Substrat portant un revetement fonctionnel et une couche de protection temporaire |
| CN105916675B (zh) | 2013-12-19 | 2019-02-19 | 3M创新有限公司 | 多层复合材料制品 |
| WO2015200003A1 (en) | 2014-06-23 | 2015-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Silicon-containing polymer and method of making a silicon-containing polymer |
| JP2016097594A (ja) | 2014-11-21 | 2016-05-30 | マツダ株式会社 | 積層塗膜及び塗装物 |
| US9499698B2 (en) | 2015-02-11 | 2016-11-22 | Az Electronic Materials (Luxembourg)S.A.R.L. | Metal hardmask composition and processes for forming fine patterns on semiconductor substrates |
| JP2018507952A (ja) * | 2015-03-18 | 2018-03-22 | コエルクス・エッセ・エッレ・エッレＣｏｅＬｕｘ Ｓ．ｒ．ｌ． | マトリクスと散乱要素とを含む複合材料、その製造方法及び使用 |
| CN104845484B (zh) * | 2015-04-29 | 2017-03-08 | 广德嘉宝莉化工有限公司 | 一种高机械性能防水工程机械涂料 |
| JP6688875B2 (ja) * | 2016-03-14 | 2020-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法 |
| HUP1600384A1 (hu) * | 2016-06-15 | 2018-01-29 | Hungaro Lux Light Kft | Antireflexiós bevonat |
| WO2019048393A1 (en) | 2017-09-06 | 2019-03-14 | AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. | AN INORGANIC OXIDE-CONTAINING VINYL DEPOSITION COMPOSITION USEFUL AS HARD MASKS AND FILLING MATERIALS HAVING ENHANCED THERMAL STABILITY |
| WO2019111207A1 (en) | 2017-12-08 | 2019-06-13 | 3M Innovative Properties Company | Flexible hardcoat |
| CN111801390B (zh) * | 2018-03-30 | 2022-07-05 | 日挥触媒化成株式会社 | 膜形成用的涂布液及带膜基材的制造方法 |
| KR102522013B1 (ko) | 2018-04-04 | 2023-04-14 | 삼성전자주식회사 | 고분자 및 무기입자를 포함하는 조성물, 폴리이미드-무기입자 복합체, 상기 복합체를 포함하는 성형품, 및 상기 성형품을 포함하는 광학 장치 |
| KR102032316B1 (ko) * | 2018-07-09 | 2019-10-15 | 에스케이씨 주식회사 | 광학 다층 필름, 이를 포함하는 광학 부품 및 표시장치 |
| CN111440382B (zh) * | 2020-04-14 | 2022-11-25 | 江苏源源山富数码喷绘科技有限公司 | 一种冷裱膜用柔性pp颗粒及其制备方法 |
| WO2021216518A1 (en) * | 2020-04-21 | 2021-10-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Retroreflective coating compositions, coatings formed therefrom, and methods of forming such coatings |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06211945A (ja) | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Nissin High Voltage Co Ltd | ハードコートシートとその製造方法 |
| US6589650B1 (en) | 2000-08-07 | 2003-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Microscope cover slip materials |
| DE19829172A1 (de) | 1998-06-30 | 2000-01-05 | Univ Konstanz | Verfahren zur Herstellung von Antireflexschichten |
| JP3897938B2 (ja) | 1998-10-22 | 2007-03-28 | 宇部日東化成株式会社 | 有機−無機複合傾斜材料、その製造方法及びその用途 |
| JP3760669B2 (ja) | 1999-04-22 | 2006-03-29 | 株式会社Ｎｈｖコーポレーション | ハードコートシートとその製造方法 |
| WO2002077116A1 (fr) | 2001-03-21 | 2002-10-03 | Daikin Industries, Ltd. | Agent de traitement de surface comprenant une matiere composite inorganique/organique |
| CN1300261C (zh) * | 2001-03-30 | 2007-02-14 | Dsmip财产有限公司 | 可固化的组合物,其固化产品以及层压材料 |
| WO2003102500A1 (fr) | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Olympus Corporation | Procede d'obtention de coordonnees 3 d |
| CN101257980A (zh) | 2002-09-19 | 2008-09-03 | 力特光电科技股份有限公司 | 表面活性纳米颗粒的防眩和抗反射涂层 |
| EP1418448A1 (en) | 2002-11-06 | 2004-05-12 | Koninklijke DSM N.V. | Preparation of a mechanically durable single layer coating with anti-reflective properties |
| JP3960307B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2007-08-15 | Ｊｓｒ株式会社 | 液状樹脂組成物、硬化膜及び積層体 |
| JP2005148376A (ja) * | 2003-11-14 | 2005-06-09 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 膜及び反射防止膜 |
| KR20070003944A (ko) * | 2004-03-18 | 2007-01-05 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 적층체의 제조 방법 |
| WO2006030721A1 (en) | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
| JP5075333B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
| US7615283B2 (en) | 2006-06-13 | 2009-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
| US20070286994A1 (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-13 | Walker Christopher B | Durable antireflective film |
| US20100291364A1 (en) | 2007-12-19 | 2010-11-18 | E.I. Dupont Nemours And Company | Bilayer anti-reflective films containing nanoparticles in both layers |
-
2008
- 2008-09-02 US US12/670,124 patent/US8202573B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-02 JP JP2010524107A patent/JP2010538147A/ja active Pending
- 2008-09-02 KR KR1020107007453A patent/KR20100080788A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-09-02 WO PCT/US2008/074988 patent/WO2009035874A1/en active Application Filing
- 2008-09-02 CN CN2008801058962A patent/CN101796146B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-02 EP EP08799058A patent/EP2193174A1/en not_active Withdrawn
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