JP2010533882A5 - - Google Patents
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- 物体視野(2)と像視野(4)の間のビーム経路に結像光(6)を誘導するための少なくとも2つの光学有効面(M1からM6)を有する、少なくとも1.5の、視野の短手寸法(y)と視野の長手寸法(x)にわたる視野アスペクト比(x/y)を有する物体平面(3)内の該物体視野(2)を像平面(5)内の該像視野(4)に結像するための投影対物系(1)であって、
投影対物系(1)の光学有効面(M1からM6)、並びに投影対物系(1)の物体視野(2)及び投影対物系(1)の像視野(4)が、縦寸法(z2)及び互いに垂直な2つの横寸法(x2、y2)にわたる直方体エンベロープ(11)を有する設置空間を占有し、 前記直方体エンベロープ(11)の前記縦寸法(z2)は、物体平面(3)と像平面(4)の間の投影対物系(1)の長さによって決定され、
前記物体視野(2)の前記短手寸法(y1)に対して平行に延びる前記直方体エンベロープ(11)の前記横寸法(y2)は、該物体視野(2)の前記長手寸法(x1)よりも短く、
前記直方体エンベロープ(11)は、前記投影対物系(1)の実際の光学有効面、すなわち使用ビームに対して実際にさらされる面の全体を、その中に空間的に入れることができる最小の可能な直方体設置空間を表す、
ことを特徴とする投影対物系。 - 物体視野(2)と像視野(4)の間のビーム経路に結像光(6)を誘導するための少なくとも2つの光学有効面(M1からM6)を有する、少なくとも1.5の、視野の短手寸法(y)と視野の長手寸法(x)にわたる視野アスペクト比(x/y)を有する物体平面(3)内の該物体視野(2)を像平面(5)の該像視野(4)内に結像するための投影対物系(1)であって、
折り返しミラーのない投影対物系(1)の実施形態では物体視野(2)及び像視野(4)を含む投影対物系(1)の光学有効面(M1からM6)が、縦寸法(z2)及び互いに垂直な2つの横寸法(x2、y2)にわたる直方体エンベロープ(11)を有する設置空間を占有し、
前記直方体エンベロープ(11)の前記2つの横寸法の一方(x2)は、該2つの横寸法の他方(y2)よりも少なくとも1.1の横寸法アスペクト比(x2/y2)だけ長く、
前記直方体エンベロープ(11)は、前記投影対物系(1)の実際の光学有効面、すなわち使用ビームに対して実際にさらされる面の全体を、その中に空間的に入れることができる最小の可能な直方体設置空間を表す、
ことを特徴とする投影対物系。 - 前記光学有効面(M1からM6)のうちの少なくとも1つは、回転対称性を持たない自由形状曲面として具現化されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影対物系。
- 1.5又はそれよりも大きく、好ましくは2又はそれよりも大きく、好ましくは2.5又はそれよりも大きく、更に好ましくは3又はそれよりも大きく、更に好ましくは3.5又はそれよりも大きく、更に好ましくは4又はそれよりも大きい横寸法アスペクト比(x2/y2)を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記物体視野(2)及び前記像視野(4)は、矩形であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 2又はそれよりも大きく、好ましくは5又はそれよりも大きく、更に好ましくは10又はそれよりも大きく、更に好ましくは25又はそれよりも大きく、更に好ましくは40又はそれよりも大きく、更に好ましくは50又はそれよりも大きく、更に好ましくは60又はそれよりも大きい視野アスペクト比を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記像平面(5)は、該像平面(5)に平行な前記物体平面(3)から距離を置いて配置されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(1)が、反射方式で具現化されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(1)が、偶数個のミラー(M1からM6)を有することを特徴とする請求項8に記載の投影対物系。
- 投影対物系(1)が、6個のミラー(M1からM6)を有することを特徴とする請求項9に記載の投影対物系。
- 1という像縮尺を有し、かつ前記物体平面と前記像平面の間の中心に位置決めされた平面に対して鏡面対称方式で具現化されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(1)が、ゼロ以外の物体像シフト(dOIS)を有することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 物体側でテレセントリックであることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 像側でテレセントリックであることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の投影対物系。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007033967A DE102007033967A1 (de) | 2007-07-19 | 2007-07-19 | Projektionsobjektiv |
PCT/EP2008/005569 WO2009010213A1 (de) | 2007-07-19 | 2008-07-09 | Projektionsobjektiv |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010533882A JP2010533882A (ja) | 2010-10-28 |
JP2010533882A5 true JP2010533882A5 (ja) | 2011-09-01 |
Family
ID=39709467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010516403A Pending JP2010533882A (ja) | 2007-07-19 | 2008-07-09 | 投影対物系 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100134880A1 (ja) |
JP (1) | JP2010533882A (ja) |
CN (1) | CN101755231B (ja) |
DE (1) | DE102007033967A1 (ja) |
WO (1) | WO2009010213A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009030501A1 (de) * | 2009-06-24 | 2011-01-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
EP2633364B1 (en) * | 2010-10-25 | 2023-09-06 | Nikon Corporation | Apparatus, optical assembly, method for inspection or measurement of an object and method for manufacturing a structure |
DE102010063618A1 (de) * | 2010-12-21 | 2012-06-21 | Robert Bosch Gmbh | Abbildungssystem und Fischaugenobjektiv |
CN103676489B (zh) * | 2012-09-14 | 2015-09-30 | 上海微电子装备有限公司 | 一种反射式物镜结构及其制造方法 |
CN103198307B (zh) * | 2013-04-24 | 2016-01-13 | 北京东方金指科技有限公司 | 指纹采集仪 |
KR20180014740A (ko) | 2015-05-28 | 2018-02-09 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 대물 필드를 이미지 필드 내로 이미징하기 위한 이미징 광학 유닛, 및 이러한 이미징 광학 유닛을 포함하는 투영 노광 장치 |
JP6836213B2 (ja) * | 2019-02-06 | 2021-02-24 | セイコーエプソン株式会社 | 投射光学装置およびプロジェクター |
DE102021205774A1 (de) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3748015A (en) | 1971-06-21 | 1973-07-24 | Perkin Elmer Corp | Unit power imaging catoptric anastigmat |
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CN100483174C (zh) * | 2004-05-17 | 2009-04-29 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 具有中间图像的反射折射投影物镜 |
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CN103076723A (zh) * | 2005-09-13 | 2013-05-01 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 微光刻投影光学系统 |
JP5479890B2 (ja) * | 2006-04-07 | 2014-04-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影光学システム、装置、及び製造方法 |
-
2007
- 2007-07-19 DE DE102007033967A patent/DE102007033967A1/de not_active Ceased
-
2008
- 2008-07-09 JP JP2010516403A patent/JP2010533882A/ja active Pending
- 2008-07-09 WO PCT/EP2008/005569 patent/WO2009010213A1/de active Application Filing
- 2008-07-09 CN CN2008800252787A patent/CN101755231B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-14 US US12/687,325 patent/US20100134880A1/en not_active Abandoned
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