JP2010533012A5

JP2010533012A5 -

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Publication number: JP2010533012A5
Application number: JP2010515495A
Authority: JP
Filing date: 2008-07-08
Publication date: 2011-08-11
Anticipated expiration: 2028-07-08

Claims

表面を有する骨組織内への埋め込みのための、該表面が酸化物層によって被覆されているインプラントであって、酸化物層がストロンチウムイオンを含むことを特徴とするインプラント。
インプラントが金属インプラントである、請求項１に記載のインプラント。
金属インプラントがチタン又はチタンの合金を含む、請求項２に記載のインプラント。
インプラントが非金属インプラントであって、該表面が塗布された金属インプラント層である、請求項１に記載のインプラント。
金属インプラント層がチタン又はチタンの合金を含む、請求項４に記載のインプラント
。
酸化物層が２から１００ｎｍの範囲内の厚みを有する、請求項１〜５の何れか１項に記載のインプラント。
酸化物層が２から１８ｎｍの範囲内の厚みを有する、請求項６に記載のインプラント。
酸化物層が２から６ｎｍの範囲内の厚みを有する、請求項６又は７に記載のインプラント。
酸化物層が、インプラントの表面から形成される金属酸化物層である、請求項１〜８の何れか１項に記載のインプラント。
酸化物層の上面に更に沈着物を含み、ここで該沈着物が骨刺激剤を含む、請求項１〜９の何れか１項に記載のインプラント。
骨刺激剤が、ストロンチウム、リチウム、マグネシウム及びカルシウム又はその組合せから成るグループから選ばれる、請求項１０に記載のインプラント。
沈着物が、ストロンチウム、リチウム、マグネシウム及びカルシウムから選ばれるイオンの任意の１つ又は組合せを含む塩析沈殿である、請求項１０又は１１に記載のインプラント。
塩析沈殿がストロンチウム塩析沈殿である、請求項１２に記載のインプラント。
インプラントが、リン酸カルシウム化合物を含む被覆を有しない、請求項１〜１３の何れか１項に記載のインプラント。
インプラントの表面がミクロ粗さを含む、請求項１〜１４の何れか１項に記載のインプラント。
インプラントの表面がフッ素を含む、請求項１〜１５の何れか１項に記載のインプラント。
ストロンチウムイオンを含む酸化物層によって被覆されたインプラント表面を有する骨組織インプラントの製造方法であって、以下の工程：
ａ）インプラント表面を有するインプラントを備えること；
ｂ）該インプラント表面を被覆する酸化物層を形成すること；
ｃ）該酸化物層上に負に荷電したイオンを形成すること；及び
ｄ）該酸化物層をストロンチウムイオンと接触させること；
を含む方法。
酸化物層が自然に形成される、請求項１７に記載の方法。
酸化物層上の負に荷電したイオンが、インプラント表面をアルカリ性環境に晒すことによって形成される、請求項１７又は１８に記載の方法。
アルカリ性環境が、インプラント表面をアルカリ性溶液に晒すことによって形成される、請求項１９に記載の方法。
酸化物層上の負に荷電したイオンが、−０.５Ｖから−３.５Ｖの範囲内の電位を印加することによって形成される、請求項１７〜１９の何れか１項に記載の方法。
工程ｃ及び工程ｄが同時に行われる、請求項１７〜２１の何れか１項に記載の方法。
酸化物層を、ストロンチウムイオンを含む溶液に晒すことによって、該酸化物層がストロンチウムイオンと接触する、請求項１７〜２２の何れか１項に記載の方法。
溶液が水酸化ストロンチウムを含む、請求項２３に記載の方法。
溶液が０.０３Ｍ又はそれ以下の濃度で水酸化ストロンチウムを含む、請求項２４に記載の方法。
酸化物層の上面に骨刺激剤を含む沈着物を形成する工程を更に含む、請求項１７〜２５の何れか１項に記載の方法。
骨刺激剤が、ストロンチウム、リチウム、カルシウム及びマグネシウム、又はその組合せから成るグループから選ばれる、請求項２６に記載の方法。
沈着物が、ストロンチウム、リチウム、カルシウム及びマグネシウムから選ばれるイオンの任意の１つ又は組合せを含む塩を、酸化物層の上に沈殿させることによって形成される、請求項２６又は２７に記載の方法。
塩が水酸化ストロンチウムである、請求項２８に記載の方法。
沈着物が−３.５Ｖより負の電位を印加することによって形成される、請求項２８又は２９に記載の方法。
インプラント表面を、０.０３Ｍより高い濃度で水酸化ストロンチウムを含むアルカリ性溶液に晒すことによって、沈着物が形成される、請求項２９又は３０に記載の方法。
工程ａ）の後で、インプラントの表面上にミクロ粗さを作出する工程を更に含む、請求項１７〜３１の何れか１項に記載の方法。
インプラントの該表面にフッ素を塗布する工程を更に含む、請求項１７〜３２の何れか１項に記載の方法。
金属酸化物を含むブラスチング粉末であって、該金属酸化物がストロンチウムイオンを含むブラスチング粉末。
金属酸化物が二酸化チタンである、請求項３４に記載のブラスチング粉末。
金属酸化物が酸化ストロンチウムである、請求項３４に記載のブラスチング粉末。
ストロンチウムイオン又はその塩、及び薬学的に許容可能な担体を含む組成物を投与が必要なヒトに投与することによって骨形成を局所的に増大させる方法。
埋め込み部位で、骨組織における空洞中に、インプラントが置かれる前に、同時に及び／又は後で、該埋め込み部位で骨組織内にインプラントを埋め込む際に、該埋め込み部位で該組成物が投与される、請求項３７に記載の方法。
骨形成を局所的に増大させるための薬学的組成物を製造するためのストロンチウムイオン又はその塩の使用。
埋め込み部位で、骨組織内にインプラントを埋め込む際に、該埋め込み部位で組成物が局所的に投与される、請求項３９に記載の使用。
インプラントを含む骨組織内へのインプラントの埋め込みのためのキットであって、該キットが、ストロンチウムイオン又はその塩、及び薬学的に許容可能な担体を含む組成物を更に含むことを特徴とするキット。