JP2010524226A - 発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
20 保護素子領域
110 基板
112 バッファー層
120 第1導電型半導体層
130 活性層
140 第2導電型半導体層
150 バリア層
152 第3導電型半導体層
160 絶縁層
170 オーミック電極層
180 第2電極層
190 第1電極層
Claims (20)
- 第1導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成される第1領域及び第2領域を含む第2導電型半導体層と、
前記第2導電型半導体層の第2領域上に形成された第3導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層と前記第2領域の前記第2導電型半導体層を電気的に連結する第1電極層と、
前記第2導電型半導体層と前記第3導電型半導体層を電気的に連結する第2電極層と、
を含むことを特徴とする発光素子。 - 前記第2領域の第2導電型半導体層と第1領域の第2導電型半導体層を電気的に分離する絶縁層を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記第2導電型半導体層及び前記第3導電型半導体層上に形成されるオーミック電極層を含み、
前記オーミック電極層は前記第2電極層と電気的に連結されたことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。 - 前記第2導電型半導体層と前記オーミック電極層の間に形成されたバリア層を含むことを特徴とする請求項3に記載の発光素子。
- 前記バリア層は第1導電型の不純物が注入された半導体層であることを特徴とする請求項4に記載の発光素子。
- 前記第2領域の前記第2導電型半導体層と前記第3導電型半導体層を含んで構成される保護素子を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記絶縁層は、一部が前記第1導電型半導体層に囲まれて形成されることを特徴とする請求項2に記載の発光素子。
- 基板と、
前記基板の第1領域上に第1導電型半導体層、活性層及び第2導電型半導体層を含むLED領域と、
前記基板の第2領域上に第2導電型半導体層及び第3導電型半導体層を含む保護素子領域と、
を含むことを特徴とする発光素子。 - 前記LED領域と保護素子領域を区分する絶縁層を含むことを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 前記LED領域と保護素子領域は同一基板上に形成されていることを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 前記基板と前記LED領域の間、及び前記基板と前記保護素子領域の間に形成されたバッファー層を含み、
前記LED領域と保護素子領域は同一バッファー層上に形成されていることを特徴とする請求項8に記載の発光素子。 - 前記保護素子領域は前記LED領域の第1導電型半導体層上に形成されていることを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 前記LED領域の第1導電型半導体層と前記保護素子領域の第2導電型半導体層に電気的に連結する第1電極層と、前記LED領域の第2導電型半導体層と前記保護素子領域の第3導電型半導体層に電気的に連結する第2電極層を含むことを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 前記LED領域の第2導電型半導体層上に形成されたバリア層を含むことを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 前記第1及び第3導電型半導体層はN型半導体層であり、前記第2導電型半導体層はP型半導体層であることを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
- 第1導電型半導体層、活性層、第2導電型半導体層を形成する段階と、
前記第2導電型半導体層の少なくとも一部分の上に第3導電型半導体層を形成する段階と、
前記第1導電型半導体層、活性層、第2導電型半導体層を選択的にエッチングして絶縁層を形成し、前記第1導電型半導体層、活性層、第2導電型半導体層を含む第1領域と、前記第2導電型半導体層、第3導電型半導体層を含む第2領域に区分する段階と、
を含むことを特徴とする発光素子の製造方法。 - 前記第1導電型半導体層と前記第2領域の第2導電型半導体層を電気的に連結する段階と、前記第1領域の第2導電型半導体層と前記第3導電型半導体層を電気的に連結する段階と、を含むことを特徴とする請求項16に記載の発光素子の製造方法。
- 前記エッチング工程は、前記第2導電型半導体層上に形成された第3導電型半導体層の一部をエッチングすることを含むことを特徴とする請求項16に記載の発光素子の製造方法。
- 前記絶縁層は前記第1導電型半導体層、活性層、第2導電型半導体層と接触することを特徴とする請求項16に記載の発光素子の製造方法。
- 前記第1導電型半導体層、活性層、第2導電型半導体層を形成する段階は、同一基板上で行われることを特徴とする請求項16に記載の発光素子の製造方法。
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