JP2010523704A5

JP2010523704A5 -

Info

Publication number: JP2010523704A5
Application number: JP2010503225A
Authority: JP
Filing date: 2008-04-11
Publication date: 2011-05-26

Description

塩化水素処理反応器系（１２／１６）に、ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素および触媒（１５）を含む混合物（１３）とともに、不純なＨＣｌの気体供給原料（１１）が供給される。同様に、触媒は流れ（１３）の一部として供給されてもよい。好ましくは、ＨＣｌ気体供給原料は、液体界面より下の、より好ましくは反応器の底の近くの、撹拌機の高さの近くの、または充填塔もしくは棚段塔の場合には、充填物もしくは棚支持分配板の近くのもしくはそれより下の点で、反応器系に入る。この反応器系（１４）からの液体流出液は、それが出てくる塩化水素処理反応器の条件においてＨＣｌで飽和している。反応器（１２）中の液体の反応媒体の撹拌は、外部モーターによって駆動される撹拌機によって、または噴射撹拌またはエアリフト型反応器でのように、反応器の中に気体流れ（１１）を噴射することによって、撹拌することによって遂行することができる。気体供給原料が反応器の中を上昇するときに、それは（反応器セクション１６において）反応物を含む液体の向流流れに出会い、その液体は蒸気流れと接触し、その平衡含有量まで反応物ＨＣｌを吸収する。それが上昇するにつれて、蒸気流れは次第により少なく飽和した吸収剤反応性液体媒体に出会い、そして反応器の吸収セクションの一番上では、流れ（１８）中のＨＣｌ含有量は、反応器セクション１２からセクション１６に上昇したときの含有量から実質的に減らされている。吸収性液体（１９）は、新しい吸収性液体、たとえば溶媒、生成物クロロヒドリン、または新しいＭＡＨＣ、または新しいＭＡＨＣと触媒の混合物、または他の化合物とともにＭＡＨＣおよび触媒を含む再循環流れのいずれであってもよい。
上記の装置の構成要素が腐蝕性物質にさらされる範囲において、そのような構成要素は、好ましくは、プロセス成分による腐食に耐性の材料で製作される。カーク＝オスマー化学技術百科事典（Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology）、第２版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley and Sons）、１９６６年、第１１巻、ｐ．３２３−３２７は、塩酸および塩化水素の設備に使用することができる金属および非金属の耐食性について広範囲な詳解を提供している。適した材料の特定の例は国際公開第２００６／０２０２３４号に開示されている。特定の例としては、タンタルのような金属、適した金属合金（特にＨａｓｔａｌｌｏｙＣのようなニッケル・モリブデン合金）またはガラスで内張りされた装置が挙げられる。

本発明は、次の態様を含む。
［１］ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルおよび／またはモノクロロヒドリンおよび／またはそのエステルの１種以上を含む液相反応混合物を、少なくとも１種の塩素化剤および塩化水素処理条件下で最も低い沸点を有するクロロヒドリン生成物の沸点よりも低い沸点を有する少なくとも１種の不純物を含む少なくとも１つの塩素化剤供給原料流れと、反応容器の中で、塩化水素処理条件下で接触させる工程を含むクロロヒドリンを製造する方法であって、
（ｃ）液相反応混合物は、塩化水素処理条件下で最も低い沸点を有するクロロヒドリン生成物の沸点より低くかつ前記少なくとも１種の不純物の沸点より高い温度に維持され、そして
（ｄ）前記少なくとも１種の不純物を含む蒸気相ガス抜き流れが、液相反応混合物から取り除かれることを特徴とする方法。
［２］前記の接触させる工程が、水、１種以上の触媒および／または１種以上の重質副生成物の存在下に行われることを特徴とする［１］に記載の方法。
［３］前記少なくとも１種の不純物が、塩化水素処理条件下で反応混合物と反応しない１種以上の蒸気を含むことを特徴とする［１］または［２］に記載の方法。
［４］塩素化剤供給原料流れが、クロロヒドリン以外の物質の製造の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１つに記載の方法。
［５］塩素化剤供給原料流れは、ホスゲンが反応物の１つである化学反応の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［６］塩素化剤供給原料流れが、トルエンジイソシアナート、メチレンジ（フェニルイソシアナート）および／または重合したメチレンジ（フェニルイソシアナート）の製造の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれか１つに記載の方法。
［７］塩素化剤供給原料流れは、エチレンまたはプロピレンが反応物の１つである化学反応または一連の化学反応の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［８］塩素化剤供給原料流れが、１，３−ジクロロプロペンと塩化アリルの同時製造の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］および［７］のいずれか１つに記載の方法。
［９］塩素化剤供給原料流れが、塩化エチレンが反応物の１つである化学反応の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［１０］塩素化剤供給原料流れが、塩化ビニルの製造の副生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［１１］塩素化剤供給原料流れは、塩素化炭化水素と水素の反応生成物を含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［１２］前記少なくとも１種の不純物が、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、ホスゲン、塩素化された有機化合物、水素、塩素、水、アミン、アンモニア、メタノール、脂肪族炭化水素化合物、もしくはオレフィン炭化水素化合物、またはそれらの組合わせを含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１つに記載の方法。
［１３］塩素化源が塩化水素であることを特徴とする［１］〜［１２］のいずれか１つに記載の方法。
［１４］反応工程が、クロロヒドリン、クロロヒドリンのエステルまたはそれらの混合物を生成させるために、ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素、ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素のエステルまたはそれらの混合物を、超大気圧分圧の塩化水素源と、触媒の存在下に接触させることによって起こり、該接触させる工程が実質的に水を除去しないで行なわれることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれか１つに記載の方法。
［１５］反応工程および吸収工程への供給原料流れの１つ以上は、ＨＣｌの分圧が大気圧を超えることを特徴とする［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の方法。
［１６］塩素化剤供給原料流れが、クロロヒドリンまたは塩化水素処理条件下でクロロヒドリンを生成するために用いられる反応物と反応しない不純物を含有することを特徴とする［１］〜［１５］のいずれか１つに記載の方法。
［１７］塩素化剤供給原料流れが、蒸気相で反応混合物の中に導入されることを特徴とする［１］〜［１６］のいずれか１つに記載の方法。
［１８］塩素化剤が塩化水素を含むことを特徴とする［１］〜［１７］のいずれか１つに記載の方法。
［１９］反応容器の中に導入される塩素化剤の分圧が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の分圧より高いことを特徴とする［１７］または［１８］に記載の方法。
［２０］反応容器の中に導入される塩素化剤の供給流量が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の流量よりも１％超大きいことを特徴とする［１］〜［１９］のいずれか１つに記載の方法。
［２１］反応容器の中に導入される塩素化剤の供給流量が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の流量の４倍を超えることを特徴とする［１］〜［２０］のいずれか１つに記載の方法。
［２２］反応容器の中に導入される塩素化剤の供給流量が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の流量の１０倍を超えることを特徴とする［１］〜［２１］のいずれか１つに記載の方法。
［２３］（ｃ）蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を除去するために、蒸気相ガス抜き流れが、塩素化剤を吸収するまたは塩素化剤と反応することができる液体の気体洗浄剤と接触させられる、または
（ｃ′）塩素化剤供給原料流れから塩素化剤を除去するために、塩素化剤供給原料流れが、塩素化剤を吸収するまたは塩素化剤と反応することができる液体の気体洗浄剤と接触させられる
ことを特徴とする［１］〜［２２］のいずれか１つに記載の方法。
［２４］工程（ｃ）の気体洗浄剤が溶媒を含むことを特徴とする［２３］に記載の方法。
［２５］溶媒が、少なくとも１種のアルコール、ハロゲン化液体、エーテル、もしくは飽和炭化水素、またはそれらの混合物を含むことを特徴とする［２４］に記載の方法。
［２６］気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れからの塩素化剤と反応して、クロロヒドリンを形成することができることを特徴とする［２３］〜［２５］のいずれか１つに記載の方法。
［２７］気体洗浄剤が少なくとも１種のポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルを含むことを特徴とする［２６］に記載の方法。
［２８］気体洗浄剤が少なくとも１種のモノクロロヒドリンまたはそのエステルを含むことを特徴とする［２６］または［２７］に記載の方法。
［２９］気体洗浄剤が、反応混合物に含有された、少なくとも１種のポリヒドロキシ脂肪族炭化水素および／またはモノクロロヒドリン、および／またはそれらのエステルを含むことを特徴とする［２６］〜［２８］のいずれか１つに記載の方法。
［３０］反応混合物が反応容器から取り出され、反応混合物中の塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかが１つ以上の単位操作で反応混合物から取り除かれ、反応混合物中の塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかが１つ以上の単位操作で反応混合物から取り除かれ、そして塩素化剤およびジクロロヒドリンの一部が取り除かれた反応混合物の残りが気体洗浄剤として使用されることを特徴とする［２３］〜［２９］のいずれか１つに記載の方法。
［３１］液体の気体洗浄剤が少なくとも１種の触媒またはそのエステルを含むことを特徴とする［２３］〜［３０］のいずれか１つに記載の方法。
［３２］気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れまたは塩素化剤供給原料流れに対して向流方向に流れる供給原料流れとして導入されることを特徴とする［２３］〜［３１］のいずれか１つに記載の方法。
［３３］前記接触が反応蒸留によって行なわれることを特徴とする［２３］〜［３２］のいずれか１つに記載の方法。
［３４］反応容器が、連続撹拌槽型反応器、管型反応器、円筒型反応器、気泡塔反応器、充填塔、段塔、噴霧塔、ベンチュリー抽出器、熱交換器、流下薄膜接触装置またはそれらの任意の組合わせであることを特徴とする［１］〜［３３］のいずれか１つに記載の方法。
［３５］（ｄ）気体洗浄剤の少なくとも一部が、工程（ｃ）または（ｃ′）の後に、塩化水素処理反応の中に導入される
ことを特徴とする［２３］〜［３４］のいずれか１つに記載の方法。
［３６］反応容器が蒸気相ガス抜き流れの源であり、そして気液接触装置からの塩素化された液体の気体洗浄剤流出液の少なくとも一部が、工程（ｃ）の気液接触装置のための蒸気相ガス抜き流れの源である反応容器の中に導入されることを特徴とする［３５］に記載の方法。
［３７］蒸気相ガス抜き流れの源が連続撹拌槽型反応器であることを特徴とする［３５］または［３６］に記載の方法。
［３８］蒸気相ガス抜き流れの源が気泡塔反応器であることを特徴とする［１］〜［３７］のいずれか１つに記載の方法。
［３９］蒸気相ガス抜き流れの源が棚段式蒸留塔反応器であることを特徴とする［１］〜［３８］のいずれか１つに記載の方法。
［４０］蒸気相ガス抜き流れの源が、前記少なくとも１つの反応器の下流にあるフラッシュ室であることを特徴とする［１］〜［３９］のいずれか１つに記載の方法。
［４１］気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れの源である反応容器に接続された少なくとも１つの下流の反応容器の中に導入されることを特徴とする［２３］〜［４０］のいずれか１つに記載の方法。
［４２］前記少なくとも１つの下流の反応容器が、栓流滞留時間特性を有する少なくとも１つの反応器を含むことを特徴とする［４１］に記載の方法。
［４３］ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物がグリセリンを含み、モノクロロヒドリンが３−クロロ−１，２−プロパンジオールおよび／または２−クロロ−１，３−プロパンジオールを含み、そしてジクロロヒドリンが１，３−ジクロロ−２−プロパノールおよび／または２，３−ジクロロ−１−プロパノールを含むことを特徴とする［１］〜［４２］のいずれか１つに記載の方法。
［４４］該方法の複数の工程が少なくとも１時間同時にかつ連続的に行なわれることを特徴とする［１］〜［４３］のいずれか１つに記載の方法。
［４５］（１）少なくともポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルおよび／またはクロロヒドリンおよび／またはそのエステルを含む液体反応混合物の中に、少なくとも１種の塩素化剤を含む塩素化剤供給原料流れを導入するのに適した少なくとも１つの反応器、および
（２）少なくとも１つの反応器へ再循環するために塩素化剤を回収するための少なくとも１つの気液接触装置
を含むクロロヒドリンを製造する装置であって、
少なくとも１つの反応器（１）は、反応器（１）内の蒸気相から不純物を取り除くための少なくとも１つのガス抜きを有し、
前記少なくとも１つの接触装置（２）は、塩素化剤と結合したまたは反応した液体の気体洗浄剤を含む流れを前記少なくとも１つの反応器へ導くために、少なくとも１つの反応器に接続され、そして
少なくとも１つのガス抜きは、前記少なくとも１つの反応器（１）から、蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を取り除くために蒸気相ガス抜き流れを気体洗浄剤と接触するための少なくとも１つの接触装置（２）に、蒸気相ガス抜き流れを導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続され、および／または
少なくとも１つの反応器（１）は、塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を反応混合物の中に導入するために、少なくとも１つの接触装置（２）から少なくとも１つの反応器（１）に塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続されている
ことを特徴とする装置。
［４６］少なくとも１つの反応器（１）からの液体反応混合物流出液流れを少なくとも１つの分離容器（３）に導くために少なくとも１つの反応器（１）に接続された、未反応のおよび部分的に反応した反応物から塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかを分離するための少なくとも１つの分離容器（３）をさらに含む、［４５］に記載の装置。
［４７］少なくとも１つの分離容器（３）は、蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を取り除くための液体の気体洗浄剤として使用するために、少なくとも１つの分離容器（３）から塩素化剤およびジクロロヒドリンを分離した後の液体の残りの少なくとも一部を含む流れを少なくとも１つの接触装置（２）に導くために、接触装置（２）に接続されていることを特徴とする［４６］に記載の装置。
［４８］接触装置（２）が気体洗浄塔を含むことを特徴とする［４５］〜［４７］のいずれか１つに記載の装置。
［４９］接触装置が流下薄膜吸収装置を含むことを特徴とする［４５］〜［４８］のいずれか１つに記載の装置。
［５０］接触装置が、流下薄膜吸収装置、熱交換器もしくは気体洗浄塔、またはそれらの任意の組合わせを含むことを特徴とする［４５］〜［４９］のいずれか１つに記載の装置。
［５１］接触装置（２）が、液体の気体洗浄剤をガス抜きからの蒸気相ガス抜き流れと向流方式で接触させるように構成されていることを特徴とする［４５］〜［５０］のいずれか１つに記載の装置。
［５２］接触装置（２）が接触装置（２）から熱を取り除くように構成されていることを特徴とする［４５］〜［５１］のいずれか１つに記載の装置。
［５３］少なくとも１つの反応器（１）が連続撹拌槽型反応器を含むことを特徴とする［４５］〜［５２］のいずれか１つに記載の装置。
［５４］少なくとも１つの反応器（１）が気泡塔反応器を含むことを特徴とする［４５］〜［５３］のいずれか１つに記載の装置。
［５５］少なくとも１つの反応器（１）が棚段式蒸留塔反応器を含むことを特徴とする［４５］〜［５４］のいずれか１つに記載の装置。
［５６］少なくとも１つの反応器（１）は、第１の反応器から第２の反応器に反応器流出液を導くために第２の反応器に接続された第１の反応器を含むことを特徴とする［４５］〜［５５］のいずれか１つに記載の装置。
［５７］第１の反応器のガス抜きは、第１の反応器からの蒸気相ガス抜き流れを少なくとも１つの接触装置（２）に導くために、接触装置（２）に接続され、そして接触装置（２）は、塩素化剤および／または塩素化された化合物と結合したまたは反応した気体洗浄剤を含む流れを第２の反応器へ導くために、第２の反応器に接続されていることを特徴とする［５６］に記載の装置。
［５８］第１の反応器が連続撹拌槽型反応器であることを特徴とする［５６］または［５７］に記載の装置。
［５９］第２の反応器が栓流滞留時間特性を有する反応器であることを特徴とする［５６］〜［５８］のいずれか１つに記載の装置。
［６０］接触装置（２）が、液体の気体洗浄剤を冷却するように、および／またはガス抜きからの蒸気相ガス抜き流れを冷却するように構成された冷却装置を含むことを特徴とする［４５］〜［５９］のいずれか１つに記載の装置。
［６１］気液接触装置は液体の気体洗浄剤を塩素化するための不純物を含む塩素化剤供給原料流れに接続され、そして少なくとも１つの反応器（１）は、塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を反応混合物の中に導入するために、少なくとも１つの接触装置（２）からの塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を少なくとも１つの反応器（１）に導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続されていることを特徴とする［４５］〜［６０］のいずれか１つに記載の装置。

Claims

ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルおよび／またはモノクロロヒドリンおよび／またはそのエステルの１種以上を含む液相反応混合物を、少なくとも１種の塩素化剤および塩化水素処理条件下で最も低い沸点を有するクロロヒドリン生成物の沸点よりも低い沸点を有する少なくとも１種の不純物を含む少なくとも１つの塩素化剤供給原料流れと、反応容器の中で、塩化水素処理条件下で接触させる工程を含むクロロヒドリンを製造する方法であって、
（ｃ）液相反応混合物は、塩化水素処理条件下で最も低い沸点を有するクロロヒドリン生成物の沸点より低くかつ前記少なくとも１種の不純物の沸点より高い温度に維持され、そして
（ｄ）前記少なくとも１種の不純物を含む蒸気相ガス抜き流れが、液相反応混合物から取り除かれることを特徴とする方法。
前記の接触させる工程が、水、１種以上の触媒および／または１種以上の重質副生成物の存在下に行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１種の不純物が、塩化水素処理条件下で反応混合物と反応しない１種以上の蒸気を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
塩素化剤供給原料流れが、（ｉ）クロロヒドリン以外の物質の製造の副生成物、（ｉｉ）ホスゲンが反応物の１つである化学反応の副生成物、（ｉｉｉ）トルエンジイソシアナート、メチレンジ（フェニルイソシアナート）および／または重合したメチレンジ（フェニルイソシアナート）の製造の副生成物、（ｖｉ）エチレンまたはプロピレンが反応物の１つである化学反応または一連の化学反応の副生成物、（ｖ）１，３−ジクロロプロペンと塩化アリルの同時製造の副生成物、（ｖｉ）塩化エチレンが反応物の１つである化学反応の副生成物、（ｖｉｉ）塩化ビニルの製造の副生成物、または（ｖｉｉｉ）塩素化炭化水素と水素の反応生成物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
前記少なくとも１種の不純物が、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、ホスゲン、塩素化された有機化合物、水素、塩素、水、アミン、アンモニア、メタノール、脂肪族炭化水素化合物、もしくはオレフィン炭化水素化合物、またはそれらの組合わせを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
反応工程が、クロロヒドリン、クロロヒドリンのエステルまたはそれらの混合物を生成させるために、ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素、ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素のエステルまたはそれらの混合物を、超大気圧分圧の塩化水素源と、触媒の存在下に接触させることによって起こり、該接触させる工程が実質的に水を除去しないで行なわれることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
塩素化剤供給原料流れが、蒸気相で反応混合物の中に導入されること、そして反応容器の中に導入される塩素化剤の分圧が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の分圧より高いことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
反応容器の中に導入される塩素化剤の供給流量が、蒸気相ガス抜き流れ中の塩素化剤の流量よりも１％超大きいことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
（ｃ）蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を除去するために、蒸気相ガス抜き流れが、塩素化剤を吸収するまたは塩素化剤と反応することができる液体の気体洗浄剤と接触させられる、または
（ｃ′）塩素化剤供給原料流れから塩素化剤を除去するために、塩素化剤供給原料流れが、塩素化剤を吸収するまたは塩素化剤と反応することができる液体の気体洗浄剤と接触させられる
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
工程（ｃ）の気体洗浄剤が溶媒を含むこと、そして溶媒が、少なくとも１種のアルコール、ハロゲン化液体、エーテル、もしくは飽和炭化水素、またはそれらの混合物を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れからの塩素化剤と反応して、クロロヒドリンを形成することができることを特徴とする請求項９または１０に記載の方法。
（ｉ）気体洗浄剤が少なくとも１種のポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルを含むこと、（ｉｉ）気体洗浄剤が少なくとも１種のモノクロロヒドリンまたはそのエステルを含むこと、または（ｉｉｉ）気体洗浄剤が、反応混合物に含有された、少なくとも１種のポリヒドロキシ脂肪族炭化水素および／またはモノクロロヒドリン、および／またはそれらのエステルを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
反応混合物が反応容器から取り出され、反応混合物中の塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかが１つ以上の単位操作で反応混合物から取り除かれ、反応混合物中の塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかが１つ以上の単位操作で反応混合物から取り除かれ、そして塩素化剤およびジクロロヒドリンの一部が取り除かれた反応混合物の残りが気体洗浄剤として使用されることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
液体の気体洗浄剤が少なくとも１種の触媒またはそのエステルを含むことを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法。
気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れまたは塩素化剤供給原料流れに対して向流方向に流れる供給原料流れとして導入されることを特徴とする請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
（ｄ）気体洗浄剤の少なくとも一部が、工程（ｃ）または（ｃ′）の後に、塩化水素処理反応の中に導入される
ことを特徴とする請求項９〜１５のいずれか１項に記載の方法。
反応容器が蒸気相ガス抜き流れの源であり、そして気液接触装置からの塩素化された液体の気体洗浄剤流出液の少なくとも一部が、工程（ｃ）の気液接触装置のための蒸気相ガス抜き流れの源である反応容器の中に導入されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
（ｉ）蒸気相ガス抜き流れの源が連続撹拌槽型反応器である、（ｉｉ）蒸気相ガス抜き流れの源が気泡塔反応器である、（ｉｉｉ）蒸気相ガス抜き流れの源が棚段式蒸留塔反応器である、または（ｉｖ）蒸気相ガス抜き流れの源が、前記少なくとも１つの反応器の下流にあるフラッシュ室であることを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
気体洗浄剤が、蒸気相ガス抜き流れの源である反応容器に接続された少なくとも１つの下流の反応容器の中に導入されること、そして前記少なくとも１つの下流の反応容器が、栓流滞留時間特性を有する少なくとも１つの反応器を含むことを特徴とする請求項９〜１８のいずれか１項に記載の方法。
ポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物がグリセリンを含み、モノクロロヒドリンが３−クロロ−１，２−プロパンジオールおよび／または２−クロロ−１，３−プロパンジオールを含み、そしてジクロロヒドリンが１，３−ジクロロ−２−プロパノールおよび／または２，３−ジクロロ−１−プロパノールを含むことを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法。
（１）少なくともポリヒドロキシ脂肪族炭化水素化合物および／またはそのエステルおよび／またはクロロヒドリンおよび／またはそのエステルを含む液体反応混合物の中に、少なくとも１種の塩素化剤を含む塩素化剤供給原料流れを導入するのに適した少なくとも１つの反応器、および
（２）少なくとも１つの反応器へ再循環するために塩素化剤を回収するための少なくとも１つの気液接触装置
を含むクロロヒドリンを製造する装置であって、
少なくとも１つの反応器（１）は、反応器（１）内の蒸気相から不純物を取り除くための少なくとも１つのガス抜きを有し、
前記少なくとも１つの接触装置（２）は、塩素化剤と結合したまたは反応した液体の気体洗浄剤を含む流れを前記少なくとも１つの反応器へ導くために、少なくとも１つの反応器に接続され、そして
少なくとも１つのガス抜きは、前記少なくとも１つの反応器（１）から、蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を取り除くために蒸気相ガス抜き流れを気体洗浄剤と接触するための少なくとも１つの接触装置（２）に、蒸気相ガス抜き流れを導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続され、および／または
少なくとも１つの反応器（１）は、塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を反応混合物の中に導入するために、少なくとも１つの接触装置（２）から少なくとも１つの反応器（１）に塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続されている
ことを特徴とする装置。
少なくとも１つの反応器（１）からの液体反応混合物流出液流れを少なくとも１つの分離容器（３）に導くために少なくとも１つの反応器（１）に接続された、未反応のおよび部分的に反応した反応物から塩素化剤およびジクロロヒドリンの少なくともいくらかを分離するための少なくとも１つの分離容器（３）をさらに含む、請求項２１に記載の装置。
少なくとも１つの分離容器（３）は、蒸気相ガス抜き流れから塩素化剤を取り除くための液体の気体洗浄剤として使用するために、少なくとも１つの分離容器（３）から塩素化剤およびジクロロヒドリンを分離した後の液体の残りの少なくとも一部を含む流れを少なくとも１つの接触装置（２）に導くために、接触装置（２）に接続されていることを特徴とする請求項２２に記載の装置。
接触装置が、流下薄膜吸収装置、熱交換器もしくは気体洗浄塔、またはそれらの任意の組合わせを含むことを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の装置。
接触装置（２）が、液体の気体洗浄剤をガス抜きからの蒸気相ガス抜き流れと向流方式で接触させるように構成されていること、そして接触装置（２）が接触装置（２）から熱を取り除くように構成されていることを特徴とする請求項２１〜２４のいずれか１項に記載の装置。
少なくとも１つの反応器（１）が、（ｉ）連続撹拌槽型反応器、（ｉｉ）気泡塔反応器、または（ｉｉｉ）棚段式蒸留塔反応器を含むことを特徴とする請求項２１〜２５のいずれか１項に記載の装置。
少なくとも１つの反応器（１）は、第１の反応器から第２の反応器に反応器流出液を導くために第２の反応器に接続された第１の反応器を含むこと、そして第１の反応器のガス抜きは、第１の反応器からの蒸気相ガス抜き流れを少なくとも１つの接触装置（２）に導くために、接触装置（２）に接続され、そして接触装置（２）は、塩素化剤および／または塩素化された化合物と結合したまたは反応した気体洗浄剤を含む流れを第２の反応器へ導くために、第２の反応器に接続されていることを特徴とする請求項２１〜２６のいずれか１項に記載の装置。
第１の反応器が連続撹拌槽型反応器であること、そして第２の反応器が栓流滞留時間特性を有する反応器であることを特徴とする請求項２７に記載の装置。
接触装置（２）が、液体の気体洗浄剤を冷却するように、および／またはガス抜きからの蒸気相ガス抜き流れを冷却するように構成された冷却装置を含むことを特徴とする請求項２１〜２８のいずれか１項に記載の装置。
気液接触装置は液体の気体洗浄剤を塩素化するための不純物を含む塩素化剤供給原料流れに接続され、そして少なくとも１つの反応器（１）は、塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を反応混合物の中に導入するために、少なくとも１つの接触装置（２）からの塩素化された液体の気体洗浄剤流出液を少なくとも１つの反応器（１）に導くために、少なくとも１つの接触装置（２）に接続されていることを特徴とする請求項２１〜２９のいずれか１項に記載の装置。