JP2010516055A - 半導体ナノ構造体、半導体デバイス及びそれらを形成する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 長手方向軸に沿って配列される複数の部分を含む半導体構造体が提供される。好ましくは、半導体構造体は、中間区域と、中間区域の対向する端部に配置された2つの末端区域とを含む。第1のドーパント濃度を有する半導体コアは、好ましくは、中間区域及び2つの末端区域を貫通して長手方向軸に沿って延びる。第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルは、好ましくは、半導体構造体の2つの末端区域で半導体コアの一部を取り囲むが、中間区域では取り囲まない。半導体構造体が100nmを超えない断面寸法を有するナノ構造体であることが、特に好ましい。
【選択図】 図1
Description
長手方向軸を有する半導体構造体を形成するステップであって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルもまた、長手方向軸に沿って延び、かつ半導体コアを取り囲む、ステップと
半導体構造体の少なくとも1つの区域から半導体シェルの一部を選択的に除去するステップであって、半導体シェルの残りの部分が、半導体構造体の他の区域で半導体コアの一部を取り囲むが、この少なくとも1つの区域では取り囲まないようにする、ステップと
を含む方法に関する。
半導体構造体の他の区域を選択的に覆うが、少なくとも1つの区域は覆わないようにパターン付けされたマスク層を形成するステップであって、選択的に除去される半導体シェルの一部は、半導体構造体の少なくとも1つの区域で露出される、ステップと、
半導体シェルの露出された部分を酸化させるステップであって、半導体構造体の少なくとも1つの区域で半導体酸化物を形成する、ステップと、
半導体酸化物を選択的にエッチングするステップと、
任意に、酸化ステップ及び選択的エッチングのステップを、半導体シェルの露出された部分が完全に除去されて、その下の半導体コアの部分が半導体構造体の少なくとも1つの区域で露出されるまで繰り返すステップと
によって選択的に除去される。
半導体構造体の長手方向軸に沿った中間区域と中間区域の対向する端部に配置された2つの末端区域とを含む半導体構造体であって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは、半導体構造体の中間区域及び2つの末端区域を貫通して長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルは、半導体構造体の2つの末端区域で半導体コアの一部を取り囲むが、中間区域では取り囲まない、半導体構造体と、
半導体構造体の2つの末端区域のうちの一方に配置されるソースと、半導体構造体の中間区域に配置されるチャネルと、半導体構造体の2つの末端区域のうちの他方に配置されるドレインと、半導体構造体の中間区域の半導体コアの一部の上にあるゲート構造体とを含む電界効果トランジスタ(FET)と
を含む半導体デバイスに関する。
長手方向軸を有する半導体構造体を形成するステップであって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルもまた、長手方向軸に沿って延び、かつ半導体コアを取り囲む、ステップと、
半導体構造体の中間区域から半導体シェルの一部を選択的に除去するステップであって、半導体シェルの残りの部分は、半導体構造体の中間区域の対向する端部にある2つの末端区域で半導体コアの一部を取り囲むが、中間区域では取り囲まないようにされる、ステップと、
半導体構造体から電界効果トランジスタ(FET)を形成するステップであって、FETは、半導体構造体の2つの末端区域のうちの一方に配置されるソースと、半導体構造体の中間区域に配置されるチャネルと、半導体構造体の2つの末端区域のうちの他方に配置されるドレインと、半導体構造体の中間区域の半導体コアの一部の上にあるゲート構造体とを含む、ステップと
を含む、半導体デバイスを形成するための方法に関する。
半導体構造体の中間区域の半導体コアの一部の上にゲート誘電体層を形成するステップと、
半導体構造体の中間区域でゲート誘電体層の上にゲート導体層を形成するステップであって、ゲート誘電体層及びゲート導体層によって覆われた半導体構造体の中間区域の半導体コアの一部は、FETのチャネルを形成し、半導体構造体の中間区域の一方の端部に配置された2つの末端区域のうちの一方は、FETのソースを形成し、半導体構造体の中間区域の他方の対向する端部に配置された2つの末端区域のうちの他方は、FETのドレインを形成する、ステップと
によって形成される。
20:半導体ナノ構造体
20C:半導体コア
20S:半導体シェル
22:中間区域
24、26:末端区域
40:電界効果トランジスタ(FET)
40S:ソース
40C:チャネル
40D:ドレイン
40G:ゲート導体層
42:ゲート誘電体層
44S、44D:金属シリサイド層
46S、46D:金属コンタクト
102:パターン付けされた誘電体ハードマスク層
104:ゲート導体材料
106:パターン付けされたフォトレジスト層
108:金属層
Claims (27)
- 半導体構造体であって、前記半導体構造体の長手方向軸に沿って配列された複数の区域を含み、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは、前記半導体構造体の前記複数の区域を貫通して前記長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルは、前記半導体構造体の1つ又は複数であるが全部ではない前記区域で前記半導体コアの一部を取り囲む、半導体構造体。
- 中間区域と、前記中間区域の対向する端部に配置された2つの末端区域とを含む半導体構造体であって、前記半導体コアは、前記半導体構造体の前記中間区域及び前記2つの末端区域を貫通して延び、前記半導体シェルは、前記半導体構造体の2つの末端区域で前記半導体コアの一部を取り囲むが、前記中間区域では取り囲まない、請求項1に記載の半導体構造体。
- 100nmを超えない断面寸法を有するナノ構造体である、請求項1に記載の半導体構造体。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方が同じ半導体材料を含む、請求項1に記載の半導体構造体。
- 前記半導体コアは非ドープであり、前記半導体シェルはn型ドーパントでドープされる、請求項4に記載の半導体構造体。
- 前記半導体コアは非ドープであり、前記半導体シェルはp型ドーパントでドープされる、請求項4に記載の半導体構造体。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方がn型ドーパントでドープされ、前記第1のドーパント濃度は、1011から1017原子/cm3までの範囲であり、前記第2の、より高いドーパント濃度は、1017から1021原子/cm3までの範囲である、請求項4に記載の半導体構造体。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方がp型ドーパントでドープされ、前記第1のドーパント濃度は、1011から1017原子/cm3までの範囲であり、第2の、より高いドーパント濃度は、1017から1021原子/cm3までの範囲である、請求項4に記載の半導体構造体。
- 長手方向軸を有する半導体構造体を形成するステップであって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは前記長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルもまた、前記長手方向の軸に沿って延び、かつ前記半導体コアを取り囲む、ステップと、
前記半導体構造体の少なくとも1つの区域から前記半導体シェルの一部を選択的に除去するステップであって、前記半導体シェルの残りの部分は、前記半導体構造体の他の区域で前記半導体コアの一部を取り囲むが、前記少なくとも1つの区域では取り囲まないようにされる、ステップと
を含む方法。 - 前記半導体シェルの一部は、
前記半導体構造体の前記他の区域を選択的に覆うが、前記少なくとも1つの区域は覆わないようにパターン付けされたマスク層を形成するステップであって、選択的に除去される前記半導体シェルの一部は、前記半導体構造体の前記少なくとも1つの区域で露出される、ステップと、
前記半導体シェルの前記露出された部分を酸化させるステップであって、前記半導体構造体の前記少なくとも1つの区域で半導体酸化物を形成する、ステップと、
前記半導体酸化物を選択的にエッチングするステップと、
任意に、前記酸化ステップ及び前記選択的エッチングのステップを、前記半導体シェルの前記露出された部分が完全に除去されて、その下の前記半導体コアの部分が前記半導体構造体の前記少なくとも1つの区域で露出されるまで繰り返すステップと
によって選択的に除去される、請求項9に記載の方法。 - 前記半導体シェルの一部は、前記半導体構造体の中間区域から除去され、前記半導体シェルの前記残りの部分は、前記半導体構造体の前記中間区域の対向する端部の2つの末端区域で前記半導体コアの一部を取り囲むが、前記中間区域では取り囲まないようにされる、請求項9に記載の方法。
- 前記半導体構造体は、100nmを超えない断面寸法を有するナノ構造体である、請求項9に記載の方法。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方が同じ半導体材料を含む、請求項9に記載の方法。
- 前記半導体コアは非ドープであり、前記半導体シェルはn型ドーパントでドープされる、請求項13に記載の方法。
- 前記半導体コアは非ドープであり、前記半導体シェルはp型ドーパントでドープされる、請求項13に記載の方法。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方がn型ドーパントでドープされ、前記第1のドーパント濃度は、1011から1017原子/cm3までの範囲であり、前記第2の、より高いドーパント濃度は、1017から1021原子/cm3までの範囲である、請求項13に記載の方法。
- 前記半導体コア及び前記半導体シェルの両方がp型ドーパントでドープされ、前記第1のドーパント濃度は、1011から1017原子/cm3までの範囲であり、前記第2の、より高いドーパント濃度は、約1017から約1021原子/cm3までの範囲である、請求項13に記載の方法。
- 半導体デバイスであって、
その長手方向軸に沿った中間区域と前記中間区域の対向する端部に配置された2つの末端区域とを含む半導体構造体であって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは、前記半導体構造体の前記中間区域及び前記2つの末端区域を貫通して長手方向軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルは、前記半導体構造体の前記2つの末端区域で前記半導体コアの一部を取り囲むが、前記中間区域では取り囲まない、半導体構造体と、
前記半導体構造体の前記2つの末端区域のうちの一方に配置されるソースと、前記半導体構造体の前記中間区域に配置されるチャネルと、前記半導体構造体の前記2つの末端区域のうちの他方に配置されるドレインと、前記半導体構造体の前記中間区域の前記半導体コアの一部の上にあるゲート構造体とを含む電界効果トランジスタ(FET)と
を含む、半導体デバイス。 - 前記ゲート構造体は、ゲート誘電体層及びゲート導体層を含む、請求項18に記載の半導体デバイス。
- 前記FETの前記ソース及び前記ドレインの上に配置される金属コンタクトをさらに含む、請求項18に記載の半導体デバイス。
- 前記金属コンタクトと前記FETの前記ソース及び前記ドレインとの間に金属シリサイド層をさらに含む、請求項18に記載の半導体デバイス。
- 半導体デバイスを形成するための方法であって、
長手方向軸を有する半導体構造体を形成するステップであって、第1のドーパント濃度を有する半導体コアは前記長手方向の軸に沿って延び、第2の、より高いドーパント濃度を有する半導体シェルもまた、前記長手方向軸に沿って延び、かつ前記半導体コアを取り囲む、ステップと、
前記半導体構造体の中間区域から前記半導体シェルの一部を選択的に除去するステップであって、前記半導体シェルの残りの部分は、前記半導体構造体の前記中間区域の対向する端部にある2つの末端区域で前記半導体コアの一部を取り囲むが、前記中間区域では取り囲まないようにされる、ステップと、
前記半導体構造体から電界効果トランジスタ(FET)を形成するステップであって、前記FETは、前記半導体構造体の前記2つの末端区域のうちの一方に配置されるソースと、前記半導体構造体の前記中間区域に配置されるチャネルと、前記半導体構造体の前記2つの末端区域のうちの他方に配置されるドレインと、前記半導体構造体の前記中間区域で前記半導体コアの一部の上にあるゲート構造体とを含む、ステップと
を含む、半導体デバイスを形成するための方法。 - 前記半導体シェルの一部は、
前記半導体構造体の前記2つの末端区域を選択的に覆うが、前記中間区域は覆わないようにパターン付けされたマスク層を形成するステップであって、選択的に除去される前記半導体シェルの一部は、前記半導体構造体の前記中間区域で露出される、ステップと、
前記半導体シェルの前記露出された部分を酸化させるステップであって、前記半導体構造体の前記中間区域で半導体酸化物を形成する、ステップと、
前記半導体酸化物を選択的にエッチングするステップと、
任意に、前記酸化ステップ及び前記選択的エッチングのステップを、前記半導体シェルの前記露出された部分が完全に除去されて、その下の前記半導体コアの部分が前記半導体構造体の前記中間区域で露出するまで繰り返すステップと
によって選択的に除去される、請求項22に記載の方法。 - 前記ゲート構造体は、ゲート誘電体層及びゲート導体層を含む、請求項22に記載の方法。
- 前記FETは、
前記半導体構造体の前記中間区域の前記半導体コアの一部の上にゲート誘電体層を形成するステップと、
前記半導体構造体の前記中間区域で前記ゲート誘電体層の上にゲート導体層を形成するステップであって、前記ゲート誘電体層及び前記ゲート導体層によって覆われた前記半導体構造体の前記中間区域の前記半導体コアの一部は、前記FETのチャネルを形成し、前記半導体構造体の前記中間区域の一方の端部に配置された前記2つの末端区域のうちの一方は、前記FETのソースを形成し、前記半導体構造体の前記中間区域の他方の対向する端部に配置された前記2つの末端区域のうちの他方は、前記FETのドレインを形成する、ステップと
によって形成される、請求項24に記載の方法。 - 前記FETの前記ソース及び前記ドレインの上に金属コンタクトを形成するステップをさらに含む、請求項24に記載の方法。
- 前記金属コンタクトと前記FETの前記ソース及び前記ドレインとの間に金属シリサイド層を形成するための、1つ又は複数のアニーリング・ステップをさらに含む、請求項25に記載の方法。
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