JP2010502772A - 電気伝導体のコーティング用組成物、及びかかる組成物の調製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】結晶格子中に、価電子の分極を容易化する選択的に調整された電気的な欠陥構造を有する微粒子1〜50重量%と、有機及び/又は有機−無機マトリックスとからなり、前記微粒子がシリコン、亜鉛、アルミニウム、スズ、ホウ素、ゲルマニウム、ガリウム、鉛、遷移金属、ランタニド及びアクチニドからなる群から選択される元素の酸化物、硫化物、セレン化物及び/又はテルル化物から、適当な低原子価又は高原子価元素によるドーピングにより、基本的な結晶格子が欠陥化学(欠陥構造)により前記微粒子の電気的な分極をより容易化する空孔を有する態様で提供されるように調製されるコーティング組成物。
【選択図】なし
Description
市販のポリウレタン樹脂を、対照の絶縁エナメルとして用いた。PU樹脂は、成分としてポリエステルポリオールとブロック化イソシアネート架橋剤を含有する。固形分含量は約25重量%である。
非ドープZrO2粒子を、高圧及び高温における制御された成長工程(熱水法)により調製した。この際、3,200gのZr−n−プロピレートを、適当な添加剤を用いて、制御された方法により沈殿させ、T=270℃及び80barで5時間、オートクレーブ処理した。このようにして調製される粉末ケーキを更に冷凍乾燥させた。上記の粉末を次に、エタノール中においてトリオキサデカン酸で表面修飾した。約1kgの非ドープZrO2を、この混合物中に分散させた。全ての懸濁液をその後、ZrO2グラインディングボールで約5時間連続的に摩擦することにより、均質化した。表面修飾された非ドープZrO2微粒子を得た。
ドープしたZrO2微粒子を、実施例2と同様の熱水法により調製した。この際、230gの硝酸イットリウム(Y硝酸)を、ドーピング剤として、3,200gのZr−n−プロピレート中に分散させた。これを、適当な添加剤を用いて、制御された方法により沈殿させ、T=270℃及び80barで5時間、オートクレーブ処理した。このようにして調製される粉末ケーキを更に冷凍乾燥させた。
非ドープZrO2を含有するPU−ZrO2コンポジットゾルを絶縁エナメルとして調製するため、実施例2で得た300gの非ドープZrO2ゾルを、実施例1で得た約1.7kgのPUマトリックスエナメル中に、撹拌しながら分散させた。このゾルを超音波処理し、より良好に分散させた。全てのPUコンポジットゾルを更に12時間撹拌して均質化した。このようにして、均一に分散された、非ドープZrO2を含有する均一なPUコンポジットゾルを得た。それはコーティング用途に適していた。
ドープしたZrO2を含有するPU−ZrO2コンポジットゾルを絶縁エナメルとして調製するため、実施例4と同様の手順を用い、実施例3で得た300gのドープしたZrO2ゾルを、実施例1で得た約1.7kgのPUマトリックスエナメル中に分散させた。このゾルを超音波処理し、より良好に分散させた。全てのPUコンポジットゾルを更に12時間撹拌して均質化した。均一に分散された、ドープZrO2微粒子を有する均一なPUコンポジットゾルを得た。それはコーティング用途に適していた。
Claims (19)
- 1〜50重量%の微粒子であって、前記微粒子の結晶格子中に、価電子の分極を容易化する選択的に調整された電気的な欠陥構造を有する微粒子と、
有機及び/又は有機−無機マトリックスと、からなる、電気伝導体用のコーティング組成物であって、
選択的に調整された電気的な欠陥構造を有する前記微粒子が、
シリコン、亜鉛、アルミニウム、スズ、ホウ素、ゲルマニウム、ガリウム、鉛、遷移金属並びにランタニド及びアクチニドからなる群、
特にシリコン、チタン、亜鉛、イットリウム、セリウム、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、ニッケル及び/又はタンタルからなる群から選択される元素の酸化物、硫化物、セレン化物及び/又はテルル化物から、
適当な低原子価元素又は高原子価元素によるドーピングにより、
その基本的な結晶格子が、欠陥化学(欠陥構造)により前記微粒子の電気的な分極をより容易化する空孔を有する態様で提供されるように調製される組成物。 - 前記有機及び/又は有機−無機マトリックスが、1つ以上の重合可能な結合剤及び/又は複合型結合剤を含有する、請求項1記載の組成物。
- 前記組成物が、添加剤、重合開始剤、溶媒、色素及び/又はフィラからなる群から選択される1つ以上の物質を含有する、請求項1記載の組成物。
- ドーピング元素が、0.5〜15モル%、好ましくは1〜10モル%、更に好ましくは2〜8モル%の量で用いられる、請求項1記載の組成物。
- 前記電気的な欠陥構造を有する前記微粒子の平均粒子径が、1〜1,000nmである、請求項1記載の組成物。
- 前記微粒子が、ポリマーベース結合剤及び/又は複合型結合剤に適する反応性表面基を含む、請求項2記載の組成物。
- 前記反応性表面基が、金属酸エステル、シアネート基、ウレタン基、エポキシド基、エポキシ、カルボン酸無水物、C=C二重結合系、ヒドロキシル基、酸素を介して結合するアルコール、エステル、エーテル、キレート剤、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム及び/又は反応性樹脂成分からなる群から選択され、
前記ポリマーベース結合剤が、アクリレート基、フェノール基、メラミン基、ポリエステル−ポリエステルイミド基、ポリスルフィド基、エポキシド基若しくはポリアミド基、ポリビニルホルマール樹脂、芳香族化合物、脂肪族化合物、エステル、エーテル、アルコラート、脂肪又はキレート剤を含有する、請求項6記載の組成物。 - 透明である、請求項1記載の組成物。
- フッ素化合物を含有する、請求項1記載の組成物。
- 有機的に修飾された無機縮合物を含有する、請求項1記載の組成物。
- フッ化シラン、その前縮合物又は縮合物を含有する、請求項10記載の組成物。
- 電気伝導体用のコーティングの調製方法であって、前記コーティングが、
1〜50重量%の微粒子であって、前記微粒子の結晶格子中に、価電子の分極を容易化する選択的に調整された電気的な欠陥構造を有する微粒子と
有機及び/又は有機−無機マトリックスと、を分散させ、
選択的に調整された電気的な欠陥構造を有する前記微粒子が、
シリコン、亜鉛、アルミニウム、スズ、ホウ素、ゲルマニウム、ガリウム、鉛、遷移金属並びにランタニド及びアクチニドからなる群、
特にシリコン、チタン、亜鉛、イットリウム、セリウム、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、ニッケル及び/又はタンタルからなる群から選択される元素の酸化物、硫化物、セレン化物及び/又はテルル化物から、
適当な低原子価元素又は高原子価元素によるドーピングにより、
その基本的な結晶格子が、欠陥化学(欠陥構造)により前記微粒子の電気的な分極をより容易化する空孔を有する態様で提供されるように調製される方法。 - 前記有機及び/又は有機−無機マトリックスが、1つ以上の重合可能な結合剤及び/又は複合型結合剤を含む、請求項12記載の方法。
- 添加剤、溶媒、色素及び/又はフィラからなる群から選択される1つ以上の物質が添加される、請求項12記載の方法。
- ドーピング元素が、0.5〜15モル%、好ましくは1〜10モル%、更に好ましくは2〜8モル%の量で用いられる、請求項12記載の方法。
- 前記電気的な欠陥構造を有する前記微粒子の平均粒子径が、1〜1,000nmである、請求項12記載の方法。
- 前記微粒子の前記電気的な欠陥構造が、イオンビーム及び/又は電子ビーム処理により調整される、請求項12記載の方法。
- 前記微粒子が、ポリマーベース結合剤及び/又は複合型結合剤に適する反応性表面基を含む、請求項12記載の方法。
- 前記反応性表面基が、金属酸エステル、シアネート基、ウレタン基、エポキシド基、エポキシ、カルボン酸無水物、C=C二重結合系、ヒドロキシル基、酸素を介して結合するアルコール、エステル、エーテル、キレート剤、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム及び/又は反応性樹脂成分からなる群から選択され、
前記ポリマーベース結合剤が、アクリレート基、フェノール基、メラミン基、ポリエステル−ポリエステルイミド基、ポリスルフィド基、エポキシド基若しくはポリアミド基、ポリビニルホルマール樹脂、芳香族化合物、脂肪族化合物、エステル、エーテル、アルコラート、脂肪又はキレート剤を含有する、請求項12記載の方法。
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---|---|---|---|---|
DE102006041738A1 (de) * | 2006-09-04 | 2008-03-06 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Zusammensetzung zur Beschichtung elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung einer solchen Zusammensetzung |
EP2999092A1 (en) * | 2014-09-18 | 2016-03-23 | ABB Technology AG | Insulation of a wound conductor and method for insulating such a conductor |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0850807A (ja) * | 1994-08-08 | 1996-02-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高誘電率絶縁ゴム材料 |
JP2000056349A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Toyota Motor Corp | 非線形光学シリカ薄膜の製造方法及び非線形光学シリカ素子 |
JP2000248114A (ja) * | 1999-03-01 | 2000-09-12 | Reiko Udagawa | ペルフルオロアルキレン基含有シランカップリング剤 |
JP2001176329A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Asahi Glass Co Ltd | 低誘電率材料 |
JP2001307557A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-11-02 | Hitachi Cable Ltd | 耐部分放電性エナメル線用塗料及び耐部分放電性エナメル線 |
JP2002206060A (ja) * | 2000-10-09 | 2002-07-26 | Nexans | ワニス組成物、この組成物の製造方法、被覆巻線及び得られたコイル |
JP2002539288A (ja) * | 1999-03-06 | 2002-11-19 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 金属導電体のためのコーティング組成物およびその使用を含むコーティング方法 |
JP2003082231A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-19 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドフィルムおよびポリイミド管状物 |
JP2004307735A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Jsr Corp | 液状硬化性組成物、硬化膜及び帯電防止用積層体 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE757659A (fr) * | 1969-10-17 | 1971-04-16 | Raychem Corp | Isolants haute tension |
JPS57165252A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antistatic plastic film |
US4464701A (en) * | 1983-08-29 | 1984-08-07 | International Business Machines Corporation | Process for making high dielectric constant nitride based materials and devices using the same |
DE4118184A1 (de) * | 1991-06-03 | 1992-12-10 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung |
WO1996042089A1 (en) | 1995-06-08 | 1996-12-27 | Weijun Yin | Pulsed voltage surge resistant magnet wire |
GB9623286D0 (en) * | 1996-11-08 | 1997-01-08 | Bicc Plc | Electrodes and methods of making them |
US5861578A (en) * | 1997-01-27 | 1999-01-19 | Rea Magnet Wire Company, Inc. | Electrical conductors coated with corona resistant, multilayer insulation system |
TW511103B (en) * | 1998-01-16 | 2002-11-21 | Littelfuse Inc | Polymer composite materials for electrostatic discharge protection |
FR2779268B1 (fr) * | 1998-05-27 | 2000-06-23 | Alsthom Cge Alcatel | Bobinage electrique, transformateur et moteur electrique comportant un tel bobinage |
US6497964B1 (en) * | 1999-07-22 | 2002-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating compositions and method for the surface protection of plastic substrate |
US6336026B1 (en) * | 1999-08-17 | 2002-01-01 | Xerox Corporation | Stabilized fluorosilicone transfer members |
US6524750B1 (en) * | 2000-06-17 | 2003-02-25 | Eveready Battery Company, Inc. | Doped titanium oxide additives |
JP2002341525A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フォトレジスト転写材料およびそれを用いた基板表面の加工方法 |
US6829459B2 (en) * | 2001-06-21 | 2004-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic apparatus using photosensitive member employing charge injection method and developer unit cleaning system |
DE10323729A1 (de) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh | Zusammensetzung mit Nichtnewtonschem Verhalten |
US8932632B2 (en) * | 2003-10-21 | 2015-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Adhesives and sealants nanotechnology |
DE102004003675A1 (de) * | 2004-01-24 | 2005-08-11 | Degussa Ag | Dispersion und Beschichtungszubereitung enthaltend nanoskaliges Zinkoxid |
DE102004008772A1 (de) * | 2004-02-23 | 2005-09-08 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Abriebbeständige und alkalibeständige Beschichtungen oder Formkörper mit Niedrigenergieoberfläche |
JP4803342B2 (ja) * | 2004-10-19 | 2011-10-26 | 信越化学工業株式会社 | 耐擦傷性表面被膜形成用シリコーンコーティング組成物及びそれを用いた被覆物品 |
US20070116976A1 (en) * | 2005-11-23 | 2007-05-24 | Qi Tan | Nanoparticle enhanced thermoplastic dielectrics, methods of manufacture thereof, and articles comprising the same |
JP5227511B2 (ja) * | 2006-03-06 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子及び固体撮像素子 |
US20100119697A1 (en) * | 2006-05-10 | 2010-05-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and coatings containing fluorescent, inorganic nanoparticles |
DE102006041738A1 (de) * | 2006-09-04 | 2008-03-06 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Zusammensetzung zur Beschichtung elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung einer solchen Zusammensetzung |
US20090039414A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Macronix International Co., Ltd. | Charge trapping memory cell with high speed erase |
JP4738498B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2011-08-03 | 住友ゴム工業株式会社 | 半導電性ゴム組成物とそれを用いた半導電性ゴムローラ |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0850807A (ja) * | 1994-08-08 | 1996-02-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高誘電率絶縁ゴム材料 |
JP2000056349A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Toyota Motor Corp | 非線形光学シリカ薄膜の製造方法及び非線形光学シリカ素子 |
JP2000248114A (ja) * | 1999-03-01 | 2000-09-12 | Reiko Udagawa | ペルフルオロアルキレン基含有シランカップリング剤 |
JP2002539288A (ja) * | 1999-03-06 | 2002-11-19 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 金属導電体のためのコーティング組成物およびその使用を含むコーティング方法 |
JP2001176329A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Asahi Glass Co Ltd | 低誘電率材料 |
JP2001307557A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-11-02 | Hitachi Cable Ltd | 耐部分放電性エナメル線用塗料及び耐部分放電性エナメル線 |
JP2002206060A (ja) * | 2000-10-09 | 2002-07-26 | Nexans | ワニス組成物、この組成物の製造方法、被覆巻線及び得られたコイル |
JP2003082231A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-19 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドフィルムおよびポリイミド管状物 |
JP2004307735A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Jsr Corp | 液状硬化性組成物、硬化膜及び帯電防止用積層体 |
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