JP2010286407A - 圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ及びその製造方法、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 - Google Patents
圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ及びその製造方法、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010286407A JP2010286407A JP2009141485A JP2009141485A JP2010286407A JP 2010286407 A JP2010286407 A JP 2010286407A JP 2009141485 A JP2009141485 A JP 2009141485A JP 2009141485 A JP2009141485 A JP 2009141485A JP 2010286407 A JP2010286407 A JP 2010286407A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure sensor
- substrate
- sensor array
- pressure
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 143
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 31
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 9
- 239000011800 void material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 57
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009623 Bosch process Methods 0.000 description 2
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Pressure Sensors (AREA)
- Force Measurement Appropriate To Specific Purposes (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
【解決手段】圧力センサアレイは、第一基板に第二基板を重ねてなる基体と、該基体内の重なり面において、第一基板の中央域に第一凹部を配することにより、第二基板と略平行して広がる第一空隙部、該第一空隙部上に位置し、第二基板の薄板化された領域からなるダイアフラム部、該ダイアフラム部に配された感圧素子、及び、第二基板の外面からなる前記基体の一面において、該ダイアフラム部を除いた外周域に配され、該感圧素子と電気的に接続された導電部、を少なくとも備えた圧力センサ素子を複数個、二次元的に配置してなる。前記圧力センサ素子は各々の外周域において、一端が前記基体の一面に配された前記導電部と電気的に接続し、他端が前記第一基板の外面からなる前記基体の他面に露呈するように、前記基体を貫通してなる貫通配線部を有する。
【選択図】図1
Description
従来の圧力センサ111の構造を図11に示す。この圧力センサ111は、シリコン等からなる半導体基板112の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる、基準圧力室としての空間113と、該空間113の一方側に位置する薄板化された領域によりなるダイアフラム部114と、圧力による該ダイアフラム部114の歪抵抗の変化を測定するために配された、感圧素子としての歪ゲージ115と、前記一面において、前記ダイアフラム部114を除いた外周域に配され、前記歪ゲージ115ごとに電気的に接続された導電部116等を備え、ダイアフラム部114が圧力を受けて撓むと、各歪ゲージ115にダイアフラム部114の歪み量に応じた応力が発生し、この応力に応じて歪ゲージ115の抵抗値が変化する。この抵抗値変化を電気信号として取り出すことにより、圧力センサ111は圧力を検出する。
また、微小な圧力変化を感知する必要があるため、ダイアフラム部114に余分な応力が加わらないように、例えば線膨張係数がシリコンに近いガラスの台座を使用したり、圧力センサを保護する樹脂をゲル状にしたり等、様々な工夫がなされている。
図13は、圧力センサアレイの代表的な構造を示す模式図である。
圧力センサアレイ211は、上述の圧力センサ111と同様、圧力変化を感知するダイアフラム部214、該ダイアフラム部214の歪抵抗の変化を測定するために配された、感圧素子としての歪ゲージ215、前記歪ゲージ215ごとに電気的に接続された電極216などを備えた圧力センサ素子が複数個、アレイ状に配置されている。
ダイアフラム部214で感知された圧力を電気信号として検出するためには、通常、図13に示すように、各センサ素子からリード線等の配線を外部まで引き回し、外周部に設けられた外部電極パッド218を介してパッケージ筐体とワイヤボンディング219がなされる。
本発明に係る圧力センサアレイは、圧力センサ素子を複数個、二次元的に配置してなるものであり、以下の図において、アレイを構成する圧力センサ素子の個数としては必要最小限のものを示すが、本発明では、素子の数はこれに限定されるものではない。
図1は、本発明に係る圧力センサアレイの一例を示す模式的な断面図(a)、(b)と、模式的な平面図(c)であり、図1(a)は図1(c)に示すA1−A1線に沿った断面を、図1(b)は図1(c)に示すA2−A2線に沿った断面を表している。すなわち、図1(c)はダイアフラム部を設けた面である。また、図2は、感圧素子(ゲージ抵抗)の電気的な配線図である。
図3は、本発明に係る圧力センサアレイの他の一例を示す模式的な断面図(a)、(b)と、模式的な平面図(c)であり、図3(a)は図3(c)に示すB1−B1線に沿った断面を、図3(b)は図3(c)に示すB2−B2線に沿った断面を表している。すなわち、図3(c)はダイアフラム部を設けた面である。
このとき、図3(c)に示すように、貫通配線部20と第二空隙部15とは、外周域βにおいて重ならない位置に配されることが好ましい。これにより、貫通配線部20を設けることによる第二空隙部15の破壊の虞をなくすことができる。
図4は、本発明に係る圧力センサアレイパッケージの一例を示す模式的な断面図であり、図1におけるA1−A1線に沿った断面に相当する。
図4に示すように、圧力センサアレイパッケージ2Aは、上記構造とした圧力センサアレイ1Aの貫通配線部20の露呈した他端20bにそれぞれ配され、該貫通配線部20と電気的に接続されるバンプ19を備えることによって構成されている。
また、バンプ19は、必ずしも貫通配線部20の露呈した他端20b上に直接配されることに限定されるものではなく、金属等からなるパッドや再配線層(不図示)等を介して貫通配線部20からずれた位置に設けても良い。
また、図3に示した差圧型の圧力センサアレイ1Bの構成を用いても同様の効果が得られる。
まず、図5(a)に示すように、例えばシリコンなどの半導体からなる第一基板11の一面において、中央域αに第一凹部14aを形成する(第一工程)。この凹部は、例えばDRIE(Deep-Reactive Ion Etching) 法によりエッチングすることで形成することができる。DRIE法とは、エッチングガスに六フッ化硫黄(SF6 )を用い、高密度プラズマによるエッチングと、側壁へのパッシベーション成膜を交互に行なうことにより(Bosch プロセス)、第一基板11を深堀エッチングするものである。
なお、これらの凹部を形成する方法はこれに限定されるものではなく、酸やアルカリ等の溶液を用いたウェットエッチング、サンドブラスト、レーザ等の物理的加工も可能である。
第二基板12を薄化する方法については特に限定されるものではなく、研削及びポリッシング加工に加え、反応性ガスを用いたドライエッチング、薬液を用いたウェットエッチング、または電気化学エッチング等による加工も可能である。
この絶縁層としてはSiO2 に限定されるものではなく、SiNや樹脂等の他の絶縁材料であっても良い。また、製法もその他スパッタ、スピンコート等が利用できる。
この導電性物質23としては、例えばCuとし、めっきにより貫通孔21内に充填することができる。なお、導電性物質23はこれに限定されず、他の金属材料やはんだ等の合金とすることもできる。また、充填方法もCVDやスパッタを利用することができる。
バンプ19は、例えばSn−Ag−Cu系からなるはんだボールを搭載して形成することができる。なお、はんだボールは、貫通配線部20上に直接搭載することもできるし、一度再配線層を形成しておき、貫通配線部とは別の場所で当該再配線層と電気的に接続するように搭載することもできる。
また本発明では、バンプ19はこれに限定されるものではなく、他の組成のはんだや、他の金属からなるはんだ、またCuやAuなどからなるバンプを用いることができ、作製法も、はんだペーストを用いた印刷法やメッキ法、ワイヤによるスタッドバンプ等が適用可能である。
さらに、バンプによって、外部基板との接続自由度の高い圧力センサを備えた小型のチップサイズパッケージを効率的に作製でき、外部基板の要求に応じた実装の自由度を備えた構造の圧力センサアレイパッケージを、低コストで簡便に、かつ安定して形成できる製造方法を提供することができる。
なお、その場合、図5(a)で示した第一工程で凹部形成のパターンを変更することが大きな特徴であり、第二工程以降は、絶対圧型の圧力センサアレイパッケージ2Aと同じ工程を用いるものであり、ここでは図5(b)以降の工程は省略するものとする。
図6は、図3に示す差圧型の圧力センサアレイ1Bの製造方法の第一工程の一例を示す模式的な断面図(a)と、模式的な平面図(b)であり、図6(a)は図6(b)に示すB1−B1線に沿った断面を表している。すなわち、図6(b)は第一基板11の表面である。
この凹部は、例えばDRIE(Deep-Reactive Ion Etching) 法によりエッチングすることで形成することができる。DRIE法とは、エッチングガスに六フッ化硫黄(SF6 )を用い、高密度プラズマによるエッチングと、側壁へのパッシベーション成膜を交互に行なうことにより(Bosch プロセス)、第一基板11を深堀エッチングするものである。
なお、これらの凹部を形成する方法はこれに限定されるものではなく、酸やアルカリ等の溶液を用いたウェットエッチング、サンドブラスト、レーザ等の物理的加工も可能である。
これらの第一凹部、第二凹部が、以下第二工程以降のプロセスを経て、それぞれ、基準圧力室となる第一空隙部、外部との連通孔となる第二空隙部を形成し、差圧型の圧力センサアレイパッケージが完成する。
さらに、バンプによって、差圧型の圧力センサとして機能する圧力センサを備えた小型のチップサイズパッケージを効率的に作製でき、外部基板の要求に応じた実装の自由度を備えた構造の差圧型の圧力センサアレイパッケージを、低コストで簡便に、かつ安定して形成できる製造方法を提供することができる。
上述の圧力センサアレイ、及びそのパッケージの製造方法については、通常の工程では、ウェハレベルで行うこととなる。そのため、図7に示すように圧力センサアレイパッケージ101と隣り合う圧力センサアレイパッケージ102とには同様のパターンが形成されることになり、ダイシングライン近辺の領域γにおいて、各々の第二空隙部15が繋がる構造となる。一連の工程が終了後、図中破線C−Cからダイシングし、チップに個片化することにより、同時に第二空隙部15をチップの側面に開口させて、基準圧力室となる第一空隙部14と基体の外部を連通させることができる。これにより、差圧型の圧力センサとして機能する圧力センサを備えた小型のチップサイズパッケージを、簡易な工程で、かつ効率的に形成できる製造方法を提供することができる。
図8は、本発明に係る圧力センサアレイの他の一例を示す模式的な断面図(a)、(b)と、模式的な平面図(c)であり、図8(a)は図8(c)に示すD1−D1線に沿った断面を、図8(b)は図8(c)に示すD2−D2線に沿った断面を表している。すなわち、図8(c)はダイアフラム部を設けた面である。なお、図8においても、感圧素子(ゲージ抵抗)の電気的な配線図は図2と同様である。
図9は、本発明に係る圧力センサアレイパッケージの他の一例を示す模式的な断面図であり、図8におけるD1−D1線に沿った断面に相当する。
図9に示すように、圧力センサアレイパッケージ4Aは、上記構造とした圧力センサアレイ3Aの貫通配線部40の露呈した他端にそれぞれ配され、該貫通配線部40と電気的に接続されるバンプ39を備えることによって構成されている。
また、バンプ39は、必ずしも貫通配線部40の露呈した他端上に直接配されることに限定されるものではなく、金属等からなるパッドや再配線層(不図示)等を介して貫通配線部40からずれた位置に設けても良い。
まず、図10(a)に示すように、例えばシリコンなどの半導体からなる基体31の一面において、中央域αに第一空隙部(基準圧力室)34を形成する(第一工程)。このような半導体からなる基体の内部に第一空隙部(基準圧力室)34を備えてなる構造の圧力センサは、例えば S.Armbruster 等により開示された方法(S.Armbruster et.al., "A NOVEL MICROMACHINING PROCESS FOR THE FABRICATION OF MONOCRYSTALINE SI-MEMBRANES USING POROUS SILICON", Digest of Technical Papers Transducer '03, 2003, pp246.)により作製される。これにより、該第一空隙部34と重なり薄化された基体31からなる領域をダイアフラム部36が得られる。
この絶縁層としてはSiO2 に限定されるものではなく、SiNや樹脂等の他の絶縁材料であっても良い。また、製法もその他スパッタ、スピンコート等が利用できる。
この導電性物質43としては、例えばCuとし、めっきにより貫通孔41内に充填することができる。なお、導電性物質43はこれに限定されず、他の金属材料やはんだ等の合金とすることもできる。また、充填方法もCVDやスパッタを利用することができる。
バンプ39は、例えばSn−Ag−Cu系からなるはんだボールを搭載して形成することができる。なお、はんだボールは、貫通配線部40上に直接搭載することもできるし、一度再配線層を形成しておき、貫通配線部とは別の場所で当該再配線層と電気的に接続するように搭載することもできる。
また本発明では、バンプ39はこれに限定されるものではなく、他の組成のはんだや、他の金属からなるはんだ、またCuやAuなどからなるバンプを用いることができ、作製法も、はんだペーストを用いた印刷法やメッキ法、ワイヤによるスタッドバンプ等が適用可能である。
さらに、バンプによって、外部基板との接続自由度の高い圧力センサを備えた小型のチップサイズパッケージを効率的に作製でき、外部基板の要求に応じた実装の自由度を備えた構造の圧力センサアレイパッケージを、低コストで簡便に、かつ安定して形成できる製造方法を提供することができる。
また、上述した構成を備える、圧力センサ、圧力センサパッケージ又は圧力センサモジュールを搭載したことを特徴とする電子部品は、搭載した際に嵩張る筐体などが不要なことから、圧力センサ、圧力センサパッケージ又は圧力センサモジュールを収容する容積が大幅に低減されると共に、筐体などに相当する重量も削減される。よって、本発明によれば、小型で軽量な電子部品の提供が可能となる。
Claims (9)
- 第一基板に第二基板を重ねてなる基体と、該基体内の重なり面において、前記第一基板の中央域に第一凹部を配することにより、前記第二基板と略平行して広がる第一空隙部、該第一空隙部上に位置し、前記第二基板の薄板化された領域からなるダイアフラム部、該ダイアフラム部に配された感圧素子、及び、前記第二基板の外面からなる前記基体の一面において、該ダイアフラム部を除いた外周域に配され、該感圧素子と電気的に接続された導電部、を少なくとも備えた圧力センサ素子を複数個、二次元的に配置してなる圧力センサアレイであって、
前記圧力センサ素子は各々の外周域において、一端が前記基体の一面に配された前記導電部と電気的に接続し、他端が前記第一基板の外面からなる前記基体の他面に露呈するように、前記基体を貫通してなる貫通配線部を有することを特徴とする圧力センサアレイ。 - 前記圧力センサ素子の各々に対して、前記基体内の重なり面において、前記第一基板の外周域の少なくとも一部に、一方が前記第一空隙部と連通し、他方が隣接する位置にある圧力センサ素子の第一空隙部と連通するか、あるいは前記第一基板の側面に開口部をなす第二凹部を配することにより、前記第二基板と略平行をなす第二空隙部を設けたことを特徴とする請求項1に記載の圧力センサアレイ。
- 前記圧力センサ素子の各々において、前記貫通配線部と前記第二空隙部とは、互いに重ならない位置にあることを特徴とする請求項2に記載の圧力センサアレイ。
- 請求項1乃至3に記載の圧力センサアレイと、該圧力センサアレイを構成する圧力センサ素子の前記貫通配線部の他面に露呈された一端に配され、該一端と電気的に接続されるバンプと、から構成されたことを特徴とする圧力センサアレイパッケージ。
- 第一基板に第二基板を重ねてなる基体と、該基体内の重なり面において、前記第一基板の中央域に第一凹部を配することにより、前記第二基板と略平行して広がる第一空隙部、該第一空隙部上に位置し、前記第二基板の薄板化された領域からなるダイアフラム部、該ダイアフラム部に配された感圧素子、及び、前記第二基板の外面からなる前記基体の一面において、該ダイアフラム部を除いた外周域に配され、該感圧素子と電気的に接続された導電部を少なくとも備え、前記外周域において、一端が前記基体の一面に配された前記導電部と電気的に接続し、他端が前記第一基板の外面からなる前記基体の他面に露呈するように、前記基体を貫通してなる貫通配線部を有する圧力センサ素子を複数個、二次元的に配置してなる圧力センサアレイの製造方法であって、
前記第一基板に、前記圧力センサ素子の各々に対し前記第一凹部を形成する第一工程、
前記第一基板の第一凹部が形成された面に前記第二基板を貼り合わせ、前記第一空隙部を形成する第二工程、
前記第二基板を薄板化して前記ダイアフラム部を形成する第三工程、
前記ダイアフラム部に少なくとも前記感圧素子及び前記導電部を形成する第四工程、
及び、前記圧力センサ素子の各々に対して、薄板化した第二基板を第一基板と重ねてなる基体の外周域において、一端が該基体の一面に配された前記導電部と電気的に接続し、他端が前記第一基板の外面からなる前記基体の他面に露呈するように、前記基体を貫通してなる貫通配線部を形成する第五工程、を少なくとも有することを特徴とする圧力センサアレイの製造方法。 - 前記第一工程は、前記第一凹部と共に第二凹部を形成し、前記第一基板の第一凹部と第二凹部が形成された面に前記第二基板を貼り合わせることにより、一方が該第一空隙部と連通し、他方が隣接する位置にある圧力センサ素子の第一空隙部と連通するか、あるいは前記第一基板の側面に開口部をなす第二空隙部を形成する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の圧力センサアレイの製造方法。
- 請求項5または6に記載の圧力センサアレイの製造方法により、該圧力センサアレイを構成する圧力センサ素子の前記貫通配線部の他面に露呈された一端に、該一端と電気的に接続されるバンプを形成する工程を、さらに備えたことを特徴とする圧力センサアレイパッケージの製造方法。
- 請求項4に記載の圧力センサアレイパッケージと、該圧力センサアレイパッケージのバンプを介して電気的に接続される実装基板と、から構成されたことを特徴とする圧力センサモジュール。
- 請求項1乃至4のいずれか1項又は請求項8に記載の圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ又は圧力センサモジュールを少なくとも備えたことを特徴とする電子部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009141485A JP5331584B2 (ja) | 2009-06-12 | 2009-06-12 | 圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009141485A JP5331584B2 (ja) | 2009-06-12 | 2009-06-12 | 圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010286407A true JP2010286407A (ja) | 2010-12-24 |
JP5331584B2 JP5331584B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=43542205
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009141485A Expired - Fee Related JP5331584B2 (ja) | 2009-06-12 | 2009-06-12 | 圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5331584B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9978804B2 (en) | 2016-04-01 | 2018-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Electronic device, method of manufacturing the same, and camera |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW383508B (en) | 1996-07-29 | 2000-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo Kk | Light emitting device and display |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05283712A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体圧力センサ及びその製造方法 |
JPH0862078A (ja) * | 1994-08-24 | 1996-03-08 | Seiko Epson Corp | 圧力センサー及びその製造方法 |
JP2007240250A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujikura Ltd | 圧力センサ、圧力センサパッケージ、圧力センサモジュール、及び電子部品 |
-
2009
- 2009-06-12 JP JP2009141485A patent/JP5331584B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05283712A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体圧力センサ及びその製造方法 |
JPH0862078A (ja) * | 1994-08-24 | 1996-03-08 | Seiko Epson Corp | 圧力センサー及びその製造方法 |
JP2007240250A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujikura Ltd | 圧力センサ、圧力センサパッケージ、圧力センサモジュール、及び電子部品 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9978804B2 (en) | 2016-04-01 | 2018-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Electronic device, method of manufacturing the same, and camera |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5331584B2 (ja) | 2013-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5763682B2 (ja) | Mems及びasicを備える小型化した電気的デバイス及びその製造方法 | |
US7540199B2 (en) | Physical quantity sensor | |
JP5486271B2 (ja) | 加速度センサ、及び加速度センサの製造方法 | |
JP3863171B2 (ja) | 半導体圧力センサ及びその製造方法 | |
JP2007248212A (ja) | 圧力センサパッケージ及び電子部品 | |
JP2015515609A (ja) | カテーテルダイおよびその製造方法 | |
JP2007180201A (ja) | 半導体装置 | |
JP5545281B2 (ja) | 力学量センサ | |
JP2006275660A (ja) | 半導体センサおよびその製造方法 | |
EP3239681A1 (en) | Sensor device including a pressure sensor and a humidity sensor | |
JP2006247833A (ja) | Mems素子パッケージ及びその製造方法 | |
US20160209344A1 (en) | Complex sensor and method of manufacturing the same | |
JP2007240250A (ja) | 圧力センサ、圧力センサパッケージ、圧力センサモジュール、及び電子部品 | |
JP2006170962A (ja) | 半導体加速度センサ | |
JP2005127750A (ja) | 半導体センサおよびその製造方法 | |
JP5331584B2 (ja) | 圧力センサアレイ、圧力センサアレイパッケージ、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 | |
JP3908266B2 (ja) | 半導体圧力センサ及びその製造方法 | |
JP4949673B2 (ja) | 半導体加速度センサおよびその製造方法 | |
JP5843302B1 (ja) | 複合センサデバイスの製造方法 | |
JP2009265012A (ja) | 半導体センサ | |
US20230354714A1 (en) | Micromechanical component, sound transducer device, and method for producing a micromechanical component | |
JP4706634B2 (ja) | 半導体センサおよびその製造方法 | |
JP2010107215A (ja) | 圧力センサ、圧力センサパッケージ及びその製造方法、並びに圧力センサモジュール及び電子部品 | |
JPWO2010119600A1 (ja) | 変換体モジュール及びその製造方法 | |
JP5328492B2 (ja) | 圧力センサモジュール及び圧力センサパッケージ、並びにこれらの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111202 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130729 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5331584 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |