JP2010270343A - 回転成形法のための安定剤組み合わせ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、(b)(i)ヒドロキシルアミン誘導体、及び(ii)アミンオキシド誘導体からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに(c)立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で280℃以上に加熱し、前記成形型を少なくとも二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
【選択図】なし
Description
には、長鎖N,N−ジアルキルヒドロキシルアミンがホスフィット安定剤と共に使用され、そしてまた、それらが立体障害アミン安定剤と一緒に使用されることが示されている。
(a)有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、
(b)(i)ヒドロキシルアミン誘導体、及び
(ii)アミンオキシド誘導体
からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに
(c)立体障害アミン安定剤からなる群からの少なくとも一つの化合物
からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、
この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で280℃以上に加熱し、前記成形型を少なくても二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の新規製造方法に関するものである。
nは2,3又は4であり、pは1又は2であり、qは2又は3であり、rは4ないし12であり、yは1,2又は3であり、そしてzは1ないし6であり、
A1は、nが2である場合は、炭素原子数2ないし18のアルキレン基;酸素原子,硫
黄原子又は−NR4基により中断された炭素原子数2ないし12のアルキレン基;次式:
A1は、nが3である場合は、式−CrH2r-1で表わされる基を表わし、
A1は、nが4である場合は、次式:
A2は、nが2である場合のA1 に対して定義されたものと同じ意味を表わし、
Bは直接結合、−CH2−基、−CHR4−基、−CR1R4−基、硫黄原子、炭素原子数5ないし7のシクロアルキリデン基、又は3,4及び/又は5位が1ないし4個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたシクロヘキシリデン基を表わし、
D1は、pが1である場合は、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして、
pが2である場合は、−CH2 OCH2 −基を表わし、
D2は、pが1である場合は、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、
Eは、yが1である場合は、炭素原子数1ないし18のアルキル基、−OR1基又はハ
ロゲン原子を表わし、
Eは、yが2である場合は、−O−A2−O−基を表わし、
Eは、yが3である場合は、式R4C(CH2O−)3又はN(CH2CH2O−)3で表わされる基を表わし、
Qは少なくともz価のアルコール又はフェノールの基を表わし、前記基は酸素原子を介して燐原子に結合しており、
R1,R2及びR3は互いに独立して、非置換又はハロゲン原子,−COOR4 基,−C
N基若しくは−CONR4R4基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基;酸素原子,硫黄原子又は−NR4基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル
基;炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;フェニル基又はナフチル基;ハロゲン原子,全体で1ないし18個の炭素原子を有する1ないし3個のアルキル基若しくはアルコキシ基により、又は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基により置換されたナフチル基又はフェニル基;又は次式:
R4は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシ
クロアルキル基又は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表わし、
R5及びR6は互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5若しくは6のシクロアルキル基を表わし、
R7及びR8は、qが2である場合は、互いに独立して、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、又は一緒になって2,3−デヒドロペンタメチレン基を表わし、そして
R7及びR8は、qが3である場合は、メチル基を表わし、
R14は水素原子、炭素原子数1ないし9のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わし、
R15は水素原子又はメチル基を表わし、そして、二つ又はそれより多くの基R14及びR15が存在する場合は、これらの基は同一であり又は異なり、
X及びYは各々、直接結合又は酸素原子を表わし、
Zは直接結合、メチレン基、−C(R16)2−基又は硫黄原子を表わし、そして
R16は炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わす〕からなる群から選択される化合物である新規方法は重要である。
キレン基は、例えば、−CH2−O−CH2−基、−CH2−S−CH2−基、−CH2−N
H−CH2−基、−CH2−N(CH3)−CH2−基、−CH2−O−CH2CH2−O−C
H2−基、−CH2−(O−CH2CH2)2O−CH2−基、−CH2−(O−CH2CH2)3O−CH2−基、−CH2−(O−CH2CH2)4O−CH2−基又は−CH2CH2−S−CH2CH2−基である。
第三ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,3,3,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。
キル基は、例えば、CH3−O−CH2−基、CH3−S−CH2−基、CH3−NH−CH2−基、CH3−N(CH3)−CH2−基、CH3−O−CH2CH2−O−CH2−基、CH3−(O−CH2CH2)2O−CH2−基、CH3−(O−CH2CH2)3O−CH2−基又は
CH3−(O−CH2CH2)4O−CH2−基である。
nは数2であり、そしてyは数1,2又は3であり、
A1は炭素原子数2ないし18のアルキレン基、p−フェニレン基又はp−ビフェニレ
ン基を表わし、
Eは、yが1である場合は、炭素原子数1ないし18のアルキル基、−OR1又は弗素
原子を表わし、
Eは、yが2である場合は、p−ビフェニレン基を表わし、
Eは、yが3である場合は、N(CH2CH2O−)3基を表わし、
R1,R2及びR3は互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子
数7ないし9のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、又は全体で1ないし18個の炭素原子を有する1ないし3個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
R14は水素原子又は炭素原子数1ないし9のアルキル基を表わし、
R15は水素原子又はメチル基を表わし、
Xは直接結合を表わし、
Yは酸素原子を表わし、
Zは直接結合又は−CH(R16)−基を表わし、そして
R16は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす〕から選択された少なくとも一つの化合物である新規方法が特に重要である。
nは数2であり、そしてyは数1又は3であり、
A1はp−ビフェニレン基を表わし、
Eは、yが1である場合は、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基又は弗素原子を表わし、
Eは、yが3である場合は、N(CH2CH2O−)3基を表わし、
R1,R2及びR3は互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、又は全体
で2ないし12個の炭素原子を有する2又は3個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
R14はメチル基又は第三ブチル基を表わし、
R15は水素原子を表わし、
Xは直接結合を表わし、
Yは酸素原子を表わし、
Zは直接結合、メチレン基又は−CH(CH3)−基を表わす〕から選択された少なく
とも一つの化合物である新規方法も同様に重要である。
R17及びR18は互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表わし、そして
R19及びR20は互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす〕で表わされる化合物である方法は特に好ましい。
ルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット〔式(D)〕、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット〔式(E)〕、ビス−イソデシロキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−トリ第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレン−ジホスホナイト〔イルガフォス(商標名:Irgafos)P−EPQ,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーテッド(Ciba Specialty Chemicals Corp.),式(H)〕、6−イソオクチロキシ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン〔式(C)〕、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12−メチル−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン〔式(A)〕、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット〔式(G)〕。
s Corp.),式(H)〕、2,2’,2’’−ニトリロ[トリエチルトリス(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット〔イルガフォス(商標名:Irgafos)12,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション(Ciba Specialty Chemicals Corp.),式(B)〕、ウルトラノックス(商標名:Ultranox)641,〔ジーイー・ケミカルズ(GE Chemicals),式(J)〕、ドヴァーホス(商標名:Doverphos)S9228〔ドヴァー・ケミカルズ(Dover Chemicals),式(K)〕、又はマーク(商標名:Mark)HP10〔アデカ・アーガス(Adeka Argus),式(L)〕。
T1は1ないし36個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、5ないし1
2個の炭素原子を有するシクロアルキル基、7ないし9個の炭素原子を有するアルアルキル基、或いは1ないし12個の炭素原子を有する一つ若しくは二つのアルキル基により又は一つ若しくは二つのハロゲン原子により置換された7ないし9個の炭素原子を有するアルアルキル基を表わし、
T2は水素原子を表わし、又は独立して、T1に対して定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされる。
α−ジメチルベンジル基が好ましい。
G1及びG2は独立して、6ないし36個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、6ないし12個の炭素原子を有するアリール基、7ないし36個の炭素原子を有するアルアルキル基、7ないし36個の炭素原子を有するアルカリール基、5ないし36個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6ないし36個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は6ないし36個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
G3は1ないし36個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、6ないし1
2個の炭素原子を有するアリール基、7ないし36個の炭素原子を有するアルアルキル基、7ないし36個の炭素原子を有するアルカリール基、5ないし36個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6ないし36個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は6ないし36個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
但し、G1,G2及びG3の少なくとも一つはβ炭素−水素結合を含み、そして、
前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、1ないし16個の−O−基、−S−基、−SO−基、−SO2−基、−COO−基、−OCO−基、−CO−基、−NG4−基、−C
ONG4−基及び−NG4CO−基により中断されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、−OG4基、−SG4基、−COOG4基、−OCOG4基、−COG4基
、−N(G4)2基、−CON(G4)2基、−NG4COG4基、並びに−C(CH3)(C
H2Rx)NL(CH2Rx)(CH3)C−基を含む5−及び6−員環から選択された1な
いし16個の基により置換されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、上述の基により中断され且つ置換されており、そして
式中、
G4は独立して、水素原子又は1ないし8個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、
Rxは水素原子又はメチル基を表わし、
Lは炭素原子数1ないし30の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基部分、−C(O)R基部分(式中、Rは炭素原子数1ないし30の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす)、又は−OR基部分(式中、Rは炭素原子数1ないし30の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす)を表わし、そして
前記アリール基は一つないし三つのハロゲン原子、1ないし8個の炭素原子を有するアルキル基、1ないし8個の炭素原子を有するアルコキシ基又はこれらの組み合わせにより置換されてよい〕で表わされる飽和第三アミンオキシドである。
である。G1及びG2は好ましくは、8ないし26個の炭素原子を有するアルキル基も表わし、そして最も好ましくは、10ないし26個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そしてG3は好ましくは、1ないし22個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そし
て最も好ましくは、メチル基又は置換メチル基を表わす。更に、好ましいアミンオキシドは、式中、G1,G2及びG3が6ないし36個の炭素原子を有する同一のアルキル基を表
わすものを包含する。好ましくは、G1,G2及びG3のための全ての前述の残基が、飽和
炭化水素残基又は少なくとも一つの前述の−O−基、−S−基、−SO−基、−CO2−
基、−CO−基又は−CON−基を含む飽和炭化水素残基である。当業者は、本発明から逸脱することなく、G1,G2及びG3の各々のための他の有用な残基を予想することがで
きるであろう。
分を含んでよい。好ましい態様において、前記ポリマー状第三アミンオキシドの各々の第三アミンオキシドは炭素原子数1の残基を含む。
してよい。立体障害アミンは従来知られており、そして、本発明のアミンオキシドは何らかの方法で前記立体障害アミンに及び前記立体障害アミンの構造部分に結合してよい。成分(ii)の化合物の一部である場合の有用な立体障害アミンは、一般式(IV)及び(V):
のを包含する。分子当たり一つより多い立体障害アミン及び一つより多い飽和アミンを含むアミンオキシドも含まれる。前記立体障害アミンは、上述の如く、ポリ(第三アミンオキシド)に又はポリマー状基材に結合してよい。
少なくとも一つの化合物である。好ましくは、Rxは水素原子を表わす。好ましくは、成
分(c)は高分子量のものであり、そして、個別の化合物又はオリゴマー状混合物であってよい。
Sigma)の保護された商標名である。
1.モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン(所望により架橋されていてよい)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度及び高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度及び超高分子量ポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、
低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE),(VLDPE)及び(ULDPE)。
ii)通常、周期律表の族IVb,Vb,VIb又はVIIIの1種又は1種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常1種又はそれより多くの配位子を有しており、代表的にはp−又はs−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよい(前記金属は、周期律表の族Ia,IIa及び/又はIIIaの元素である)。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス(Phillips)触媒,スタンダード オイルインディアナ(Standard Oil Indiana)触媒,チーグラー(−ナッタ)〔Ziegler(−Natta)〕触媒,TNZ〔デュポン(DuPont)〕触媒,メタロセン触媒又はシングルサイト触媒(SSC)と呼ばれる。
1.1.アルキル化モノフェノール
例えば、2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖状又は分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、2,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノール及びそれらの混合物。
例えば、2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。
例えば、2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミンE)。
例えば、2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
例えば、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メ
チルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス[3,3−ビス(3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
例えば、3,5,3’,5’−テトラ第三ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
例えば、ジオクタデシル2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシル2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。
例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
例えば、2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
例えば、ジメチル2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
例えば、4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチルN−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
例えば、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、N,N’−ビス[2−(3−[3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニルオキシ)エチル]オキサミド〔ユニロイヤル(Uniroyal)社から提供されるナウガード(商標名;Naugard )XL−1〕。
例えば、N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン例えばp,p’−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イ
ル)ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル)セバケート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール
例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換体;次式:[R−CH2CH2−COO−CH2CH2]2−(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基を表わす)で表わされる化合物、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(α,α−ジメチルベンジル)−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]ベンゾトリアゾール;2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール。
例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−及び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
例えば、4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
例えば、エチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
例えば、2,2’−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1又は1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン、トリエタノールアミン若しくはN−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
例えば、4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エチルオキサニリド及び該化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、o−及びp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びo−及びp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
例えば、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−{2−ヒドロキシ−4−[3−(2−エチルヘキシル−1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニル}−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン。
例えば、N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
例えば、N−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン、N−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、N,N−ジ(水素添加された獣脂)ヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は2−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩;有機化合物、例えば、モノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば、4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム;ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー〔“イオノマー”〕。
例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材粉末、
及び他の天然産物の粉末又は繊維、合成繊維。
例えばUS4325863、US4338244、US5175312、US5216052、US5252643、DE−A−4316611、DE−A−4316622、DE−A−4316876、EP−A−0589839又はEP−A−0591102に開示されたもの、又は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3’−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(2,3−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。
例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤、清澄剤及び発泡剤。
ヘキセンと共重合された中密度ポリエチレン〔ノヴァポール(商標名:Novapol)TR−0735,公称のメルトインデックス6.8g/10分,密度0.935g/cm3〕100部を、ステアリン酸カルシウム0.050部及び付加的な添加剤の組み合わ
せとドライブレンドする(下記参照)。この混合物を、マッドドック(Maddock)ミキシングヘッドを備えた24:1L/Dスクリューを使用して、100rpmで、シューペリアー(Superior)/MPM押出機中で、232℃でペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、本回転成形法に先立って、均質な粒径(150〜500μm)に粉砕する。前記粉砕工程は、粒子の表面積を増加させ、より迅速な熱吸収を促し、その結果、全体としてのエネルギー消費を低減させる。本回転成形法は、実験室規模の装置FSP M20“クラムシェル(Clamshell)”中で行う。粉砕された樹脂を注型アルミニウム成形型内に配置し、これをガス燃焼オーブン中で二軸方向に回転させる。熱い空気をチャンバー中でブロワーにより循環させ、一方、温度を4分以内に288℃まで上昇させる。この温度を所定時間保持する(下記表を参照)。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、7分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて7分間水噴霧ミストを与え、次いで更に2分間冷却工程を設ける。全体の加熱及び冷却サイクルを通して、主軸の速度は4.5:1の回転比と共に6rpmに保持する。この冷却サイクル後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
)168:0.10部、一次酸化防止剤イルガノックス(商標名:Irganox)1076:0.05部、並びに光及び熱安定剤チヌビン(商標名:Tinuvin)783:0.200部の組み合わせを更にブレンドする。
製剤Bのチヌビン(商標名:Tinuvin)783を下記の立体障害アミンの各々に置き換えて、実施例1の如く中空製品を製造する。
製剤E:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びチヌビン(商標名:Tinuvin)622〔式(H4)で表わされる化合物〕
製剤F:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びシマソルブ(商標名:Chimassorb)944〔式(H5)で表わされる化合物〕
製剤G:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びシマソルブ(商標名:Chimassorb)119〔式(H9)で表わされる化合物〕
製剤H:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びチヌビン(商標名:Tinuvin)111〔式(H4)で表わされる化合物と式(H9)で表わされる化合物との混合物〕
製剤I:イルガフォス(商標名:Irgafos)168及びシマソルブ(商標名:Chimassorb)2020〔式(H10)で表わされる化合物〕
製剤J:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びシアソルブ(商標名:Cyasorb)UV−3346〔式(H12)で表わされる化合物〕
製剤K:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びシアソルブ(商標名:Cyasorb)UV−3529〔式(H13)で表わされる化合物〕
製剤L:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びウヴァソルブ(商標名:Uvasorb)HA88〔式(H17)で表わされる化合物〕
製剤M:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びチヌビン(商標名:Tinuvin)123〔式(H1)で表わされる化合物〕
製剤N:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及び式(H11)で表わされる立体障害アミン
製剤O:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びホスタヴィン(Hostavin)N30〔式(H14)で表わされる化合物〕
製剤P:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びウヴィヌル(商標名:Uvinul)5050H〔式(H15)で表わされる化合物〕
製剤Q:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びウヴァシル(商標名:Uvasil)299〔式(H16)で表わされる化合物〕
製剤R:イルガフォス(商標名:Irgafos)168、イルガスタッブ(商標名:Irgastab)042及びウヴァソルブ(商標名:Uvasorb)HA88〔式(H16)で表わされる化合物〕
製剤B〜DのN,N−ジベンジルヒドロキシルアミンをイルガスタッブ(商標名:Irgastab)042に置き換えて、実施例1の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン及びチヌビン(商標名:Tinuvin)783を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物(製剤A)に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
製剤Bのイルガフォス(商標名:Irgafos)168をホスフィット加工安定剤イルガフォス(商標名:Irgafos)38に置き換えて、実施例1の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション(Ciba Specialty Chemicals Corporation)〕から市販されているイルガフォス(商標名:Irgafos)38は、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィットである。イルガフォス(商標名:Irgafos)38を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物(製剤A)に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
製剤B〜Dのイルガスタッブ(商標名:Irgastab)042をアミンオキシドであるゲノックス(商標名:Genox)EPに置き換えて、実施例1の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、ゲノックス(商標名:Genox)EP及びチヌビン(商標名:Tinuvin)783を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物(製剤A)に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。ゲノックス(商標名:Genox)EPは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ(GE Specialty Chemicals)から市販されているジ(炭素原子数16ないし18)アルキルメチルアミンオキシド,CAS#204933−93−7である。
製剤Bのイルガフォス(商標名:Irgafos)168及びイルガスタッブ(商標名:Irgastab)042をホスフィット加工安定剤イルガフォス(商標名:Irgafos)38及びアミンオキシドであるゲノックス(商標名:Genox)EPに置き換えて、実施例1の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション(Ciba Specialty Chemicals Corporation))から市販されているイルガフォス(商標名:Irgafos)38は、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィットである。ゲノックス(商標名:Genox)EPは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ(GE Specialty Chemicals)から市販されているジ(炭素原子数16ないし18)アルキルメチルアミンオキシド,CAS#204933−93−7である。イルガフォス(商標名:Irgafos)38、ゲノックス(商標名:Genox)EP及びチヌビン(商標名:Tinuvin)783を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物(製剤A)に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
鎖状低密度ポリエチレン粉末(ヘキセン共重合体、公称のメルトインデックス3.3dg/分、密度0.938g/cm3)を、ステアリン酸亜鉛(0.05重量%)及び付加
的な添加剤とドライブレンドする(下記参照)。この混合物を、シューペリアー(Superior)/MPM 単一スクリュー押出機(24:1L/D)を使用して、ペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、60−70℃の温度において、0.330mmのギャップサイズを備えたリダクションエンジニアリングモデル50粉砕機を使用して、均質な粒径粉末に粉砕する。
回転成形は、立方体(12面体)の注型アルミニウム成形型を備えたFSP M20 クラムシェル(Clamshell)タイプ成形機を使用して行う。前記成形型に粉砕されたポリマー粉末2020gを充填し、274℃(華氏525°)の温度で二軸方向に回転させながらオーブンで加熱する。この加熱は特定時間保持する(下記表を参照)。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、7分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて7分間水噴霧ミストを与え、次いで更に2分間冷却工程を設けた。全体の成形サイクルを通して、回転の主軸の速度は6rpmに、また回転の副軸の速度は1.5rpmに保持する。この冷却完了後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
チヌビン(商標名:Tinuvin)783は、
式
Claims (1)
- (a)式(1’)若しくは(5’)で表される有機ホスフィット又は式(2’)で表されるホスホナイトからの少なくとも一つの化合物、
R1はフェニル基又は全体で1ないし18個の炭素原子を有する1ないし3個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表し、
R2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、フェニル基又は全体で1ないし18個の
炭素原子を有する1ないし3個のアルキル基により置換されたフェニル基を表し、
R3はフェニル基又は全体で1ないし18個の炭素原子を有する1ないし3個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表す。)
(b)式(III)で表されるアミンオキシド誘導体から選択された一つ又はそれより多くの化合物
G1及びG2は独立して、炭素原子数6ないし22の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表し、
G3は炭素原子数1ないし22の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わし)、及び
(c)式(VI’)で表される少なくとも一つの基を含む立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物
お回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
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