JP2010265873A - 排気浄化装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】フィルタ強制再生時におけるHC吸着触媒の過昇温を防止してから、フィルタ強制再生を行える排気浄化装置を提供することにある。
【解決手段】内燃機関1の排気系Rのパティキュレートを捕集するフィルタ22と、排気系に設けられ炭化水素を吸着及び脱離するHC吸着触媒19と、フィルタへのパティキュレート捕集量を算出する捕集量算出手段122−3aと、HC吸着触媒への炭化水素吸着量を算出する吸着量算出手段122−4aと、HC吸着触媒に吸着したHCを脱離処理するHC吸着触媒再生制御手段122−4と、パティキュレート捕集量が所定量を上回るとフィルタの強制再生を実施するフィルタ再生制御手段122−3とを備え、HC吸着触媒再生制御手段は、フィルタの強制再生に際して炭化水素吸着量Mmon(n)が所定量を上回る場合には、該フィルタの強制再生に先立ちHC吸着触媒19の脱離処理を実施する。
【選択図】図1

Description

本発明は、内燃機関の排ガス中に含まれる有害成分を除去する排気浄化装置に関するものである。
内燃機関(以下、エンジンという)はその排気系に排気浄化装置を配備し、排ガスの無害化を図っている。この種の排気浄化装置としては、排出炭化水素(HC)抑制の手段として三元触媒や酸化触媒が採用されている。この種の三元触媒や酸化触媒は高い炭化水素(HC)浄化効率を持つものの、酸化触媒を成す貴金属はその酸化活性温度以下では触媒性能を発揮しにくい。
そこで、酸化活性温度に達しない運転域でゼオライト等にHCを吸着させ、これが酸化活性温度以上に達し、貴金属活性の後の運転域でゼオライト等に吸着しているHCを脱離かつ酸化されるように調整された比較的容量の大きなHC吸着触媒を採用し、これを排気レイアウト中に付加することで、HC浄化性能を確保している。
一方、ディーゼルエンジンの場合、リーン運転域で排出され易いNOxを浄化するNOx触媒や排出されるパティキュレートを除去するためのディーゼルパティキュレートフィルタ(以後単にフィルタと記す)が採用されている。
当該排気浄化装置では、通常エンジンの排気系の上流側に酸化触媒を設け、下流側にフィルタを設け、排ガス中のパティキュレートをフィルタに捕集する。この運転中において、排ガス温度が比較的高い運転状態にあると、酸化触媒の作用により排ガス中のNOからNOを生成し、このNOを酸化剤として利用してフィルタに捕集されたパティキュレートを焼却除去し、フィルタの連続再生を行っている。
このようなディーゼル機関は排気温度が比較的低いため、この連続再生作用が得られない運転状態が継続されて、パティキュレート堆積量が許容量を越える場合があり、このような場合には排圧が過度に上がるため、このパティキュレートを強制的に除去する必要がある。
パティキュレートを除去する手段の一つとして、例えばポスト噴射により膨張行程或いは排気行程で追加燃料を噴射し、追加燃料中のHCを燃焼させて、フィルタへ高温ガス(約600℃以上)を流入させ、フィルタ上のパティキュレートを強制的に焼却除去し、フィルタ強制再生を行っている。
ところで、HC吸着触媒は、図10に示すように、排気ガス入口温度が200℃前後であると、HCを吸着し、運転域が250℃を上回ると350℃をピークとして、高温側に達するほど触媒出口側のスリップHCの濃度(HC吸着触媒出口で示す)が増加する。この間、吸着HCの脱離が進み、排気ガス中のスリップHC濃度を高め、400℃を上回る運転域では脱離機能が低下している。
更に、図11に示すように、HC吸着触媒のHC吸着量が吸着限界に近い場合において、時点t1で加速運転に入るとHC吸着触媒の入口温度(細い実線)が急増し、続いてHC吸着触媒の前段温度(2点鎖線)が上昇し、続いてHC吸着触媒の後段温度(太い実線)が上昇を開始する。そして、45秒程度の経過後の時点t2で加速をやめ、アイドル運転に入るとする。この際、入口温度(細い実線)が急減し、前段温度(2点鎖線)は急増してから減少し、後段温度(太い実線)は過度に急増する傾向にある。
これは、HC吸着触媒上の比較的吸着限界に近い量のHCが燃焼し、前段温度(2点鎖線)はピーク後に低下し、後段温度(太い実線)はより吸着限界量に近い量のHCの過剰燃焼により、過昇温を招いているためであり、HC吸着触媒上の溶損を招く場合がある。
なお、HC吸着触媒のHC吸着量が比較的少ない場合には、時点t1で加速運転に入り、時点t2でアイドル運転に変わると、前段温度(細い破線)や後段温度(太い破線)は燃焼する吸着HCが少ないため、比較的小さなピークを経て共に低下し、過昇温の発生は防止されている。
なお、特開2004−36543号公報(特許文献1)には、触媒温度TやHC濃度HCpost等の情報に基づきHC総吸着量HCadsorbを制御周期毎に求め、HC総吸着量HCadsorbが許容量HCmaxを越えていると、ポスト噴射を禁止し、多量のHCの急燃焼による酸化触媒の過昇温を防止し、過昇温による酸化触媒の破損を未然に防止している。
特開2004−36543号公報
ところで、このようなディーゼル機関の排気系にフィルタとHC吸着触媒を併設した場合次のような問題が生じる。
ディーゼル機関はガソリン機関と比べると排気温度が低く、酸化活性温度以下での運転が継続し易い。このためHC吸着触媒にはHC吸着が過度に進行する傾向にある。このようにHC過吸着の状態での運転中において、フィルタ強制再生時期に達したとする。この際、フィルタの強制再生が行われると、高温ガス(約600℃以上)がフィルタに流入されると共に、HC吸着触媒に酸化活性温度を上回る高温ガスが流入されることとなる。すると、HC吸着触媒に吸着された多量のHCが燃焼を速め、急激かつ過度の温度上昇を引き起こすこととなり、HC吸着触媒の劣化、最悪の場合には触媒溶損を招く可能性がある。
なお、特許文献1にかかる発明では、HC総吸着量HCadsorbが許容量HCmaxを越えていると、ポスト噴射を禁止し、過昇温による酸化触媒の破損を未然に防止することができる。しかし、HC総吸着量が許容量HCadsorbに達する前の運転域において、ディーゼル機関のフィルタの強制再生制御が行われた場合、高温ガス(約600℃以上)がフィルタに流れ、同時にHC吸着触媒にも流れる。この場合、フィルタの強制再生時にHC吸着触媒の過度の温度上昇が発生しやすく、これを防止することはできず、HC吸着触媒の劣化、触媒溶損を招く可能性がある。
本発明は以上のような課題に基づきなされたもので、目的とするところは、フィルタ強制再生時におけるHC吸着触媒の過昇温を防止してから、フィルタ強制再生を行える排気浄化装置を提供することにある。
本願請求項1の発明は、内燃機関の排気系のパティキュレートを捕集するフィルタと、前記排気系に設けられ炭化水素を吸着及び脱離するHC吸着触媒と、前記フィルタへのパティキュレート捕集量を算出する捕集量算出手段と、前記HC吸着触媒への炭化水素吸着量を算出する吸着量算出手段と、前記HC吸着触媒に吸着したHCを脱離処理するHC吸着触媒再生制御手段と、前記パティキュレート捕集量が所定量を上回るとフィルタの強制再生を実施するフィルタ再生制御手段とを備え、前記HC吸着触媒再生制御手段は、前記フィルタの強制再生に際して前記炭化水素吸着量が所定量を上回る場合には、該フィルタの強制再生に先立ち前記HC吸着触媒の脱離処理を実施する、ことを特徴とする。
ここでの本願請求項2の発明は、請求項1記載の排気浄化装置において、前記HC吸着触媒を昇温させる昇温手段を更に備え、前記HC吸着触媒再生制御手段は、前記HC脱離処理において前記HC吸着触媒を酸化活性温度以上で且つ前記フィルタの強制再生温度未満に保持するよう前記昇温手段を制御することにより脱離処理を実施する、ことを特徴とする。
ここでの本願請求項3の発明は、請求項2記載の排気浄化装置において、前記昇温手段は、前記HC脱離処理においては前記内燃機関の膨張行程噴射によるHC供給である、ことを特徴とする。
ここでの本願請求項4の発明は、請求項2または3に記載の排気浄化装置において、前記HC吸着触媒の触媒容量に応じて前記HC吸着触媒を昇温する所定経過時間を設定する、ことを特徴とする。
ここでの本願請求項5の発明は、請求項1〜4の何れか1項に記載の排気浄化装置において、前記排気系の上流より前記フィルタ及び前記HC吸着触媒がこの順に配備される、ことを特徴とする。
請求項1の発明は、フィルタの強制再生制御に先立ち、予め、HC吸着触媒に所定量を上回るHCが吸着されている場合に、HC吸着触媒に吸着されていたHCを酸化且つ脱離して排除する。このため、その後に比較的高温でのフィルタの強制再生処理が行われても、その際にHC吸着触媒に過度に吸着されているHCが酸化することで過度の昇温を招くことが未然に防止され、HC吸着触媒の触媒劣化、溶損を回避することができる。
請求項2の発明は、フィルタの強制再生制御に先立ち、予め、昇温手段によりHC吸着触媒を酸化活性温度以上で、フィルタの強制再生温度未満にHC吸着触媒を保持しつつ焼却するので、この後、フィルタの強制再生制御が成された際に、HC吸着触媒にHCが吸着されてないので、HC吸着触媒が過昇温することを防止でき、触媒劣化、溶損を回避できる。
請求項3の発明は、HC吸着触媒の昇温を内燃機関の膨張行程噴射によるHC供給により行うので、供給されたHCは内燃機関の燃焼室内で燃焼され未燃HCが排気系へ供給されることがなく、HC脱離処理の度に排気系でHC燃焼を要しないので排気系の劣化を防止できる。
請求項4の発明は、HC吸着触媒の容量に応じて設定される所定経過時間の間、HC吸着触媒を強制再生温度未満に保持するようにHC供給量を制御するので、HC吸着触媒に吸着されているHCを脱離且つ酸化して排除する駆動時間を適正化でき、無駄な強制再生駆動を防止でき、フィルタの強制再生制御が過度に遅れることを防止できる。
請求項5の発明は、フィルタの強制再生時の排気ガス温度が前記HC吸着触媒の耐熱温度を上回るとしても、フィルタの下流側にHC吸着触媒を配備するので、HC吸着触媒に達するときの排気温度は比較的低下することとなるので、下流側のHC吸着触媒の溶損を防止できる。
本発明の一実施形態としての排気浄化装置の全体構成図である。 図1の排気浄化装置で用いる排気形の斜視図である。 図1の排気浄化装置で用いるHC吸着触媒内の触媒表面でのHC吸着脱離を説明する概略図で、(a)は酸化活性温度以下でのHC挙動を、(b)は酸化活性温度以上でのHC挙動を説明する図である。 図1の排気浄化装置で用いるHC供給手段がインジェクタを通常噴射モードで駆動する場合の説明図で、(a)は駆動信号を、(b)は噴射量を示す。 図1の排気浄化装置で用いるNOx還元運転制御手段、フィルタ強制再生運転制御手段及びHC吸着触媒強制再生制御手段が選択的にインジェクタをHC添加噴射モードで駆動する場合の説明図で、(a)は駆動信号を、(b)は噴射量を示す。 図1の排気浄化装置で行うHC吸着触媒再生制御でのスリップHC排出量の平時変化特性線図である。 図1の排気浄化装置で行うHC吸着触媒再生制御でのHC吸着触媒のHC吸着量がゼロに変化する時の経時特性線図である。 図1の排気浄化装置で行う再生制御ルーチンのフローチャートである。 本発明の変形例としての内燃機関の排気浄化装置で行う、HC吸着触媒のHC吸着量演算処理ブロック説明図である。 HC吸着触媒の昇温時におけるスリップHC濃度の変動特性線図である。 HC吸着触媒のHC吸着量が吸着限界に近い場合と、そうでない場合の触媒の前段、触媒の後段、触媒の入口における各昇温変化特性線図である。
以下、本発明の一実施形態としての排気浄化装置を装着する内燃機関であるディーゼルエンジン(以後単にエンジンと記す)1を図1に沿って説明する。
エンジン1は直列に4つの燃焼室3を配備し、各燃焼室3には直接燃料を噴射する燃料噴射弁8が設けられ、各燃料噴射弁8はコモンレール15(蓄圧室)に接続され、コモンレール15には燃料タンク14の燃料(軽油)が高圧燃料噴射ポンプ13によって加圧供給されており、これらが燃料供給装置MFを構成する。ここでの燃料噴射弁8は制御手段であるエンジンコントロールユニット(以下、ECUと記す)12から出力される燃料制御信号に応じてその燃料噴射量(図4ではQp+Qm)と噴射時期(図4ではtp、tm)が制御される。
各燃焼室3の一側より延びる不図示の吸気ポートは吸気マニホールド901に連通し、同吸気マニホールド901が吸気路Iを形成する吸気管9に接続される。この吸気管9はエアクリーナ11よりの吸気の量を吸気絞り弁である吸気スロットル弁33で調整してから吸気マニホールド901に導入している。なお、吸気スロットル弁33のアクチュエータ331は後述のECU12により駆動制御される。
各燃焼室3の他側より延びる不図示の排気ポートは排気マニホールド4に連通し、同排気マニホールド4には排気路Rが接続される。排気路Rは排気マニホールド4に直結された前段酸化触媒2と、排気管5と、NOx吸蔵還元触媒21と、パティキュレート除去用のフィルタ22と、後段の酸化触媒を成すHC吸着触媒19と、その下流の図示しないマフラーとを備える。
燃料供給装置MFはエンジン駆動の高圧燃料ポンプ13の高圧燃料をECU12内の燃圧制御手段121により制御される燃圧調整部141で定圧化した上でコモンレール15に導き、コモンレール15より分岐して延出する噴射管16を介し各インジェクタ8に供給している。なお、燃料供給装置MFは本発明において、昇温手段としての機能を備える。
インジェクタ8の電磁バルブ17はインジェクタドライバ10を介して噴射制御部122に接続される。同噴射制御部122は演算された燃料噴射量、噴射時期に応じた出力Dj信号を電磁バルブ17に出力し、インジェクタ8を噴射制御する。
ここで噴射制御部122はエンジン回転数Neとアクセルペダル踏込量θaに応じた燃料噴射量Ufを求める。更に噴射時期は、周知の基本進角値に運転条件に応じた補正を加えて導出される。その上で、図5に示すように、演算された噴射時期及び燃料噴射量Uf相当の出力信号(通常噴射M1、HC添加噴射M2)をインジェクタドライバ10にセットし、燃料噴射部11の電磁バルブ17に出力し、インジェクタ8の燃料噴射であるパイロット噴射Qfp(時間幅Tp),主噴射Qfm(時間幅Tm)、及び適時にアフター噴射Qfa(時間幅Ta:膨張行程での噴射)、ポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)を行う。
次に、前段酸化触媒2は排気マニホールド4に直結され、しかも、エンジンの排ガスにより効率よく早期活性化されるよう、比較的小容量に形成される。この前段酸化触媒2は、エンジン1から排出される排気中の一酸化窒素(NO)を酸素O2で酸化して高活性の二酸化窒素(NO)に生成し、すなわち、「2NO+O→2NO」の反応を促進させるもので、ここではプラチナ系酸化触媒が採用される。
排気管5の下流のNOx吸蔵還元触媒21は、流入する排気ガスの空燃比がリーンのときに、排気中のNOx(NO、NO)を吸収し、流入排気ガスがリッチになると吸収したNOxを放出するNOxの吸放出作用を行う。
即ち、このNOx吸蔵還元触媒21は、排気ガスがリーン空燃比になると、排気ガス中の酸素が白金Pt上で排気中のNOx(NOが主成分)と酸化反応を起して、NOが生成される。また、流入排気中のNOは白金Pt上で更に酸化されつつ吸収剤としての酸化バリウムBaOと結合しながら吸収剤内に拡散する。このため、リーン雰囲気下では排気中のNOxがNOx吸蔵還元触媒21内に吸収されるようになる。また、流入排気中の酸素濃度が低下すると、即ち、排気の空燃比がリッチ側に変化すると、白金Pt上でのNO生成量が減少するため、反応が逆方向に進むようになり、吸収剤内のNOxはNOの形でNOx吸蔵還元触媒21から放出されるようになる。この場合、排気中にHC、CO等の成分が存在すると白金Pt上でこれらの成分によりNOがNに還元される。
本実施形態では、エンジン1としてディーゼル機関が使用されているため機関排気は通常リーン空燃比であり、NOx吸蔵還元触媒21は排気中のNOxを吸収する。しかし、リッチ運転域が少ないことでNOx吸蔵還元触媒21の吸収NOx量が増大すると、排気中のNOxを吸収できない限界吸着状態となる。このため、吸収されたNOx量が飽和する前の早めの時期に、強制的にリッチ運転してNOx吸蔵還元触媒21からNOxを放出させ、強制的に還元浄化する必要がある。
NOx吸蔵還元触媒21の下流のパティキュレート除去用のフィルタ22は、ディーゼルエンジンの排気ガス中に含まれるカーボン等の排気微粒子(パティキュレート)を大気に放出しないよう排気通路Rに配設される。このフィルタ22はセラミック製、例えば、Mg,Al,Siを主成分とするコージェライトから成り、多数の排ガス通路r2を排気路Rの方向に向けて並列状に積層してなるハニカム構造体として形成される。ここで互いに隣合う各排ガス通路r2は交互に排気路R上流側と下流側のいずれか一方が端部23で閉鎖されるように形成される。これにより上流側に流入した排ガスは各排ガス通路r2−1の通路対向壁bを透過して排気路R下流側に出口を形成された各排ガス通路r2−2に達し、排出され、その際、排ガス中のパティキュレートが通路対向壁bによって濾過され、所定温度(500〜600℃)を上回る高温排気ガスが流入した際に焼却除去される。
フィルタ22の下流に配備された後段の酸化触媒であるHC吸着触媒19は前段酸化触媒21と比較して、十分に大きな容量を備え、酸化機能を十分に確保している。ゼオライトを主成分とし、図3(a)に示すように、酸化活性温度(例えば、250℃)未満では排ガス中のHCを吸着し、図3(b)に示すように、酸化活性温度以上では吸着していたHCを放出し、しかも、吸着HCや放出HCを酸化してCO+HOとして無害化して大気放出している。
ここで、図6や、図10に示すように、HC吸着触媒19は、通常運転時において、その雰囲気温度となる排気ガス入口温度スリップHCinが200℃前後であると、スリップHC濃度の差分がHC吸着触媒入口と出口でほとんどなく、あるいはわずかな差分d1(図10参照)である。これに対し、昇温運転に入ると、即ち、排気ガス入口温度スリップHCinが250〜400℃に昇温されると、図10に示すように、350℃前後でスリップHC濃度がHC吸着触媒入口と出口で比較的大きな差分d2(HC放出が急増)となっている。即ち、この際、脱離HCが酸化燃焼して放出されていることが明らかであり、HC吸着触媒19を250℃を上回り、400℃以下の温度領域に保持することで、確実にHC放出量を増大でき、この温度域で吸着HCの焼却除去を行うことが可能であると判断される。
一方、この排気浄化装置で用いるECU12は、その入出力回路に多数のポートを有し、吸入空気量Qaを検出するエアフローセンサ7と、エンジン1のアクセルペダル開度θaを検出するアクセルペダル開度センサ24と、クランク角情報Δθを検出するクランク角センサ25と、フィルタ22の直下流の排気温度(以後、単に排気温度gt)を検出する排気温度検出手段としての排気温度センサ26と、水温wtを検出する水温センサ27と、大気圧Paを出力する大気圧センサ28と、フィルタ22の前後差圧dPを出力する差圧センサ29とが接続される。なお、クランク角情報ΔθはECU12においてエンジン回転数Neの導出に用いられると共に燃料噴射時期(tp、tm、ta、td:図4,5参照)制御に使用される。
ECU12は各センサ24、25、26、27、28、29等よりの検出信号を採り込み、捕集量算出手段122−3a、吸着量算出手段122−4a、フィルタ強制再生制御手段122−3、及びHC吸着触媒再生制御手段122−4として機能する。即ち、ECU12は周知のエンジン制御処理機能に加え、特に、燃圧制御部121や、噴射制御部122としての機能を備えている。
特に、噴射制御部122は燃料供給装置MFの噴射制御手段122−1として、後述のECU12からの制御信号に応じてインジェクタ8を通常噴射モードM1で制御する。
更に、噴射制御部122は排ガス温度上昇と共に下流のNOx吸蔵還元触媒21のリッチ化を図り、NOxの放出と還元浄化とを行なうNOx還元運転制御手段122−2として機能する。
ここではECU12により、エンジン回転数Neとエンジン負荷としての燃料供給量Qに応じて、NOx吸蔵還元触媒21に単位時間あたり吸収されるNOx量に対応するカウント量qnを不図示のカウント量マップにより設定する。更に、そのカウント数を運転時に順次積算し、積算値が所定のしきい値を上回ると、リッチ運転指令Sを発して、NOx還元運転制御手段122−2がポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)のモードで駆動して、NOxの放出と還元浄化とを行ない、NOxの還元浄化運転を行っている。
更に、噴射制御部122はフィルタ強制再生制御手段122−3として機能する。このフィルタ強制再生制御手段122−3はフィルタ22の堆積量(フィルタへのパティキュレート捕集量)Msを算出する捕集量算出手段122−3aとしての機能を内蔵する。
ここで、フィルタ22の堆積量Msは、フィルタの前後の差圧dp及び排気流量と相関する。このため、捕集量算出手段122−3aは、所定の排気流量における前後の差圧dpを求め、これよりフィルタの堆積量Msを算出している。
特に、フィルタ強制再生制御手段122−3は排気流量が所定の値となる運転域での差圧dpがしきい値を上回ると、フィルタ22のパティキュレートが限界堆積量に達したと判断する。この際、フィルタ強制再生制御手段122−3はフィルタ強制再生指令Sdpfを発するに先立ち、まず、HC吸着触媒19を酸化活性温度以上に所定経過時間Tdriだけ昇温すべく、この所定経過時間Tdriの間、HC吸着触媒駆動指令Swaitを出力し、その後にフィルタ強制再生指令Sdpfを発する。
そして、フィルタ強制再生指令Sdpfが出力されると、フィルタ強制再生制御手段122−3はポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)のモードM2d(図5参照)でインジェクタ8を駆動して、焼却温度(500〜600℃)を上回る高温排気ガスを強制的にフィルタ22に流入して、パティキュレートの焼却除去を行なっている。
更に、噴射制御部122はHC吸着触媒再生制御手段122−4として機能する。ここで、HC吸着触媒19は排気系の最下流側に位置し、排気中のHCを吸着及び酸化・脱離する機能を有する。しかし、排気温度が低い運転域が続くと吸着HCの増加が進み、上流に位置するフィルタの強制再生運転が実施された場合に耐熱温度を超えて過昇温を生じる吸着状態となる。さらに吸着が進行すると、排気中のHCを吸収できない限界吸着状態となる。このため、パティキュレート捕集量が限界捕集量に達した時に吸着されたHC量がフィルタ強制再生時に過昇温を生じる所定量を超えていた場合は、フィルタ強制再生前に強制的に吸着HCの焼却を行いHC吸着触媒19からHCを酸化・脱離させる必要がある。またHC吸着触媒の限界吸着量に達する場合は、フィルタ強制再生に関わらず飽和する前の時期に強制的に吸着HCの焼却を行い、HC吸着触媒19からHCを酸化・脱離させるようにしても良い。
そこで、HC吸着触媒再生制御手段122−4は吸着量算出手段122−4aとしてHC吸着量を演算する機能を備える。そこで、HC吸着触媒再生制御手段122−4は、パティキュレート捕集量が限界堆積量に達しているとの情報を受けた場合に、この時点での最新のHC吸着量がHC吸着触媒の限界吸着量に達するか判断し、限界吸着量に達すると判断した場合にはHC吸着触媒再生指令Strを発する。
ここで、HC吸着触媒再生制御手段122−4の一機能部である吸着量算出手段122−4aはHC吸着量を演算する。
ここでは予め、HC吸着触媒19の入口でのHC濃度Mhcinを入口HC濃度センサ36により検出し、出口でのHC濃度Mhcoutを出口HC濃度センサ37により検出し、両データを取り込む。更に、エアフローセンサ7により吸気質量流量Qair(n)を取り込む。その上で、排気ガスのモル換算係数Kmolと前回のHC吸着量Mmon(n−1)とを用い、下式(1)で今回のHC吸着量Mmon(n)を演算する。
Mmon(n)=Mmon(n−1)+[{Mhcin―Mhcout}
×Qair(n)×Kmol]×dt・・・・(1)
ここでは入口HC濃度センサ36の入口HC濃度Mhcinと出口HC濃度センサ37の出口HC濃度Mhcoutとの実測値を基に、式(1)を用いて各制御周期dt毎に今回のHC吸着量Mmon(n)を演算している。
このHC吸着量Mmon(n)を演算した上で、更に、HC吸着触媒再生制御手段122−4は次のように機能する。
図7に示すように、HC吸着触媒では入口HC濃度Mhcinに対して出口HC濃度Mhcoutが相対的に低く、この差分dHCが当初は大きく、吸着HCの堆積量が増加すると、吸着許容量が低減し、即ち、吸着せず、入口HC濃度Mhcinに対して出口HC濃度Mhcoutが接近し、吸着量がゼロで入口HC濃度Mhcinと出口HC濃度Mhcoutが一致することとなる。このため、差分dHCを求めることで、HC吸着触媒の吸着許容量が判定でき、即ち、図7に示すように、所定量または限界吸着量に達する時期tfを判断できる。
更に、HC吸着触媒再生制御手段122−4は、限界吸着量に達する時期tfに基づき、HC吸着触媒再生指令Strを発してもよい。この際、HC吸着触媒再生制御手段122−4は燃料供給装置MFを昇温手段として噴射制御する機能を備える。即ち、インジェクタ8をアフター噴射Qfa(時間幅Ta:膨張行程での噴射)で駆動している。これにより、内燃機関の燃焼室より排出される排ガス温度が250℃を上回るよう昇温する。この際、特に、昇温された排気ガスがNOx吸蔵還元触媒21及びフィルタ22を通過してHC吸着触媒19に達し、ここで、HC吸着触媒19に吸着されていたHCを酸化活性温度以上(250℃以上)でフィルタの強制再生温度未満である500〜600℃未満に、ここでは400℃未満に保持するよう噴射制御する。
更に、HC吸着触媒再生制御手段122−4はこのような酸化活性温度以上の昇温制御をHC吸着触媒の容量に応じ、予め設定した経過時間行う。例えば、10秒の間、インジェクタ8をアフター噴射Qfaで駆動し、吸着HCの排除が完了したとみなされる、10秒の経過時に停止する。
この直後に、フィルタ強制再生指令Sフィルタが出力され、フィルタ強制再生制御手段122−3がポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)でインジェクタ8を駆動する。この際、焼却温度(500〜600℃)を上回る高温排気ガスを強制的にフィルタ22に流入して、パティキュレートの焼却除去を行なう。この時、その下流のHC吸着触媒にも焼却温度(500〜600℃)を下回るが高温排気ガスが流入する。しかし、HC吸着触媒19からは予め吸着HCが排除されており、HC吸着触媒で吸着HCが燃焼して過昇温が生じることは無く、過度の昇温でHC吸着触媒が溶損するということを未然に防止できる。
次に、ECUが不図示のメインルーチンの途中の所定の時点で行うフィルタ強制再生及びHC吸着触媒再生制御処理を図8の再生制御ルーチンに沿って説明する。
この再生制御ルーチンに先立ち不図示のメインルーチンでは各種の運転情報データを取り込み、所定の格納エリアにストアしている。しかも、内燃機関が通常運転中にあると、燃圧制御部121や噴射制御部122のHC供給手段122−1がインジェクタ8を通常噴射モードM1で制御している。
各制御周期dt毎にその制御処理の途中で再生制御ルーチンのステップs1に達すると、今回のHC吸着量Mmon(n)を取り込む。なお、今回のHC吸着量Mmon(n)は不図示のメインルーチンの途中で予め、入口HC濃度センサ36の入口HC濃度Mhcinと出口HC濃度センサ37の出口HC濃度Mhcoutとの実測値を基に、式(1)を用いて演算されている。
ステップs2に達すると、今回の制御周期dtでのフィルタ22の堆積量Msを取り込む。この値は、不図示のメインルーチンの途中で予め、排気流量が所定の値となる運転域での差圧dpがしきい値を上回るか否か判断する。この際、フィルタ22のパティキュレートが限界堆積量DPFfに達したと判断した場合はステップs3に進む。達していないと、この場合は今回の再生制御ルーチンの制御を終えて、メインルーチンに戻る。
ステップs3に達すると、ここではステップs1で取り込んだ、モニタ量であるHC吸着量Mmon(n)の値がHC吸着触媒の容量に応じた設定値である限界吸着量Mmon1を上回るか否か判断し、上回ることが無い状態の間は直接ステップs7に進み、限界吸着量Mmon1を上回る状態にあると、その時点t−aを限界吸着量に達した時期tf(フィルタが限界堆積量DPFfに達している時点)と見做して、HC吸着触媒再生指令Strを発し、ステップs4に進む。
ステップs4ではHC吸着触媒再生制御手段122−4として、インジェクタ8をアフター噴射Qfa(時間幅Ta:膨張行程での噴射)で駆動し、燃焼室へ膨張行程でHCを供給し、内燃機関の燃焼室より排出される排ガス温度が250℃を上回ると共に400℃未満を保持するよう昇温する。この昇温された排気ガスがNOx吸蔵還元触媒21及びフィルタ22を通過してHC吸着触媒19に達し、ここで、HC吸着触媒19に吸着されていたHCを酸化活性温度以上(250℃以上)に加熱して、焼却する。この際の加熱温度は酸化活性温度以上であって、フィルタの強制再生温度(500〜600℃)未満に、ここでは400℃未満に保持するよう噴射制御する。
このような酸化活性温度以上の昇温制御によりHC吸着触媒から吸着HCが脱離すると共に酸化焼却される。この際、HC吸着触媒19の出口での排出量は、例えば、図6に示す時点t−aから増加し、吸着HCの入口と出口での排出量変化がゼロとなる時点t−bを越えると、吸着HCの焼却処理を休止する状態となる。ここで、時点t−aから時点t−bに達するまでの時間はHC吸着触媒19の容量に応じた値となり、例えば、10秒程度となる。
そこで、このHC吸着触媒の容量に応じて設定される所定経過時間である、例えば、10秒の間、HC吸着触媒19を酸化活性温度以上(250℃以上)でフィルタ22の強制再生温度未満での加熱制御を行うことで、HC吸着触媒19の強制再生時間を適正化できる。これにより無駄な強制再生駆動を防止でき、この後のフィルタ22の強制再生制御が過度に遅れることを防止できる。
このHC吸着触媒19の強制再生中において、排気ガス温度はフィルタの強制再生温度未満であるので、パティキュレートの焼却は行われず、この点よりHC吸着触媒19が過度に昇温することは防止される。
ステップs5に達すると、ここでは予め設定した経過時間、例えば、HC吸着触媒再生指令Str後の積算時間Twが待ち時間Twを経過したか否か判断し、時間待ちの間、インジェクタ8がアフター噴射Qfaで駆動し、10秒の経過時にアフター噴射Qfaの駆動を停止し、ステップs6に進む。
ステップs5あるいはステップs3よりステップs6に達するとする。
ここでは、すでにフィルタ22のパティキュレートが限界堆積量に達したと判断しているので、フィルタ強制再生制御手段122−3がポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)でインジェクタ8を駆動し、焼却温度(500〜600℃)を上回る高温排気ガスを強制的にフィルタ22に流入して、パティキュレートの焼却除去を行なう。
次いで、ステップs7に達すると、フィルタ22の容量に基づき設定された強制再生時間の経過、及び、排気流量が所定の値となる運転域での差圧dpが所定の再生完了差圧dp0に達したことを検出すると、フィルタ強制再生指令Sdpfを停止し、インジェクタ8をポスト噴射Qfd(時間幅Td:排気行程での噴射)より、通常噴射モードM1に戻し、不図示のメインルーチンに戻る。
このような図8の再生制御ルーチンに沿ってフィルタ強制再生及びHC吸着触媒再生制御を行う場合、予め、HC吸着触媒に設定量を上回るHCが吸着されているとしても、このフィルタの強制再生制御に先立ちHCを酸化且つ脱離して排除するようにしている。このため、その後に比較的高温(500℃〜600℃)でのフィルタ22の強制再生処理が行われても、その際にHC吸着触媒に過度に吸着されているHCが酸化することで過度の昇温を招くことが未然に防止され、HC吸着触媒の触媒劣化、溶損を回避することができる。
しかも、フィルタ22の強制再生時の排気ガス温度がHC吸着触媒19の耐熱温度を上回るとしても、フィルタ22の下流側にHC吸着触媒19を配備するので、HC吸着触媒19に達するまでに排気系の外壁部材からの外気放熱が進み、排気温度は比較的低下することとなるので、この点からも、下流側のHC吸着触媒19の溶損を防止できる。
図1の内燃機関の排気浄化装置ではステップs1で式(1)を用いて読み取るHC吸着量Mmon(n)が前回値と変化しない、即ち、新たなHC吸着量がゼロとなる時点tf(図7参照)に達した場合、以後のHC吸着触媒のHC吸着能力が無くなり、HCの放出が生じることとなるため、この時期tfがHC吸着触媒に吸着する吸着HCの焼却時期と適正に判断できる。そこで、ステップs4に達すると、HC吸着触媒再生制御手段122−4として、インジェクタ8をアフター噴射Qfa(時間幅Ta:膨張行程での噴射)で駆動し、排ガス温度を250℃を上回ると共に400℃未満に保持するよう昇温する。これにより、HC吸着触媒上の吸着限界量に近いHCを過度な昇温を招くことなく速やかに焼却排除することで、HC吸着触媒の溶損を未然に防止できる。
上述のところにおいて、図1の内燃機関の排気浄化装置では、入口HC濃度センサ36の入口HC濃度Mhcinと出口HC濃度センサ37の出口HC濃度Mhcoutとの実測値を基に、式(1)を用いてHC吸着量Mmon(n)を読み取っていたが、これに代えて、推測値を用いて演算したHC吸着量Mmon(n)を読み取ってもよい。
この場合、図1の内燃機関の排気浄化装置で用いるHC吸着触媒強制再生制御手段122−4’は図9に示す推定演算処理により、HC吸着量Mmon(n)を下記の式(2)を用いて算出する。
ここで式(2)で用いる推定値を説明する。まず、HC吸着触媒へのHC流入量Min(n)を、エンジン回転数Ne及び吸気質量流量QFINを引数としたマップm−1で付与し、前段酸化触媒2のHC浄化効率ηoxi(n)を空燃比センサ41(図1に2点差線で示す)の空燃比平均値AFSAV及び前段酸化触媒2の上流触媒温度Tc(図1に2点差線で示す上流触媒温度センサ42を用いる)を引数としたマップm−2で付与している。
更に、HC吸着触媒のHC吸着効率ηad(n)を空燃比センサの空燃比AFSAV及びHC吸着触媒19の触媒温度スリップHCを引数としたマップm−3で付与し、HC酸化・脱離量Mdesorp(n)を空燃比センサの空燃比平均値AFSAV及びHC吸着触媒19の触媒温度スリップHCを引数としたマップm−4で付与している。
HC吸着量Mmon(n)=HC吸着量Mmon(n−1)+Min(n)
×{1−ηoxi(n)}×ηad(n)―Mdesorp(n)・・・(2)
即ち、HC吸着触媒強制再生制御手段122−4’で用いる式(2)では、エンジン回転数Ne、吸気質量流量QFIN、前段酸化触媒2のHC浄化効率ηoxi(n)、空燃比平均値AFSAV、前段酸化触媒2の上流触媒温度Tc、HC吸着触媒19のHC吸着効率ηad(n)、排気ガスの空燃比平均値AFSAV、HC吸着触媒19の触媒温度スリップHCを読み込む。
その上で、排気系へのHC流入量Min(n)に対し、前段酸化触媒2でのHC浄化分を減算した値:「Min(n)×{1−ηoxi(n)}」を求める。更に、この減算した値に対し、ηad(n)を乗算することでHC吸着触媒19での吸着分を求める。更に、このHC吸着触媒19での吸着分:「Min(n)×{1−ηoxi(n)}×ηad(n)」よりHC吸着触媒19でのHC酸化・脱離量Mdesorp(n)を減算してHC吸着触媒19に今回残留する吸着量を求める。その上で、この残留吸着量を前回のHC吸着量Mmon(n−1)に加算して、今回のHC吸着量Mmon(n)を求め、更新している。
このような推定値を用いた場合も、実測値を基に式(1)を用いてHC吸着量Mmon(n)を演算した場合とほぼ同様のHC吸着量Mmon(n)を求められ、図8の再生制御ルーチンに沿ってフィルタ強制再生及びHC吸着触媒再生制御を同様に行うことができる。これによって、HCの放出を防止し、吸着HCの焼却時期を適正に検出でき、HC吸着触媒に吸着限界量に近い吸着HCを速やかに排除することで、過昇温の発生によりHC吸着触媒の溶損を未然に防止できる。
1 エンジン(内燃機関)
2 前段酸化触媒
8 インジェクタ
12 制御手段(ECU)
122 噴射制御部
122−1 HC供給手段
122−2 NOx還元運転制御手段
122−3 フィルタ強制再生制御手段
122−3a 捕集量算出手段
122−4 HC吸着触媒再生制御手段
122−4a 吸着量算出手段
19 HC吸着触媒
21 NOx吸蔵還元触媒
22 フィルタ
29 差圧センサ
dP 前後差圧
M1 通常噴射モード
M2 HC添加噴射
MF HC供給手段
Mmon(n) HC吸着量
Qfa ポスト噴射
R 排気系
Tdri 所定経過時間

Claims (5)

  1. 内燃機関の排気系のパティキュレートを捕集するフィルタと、
    前記排気系に設けられ炭化水素を吸着及び脱離するHC吸着触媒と、
    前記フィルタへのパティキュレート捕集量を算出する捕集量算出手段と、
    前記HC吸着触媒への炭化水素吸着量を算出する吸着量算出手段と、
    前記HC吸着触媒に吸着したHCを脱離処理するHC吸着触媒再生制御手段と、
    前記パティキュレート捕集量が所定量を上回るとフィルタの強制再生を実施するフィルタ再生制御手段とを備え、
    前記HC吸着触媒再生制御手段は、前記フィルタの強制再生に際して前記炭化水素吸着量が所定量を上回る場合には、該フィルタの強制再生に先立ち前記HC吸着触媒の脱離処理を実施する、
    ことを特徴とする排気浄化装置。
  2. 前記HC吸着触媒を昇温させる昇温手段を更に備え、
    前記HC吸着触媒再生制御手段は、前記HC脱離処理において前記HC吸着触媒を酸化活性温度以上で且つ前記フィルタの強制再生温度未満に保持するよう前記昇温手段を制御することにより脱離処理を実施する、
    ことを特徴とする請求項1記載の排気浄化装置。
  3. 前記昇温手段は、前記HC脱離処理においては前記内燃機関の膨張行程噴射によるHC供給である、
    ことを特徴とする請求項2記載の排気浄化装置。
  4. 前記HC吸着触媒の触媒容量に応じて前記HC吸着触媒を昇温する所定経過時間を設定する、
    ことを特徴とする請求項2または3に記載の排気浄化装置。
  5. 前記排気系の上流より前記フィルタ及び前記HC吸着触媒がこの順に配備される、
    ことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の排気浄化装置。
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