JP2010253779A - ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 - Google Patents
ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010253779A JP2010253779A JP2009105769A JP2009105769A JP2010253779A JP 2010253779 A JP2010253779 A JP 2010253779A JP 2009105769 A JP2009105769 A JP 2009105769A JP 2009105769 A JP2009105769 A JP 2009105769A JP 2010253779 A JP2010253779 A JP 2010253779A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- layer
- laminate
- ionizing radiation
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
- Synthetic Leather, Interior Materials Or Flexible Sheet Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】紙基材と合成樹脂層とからなるシート状積層体であって、前記合成樹脂層の外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたことを特徴とする、シート状積層体である。
【選択図】なし
Description
更に、ホログラム模様などのナノオーダーの凹凸模様が形成されたシート状積層体を工程剥離紙として使用して製造された合成皮革を提供することを目的とする。
更に、上記工程剥離紙を用いて製造された合成皮革を提供するものである。
本発明のシート状積層体は、ナノオーダーの凹凸模様のネガタイプを表面に形成させて工程剥離紙として使用することができる。この工程剥離紙を使用し、ポジタイプの凹凸模様を表面に有する合成皮革を容易に製造することができる。
本発明のシート状積層体が、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体からなる電離放射線硬化樹脂層を有する場合には、耐溶剤性、賦型性、離型性に優れるため、工程剥離紙として複数回の再使用が可能であり、経済的である。
前記合成樹脂層の外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたことを特徴とする、シート状積層体である。前記合成樹脂層は、ポリオレフィン系樹脂層であってもよく、電離放射線硬化樹脂層と最外層として構成された熱硬化シリコーン層との2層以上の多層からなるものであってもよい。本発明の好適な態様の一例を示す図1を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。
本発明のシート状積層体は、紙基材と合成樹脂層とからなる。用途に応じて、適宜選択することができる。合成樹脂層は、単層でよいが2層以上の多層であってもよい。本発明では、紙基材(10)と合成樹脂層との間に中間層が形成されていてもよい。
本発明で使用する紙基材は、合成樹脂層や中間層を積層する工程に耐える強度を有し、かつ深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成しうる機械的強度を有し、かつエンボス加工が容易であることが必要である。クラフト紙、上質紙、片艶クラフト紙、純白ロール紙、グラシン紙、カップ原紙などの非塗工紙の他、天然パルプを用いない合成紙なども用いることができる。合成皮革の加工適性のためには、耐久性、耐熱性に優れる点で天然パルプからなる紙を使用することが好ましい。また、深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成しうる平滑性を有することが好ましく、例えば、前記したように、紙基材(10)と、電離放射線硬化樹脂層(30)との間に中間層(20)が形成される場合には、紙基材(10)に熱可塑性樹脂などの中間層をキャストコーターで塗工し、回転するキャストドラムの表面光沢度が75°反射で90以上の鏡面を前記塗工面に転写して得られるキャストコート紙などを紙基材と中間層との積層体として使用することもできる。
本発明のシート状積層体は、紙基材と合成樹脂層とからなり、合成樹脂層としてはポリオレフィン系樹脂であってもよい。
(4)電離放射線硬化樹脂層
本発明のシート状積層体は、その用途により合成樹脂層を適宜選択することができる。例えば、合成樹脂層を電離放射線硬化樹脂層と熱硬化シリコーン層とから構成すれば、合成皮革などを製造する際の工程剥離紙として使用することができる。このようなシート状積層体は、電離放射線硬化樹脂層によってエンボス賦型性を、熱硬化シリコーン層によって離型性を確保することができる。
本発明の電離放射線硬化性組成物は、重量平均分子量(Mw)が5,000〜200,000であり、分散比(Mw/Mn)が1.0〜5.0であり、ガラス転移点温度(Tg)が40〜150℃の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)を含む。(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)のTgが40℃より低いと、未硬化の膜にタックが発生し、シートの巻き取りが損なわれる場合がある。一方、150℃を超えると、硬化後の可撓性が損なわれる場合がある。本発明に規定するTgの測定は、後記する実施例に記載する方法で測定するものとする。
本発明で用いる熱硬化シリコーン層は、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび白金系硬化触媒からなる熱硬化性シリコーン組成物を熱硬化して形成したものを好適に使用することができる。
以上のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンの分子量は特に限定されないが、一般的には3,500〜20,000の範囲が好適である。これらのアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは市場から入手でき本発明で容易に使用することができる。
本発明で使用する熱硬化性シリコーン組成物は、強度等の充分な皮膜物性を得るために硬化性を必要とする。
本発明のシート状積層体が、工程剥離紙として使用される場合には、紙基材と前記電離放射線硬化樹脂層との間に中間層が形成されることが好ましい。中間層は、単層に限らず2層以上の多層であってもよく、耐熱性、平滑性、耐溶剤性、目止め層としての効果を確保することができる。このような中間層としては、熱可塑性樹脂層や、バインダー樹脂と無機顔料との混合物層から構成されるものであってもよい。更に、前記熱可塑性樹脂は、2種以上の熱可塑性樹脂を使用して、2層以上の多層としてもよい。
使用しうる熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂の他、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン系樹脂などのポリオレフィン系樹脂、その他、シリコーン系樹脂、アミノアルキッドを含むアルキッド系樹脂などが例示される。この中でも、ポリプロピレン系樹脂やポリメチルペンテン系樹脂は、耐熱性、加工性に優れる点で好ましい。
混合物層としては、バインダー樹脂に対して無機顔料を0.5〜50質量%含有したものを好適に使用することができる。これにより耐溶剤性などの目止め効果を確保することができる。バインダー樹脂としては、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、スチレンアクリル樹脂、セルロース誘導体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、アミノアルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、SBRなどの合成ラテックス、天然ゴム、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン系重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系重合体、メチルメタアクリレート−ブタジエン系重合体、2−ビニルピリジン−スチレン−ブタジエン系重合体、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリレート系重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル共重合体、酢ビ−エチレン系共重合体、アクリレート−スチレン系重合体、ポリエチレン、塩化ビニル系重合体、塩化ビニリデン系重合体、エポキシ含有樹脂などを好適に使用することができる。これらは、2種以上を混合して使用してもよい。
(7)深さ1〜10000nmの凹凸模様
本発明では、前記合成樹脂層の外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成することを特徴とする。本発明のシート状積層体は、合成皮革を製造する際の工程剥離紙として使用することができ、シート状積層体に深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成することで、合成皮革に前記凹凸模様を転写することができる。
本発明では、紙基材と合成樹脂層とを積層してエンボス加工前積層物を調製し、このエンボス加工前積層物に深さ1〜10000nmの凹凸模様からなるエンボス加工を行ってもよいし、紙基材に合成樹脂を溶融押出ししつつ連続的に加熱プレス法によってエンボス加工を行ってもよい。
予め紙基材に合成樹脂層を形成してエンボス加工前積層物を調製し、このエンボス加工前積層物にエンボスロールを使用してエンボス加工を行う方法である。特に、紙基材に中間層を形成し、次いで電離放射線硬化性組成物と熱硬化性シリコーン組成物とを積層してなるシート状積層体の場合は、予めエンボス加工前積層物を製造し、これにエンボス加工を行い、次いで電離放射線硬化処理を行うことで、外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたシート状積層体を製造することができる。上記層構成のシート状積層体は、合成皮革を製造する際の工程剥離紙などとして有効に使用することができるが、複製原版に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されていても、電離放射線硬化性組成物および熱硬化性シリコーン組成物にその凹凸模様が転写されない場合には、これを工程剥離紙として使用して複製原版と同じ深さ1〜10000nmの凹凸模様の合成皮革を製造することができない。本発明者らは、工程剥離紙の層構成、エンボス加工条件などを詳細に検討した結果、紙基材に電離放射線硬化性組成物を塗工し、次いで前記電離放射線硬化性組成物層に、乾燥時塗工量として10-6〜1g/m2で熱硬化性シリコーン組成物を塗工してエンボス加工前積層物を得る工程、前記エンボス加工前積層物を、深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたエンボスロールとペーパーロールとを用いて、温度40〜180℃でエンボス加工する工程、ついでエンボス加工した積層物に電離放射線硬化処理を行うことで得られることを見出した。なお、紙基材には熱可塑性樹脂などからなる中間層を積層してもよく、このような紙基材と中間層とが積層された部材としてキャストコート紙を使用し、キャストコート層に合成樹脂層として、電離放射線硬化性組成物と熱硬化性シリコーン組成物と積層し、またはポリオレフィン系樹脂層を積層して調製することもできる。このような、深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成しうる合成皮革を製造する際に好適に使用できる工程剥離紙は、以下の方法によって製造することができる。
本発明のシート状積層体は、合成樹脂として前記したポリオレフィン系樹脂などを使用する場合には、紙基材に合成樹脂を溶融押出ししつつ連続的に加熱プレス法によってエンボス加工を行い、連続的に製造することができる。なお、本発明における連続製法とは、紙基材と合成樹脂層とからなる積層材を製造する工程と、深さ1〜10000nmの凹凸模様を形成する工程とが連続的に行われるものを意味する。前記したエンボス加工前積層物を調製して一旦巻き取り、ついでエンボス加工前積層物を基材供給ロールから引き出してエンボス加工する方法と区別する便宜的な名称である。
本発明のシート状積層体が、紙基材、中間層、電離放射線硬化樹脂層と熱硬化シリコーン層とからなる場合には、合成皮革製造用の工程剥離紙として好適に使用することができる。工程剥離紙を製造する際のエンボス原版として、ホログラム模様などの、ポジタイプの深さ1〜10000nmの凹凸模様を使用した場合には、工程剥離紙には、上記凹凸模様のネガパターンが形成される。したがって、この工程剥離紙を使用して合成皮革を製造すると、原版と同じポジタイプの凹凸模様を表面に有する合成皮革を製造することができる。本発明の工程剥離紙は、上記によってホログラム模様などの深さ1〜10000nmの凹凸模様を有するため、表面に、ホログラム模様などの深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成された合成皮革を製造することができる。
(合成例1)
撹拌機、滴下ロート、還流冷却器、窒素ガス導入管及び温度計を備えたガラスフラスコに、モノマーとしてメチルメタクリレートを30g、グリシジルメタクリレート70gと、溶剤としてメチルエチルケトン90gを入れて80℃に加熱した後、ここに重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.0gをメチルエチルケトン12gに溶解した溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で3時間重合させ、エポキシ基を有する共重合体A1のメチルエチルケトン溶液(固形分50.1%)を得た。続いて、80℃を保ったまま、乾燥空気を吹き込みながらハイドロキノンモノメチルエーテル0.05g、トリフェニルホスフィン1.0g、アクリル酸25g、メチルエチルケトン25gを加え、そのまま35時間反応させ、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分50.6%、Mn=11000、Mw=21000)を得た。該共重合体のガラス転移温度は、62℃であり、二重結合量は3.6であった。結果を表1に示す。
表1、表2に示す原料に変更する以外は合成例1と同様に重合及び反応を行い、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分50.8%)を得た。該共重合体の重量平均分子量、数平均分子量、ガラス転移温度、二重結合量を表1、表2に示す。なお、合成例8のみ、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)の使用量を2.6gに変更して、重量平均分子量を変化させた。
IBX:イソボルニルメタクリレート、
MMA:メチルメタクリレート、
BMA:ブチルメタクリレート、
IBMA:イソブチルメタクリレート、
GMA:グリシジルメタクリレート、
AA:アクリル酸、
Mn:数平均分子量、
Mw:重量平均分子量、
(ii) カラム温度; 40℃
(iii)溶離液 ; テトラヒドロフラン(THF)
(iv) 検出器 ; RI
(v) 検出器温度; 40℃
(vi) 標準物質 ; ポリスチレン
(2)二重結合当量は、組成比から換算した。
(合成例14)
アルケニル基含有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの混合物からなる付加重合型シリコーン材料の主剤(信越化学工業株式会社製、KS−3603)100質量部と白金系硬化触媒からなる硬化剤(信越化学工業株式会社製、CAT−PL−50T)0.1質量部、希釈溶剤としてトルエンを固形分濃度が10質量%となるように添加して、熱硬化シリコーン電離放射線硬化性組成物を調製した。
合成例1の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体100質量部につき光重合開始剤(チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア184)を3質量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトンを固形分濃度が30質量%となるように添加し電離放射線硬化性組成物を作製した。
合成例1の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体に代えて、合成例2〜9、および合成例13の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体を使用した以外は実験例1と同様に操作してシート状積層体を作成し、実験例1と同様に工程剥離紙の繰返し使用に対する剥離強度を評価した。
(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体のコーティングと紫外線照射とを行なわない以外は、実施例1と同様に操作しシート状積層体を調製した。
20・・・中間層、
30・・・電離放射線硬化樹脂層、
40・・・熱硬化シリコーン層、
13・・・エンボス加工前積層物の基材供給ロール、
15・・・基材供給ロール、
17・・・連続製法における基材、
19・・・エンボス加工前積層物、
50・・・合成樹脂、
60・・・複製原版、
73・・・ニップロール、
75・・・エンボスロール、
80・・・溶融押出成型機
Claims (16)
- 紙基材と合成樹脂層とからなるシート状積層体であって、
前記合成樹脂層の外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたことを特徴とする、シート状積層体。 - 前記合成樹脂層が、電離放射線硬化樹脂層と熱硬化シリコーン層とからなり、
紙基材、電離放射線硬化樹脂層、熱硬化シリコーン層の順に積層されたものである、請求項1記載のシート状積層体。 - 前記熱硬化シリコーン層は、乾燥時塗工量が10-6〜1g/m2であることを特徴とする、請求項2記載のシート状積層体。
- 前記熱硬化シリコーン層は、付加重合型シリコーン樹脂からなることを特徴とする、請求項2または3記載のシート状積層体。
- 前記熱硬化シリコーン層は、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび白金系硬化触媒からなる熱硬化性シリコーン組成物を熱硬化して形成したものである、請求項2〜4のいずれかに記載のシート状積層体。
- 前記電離放射線硬化膜は、重量平均分子量(Mw)が5,000〜200,000であり、分散比(Mw/Mn)が1.0〜5.0であり、ガラス転移点温度(Tg)が40〜150℃である(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)からなる電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものである、請求項2〜5のいずれかに記載のシート状積層体。
- 前記(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)は、(メタ)アクリレート系単量体単位(A)とエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)とを含むエポキシ基含有共重合体(C)に、(メタ)アクリル酸を反応させてなる共重合体である、請求項6記載のシート状積層体。
- 前記アクリル系共重合体は、二重結合当量が0.5〜4.5である請求項7記載のシート状積層体。
- 前記電離放射線硬化膜は、(メタ)アクリル酸エステル35〜80質量部、グリシジル(メタ)アクリル酸エステル20〜60質量部、他の(メタ)アクリル酸エステル0〜30質量部からなる共重合体に、(メタ)アクリル酸を10〜30質量部反応させてなる(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(II)からなる電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものである、請求項2〜8のいずれかに記載のシート状積層体。
- 前記電離放射線硬化膜は、無機顔料を0.5〜50質量%の範囲で含有するものである、請求項2〜9のいずれかに記載のシート状積層体。
- 前記合成樹脂層が、ポリオレフィン系樹脂層である、請求項1記載のシート状積層体。
- 前記紙基材と合成樹脂層との間に中間層が形成されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載のシート状積層体。
- 前記深さ1〜10000nmの凹凸模様は、ホログラム模様のネガパターンを構成するものである、請求項1〜12のいずれかに記載のシート状積層体。
- 請求項1〜13のいずれかに記載のシート状積層体からなる、合成皮革製造用の工程剥離紙。
- 請求項14記載の工程剥離紙を用いて製造された合成皮革。
- 表面処理した紙基材に電離放射線硬化性組成物を塗工し、次いで前記電離放射線硬化性組成物層に、乾燥時塗工量として10-6〜1g/m2で熱硬化性シリコーン組成物を塗工してエンボス加工前積層物を得る工程、
前記エンボス加工前積層物を、深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたエンボスロールとペーパーロールとを用いて、温度40〜180℃でエンボス加工する工程、
ついでエンボス加工した積層物に電離放射線硬化処理を行うことを特徴とする、外表面に深さ1〜10000nmの凹凸模様が形成されたシート状積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009105769A JP5287471B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009105769A JP5287471B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010253779A true JP2010253779A (ja) | 2010-11-11 |
JP5287471B2 JP5287471B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=43315275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009105769A Expired - Fee Related JP5287471B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5287471B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012172279A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 合成皮革製造用離型紙 |
JP2017026917A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢シート、賦型シート、及び回折光沢シートの製造方法 |
JP2017061161A (ja) * | 2015-04-17 | 2017-03-30 | 大日本印刷株式会社 | 離型シートおよび樹脂皮革 |
JP2018104844A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 大日本印刷株式会社 | 離型紙、合成皮革、および離型紙の製造方法 |
JP2018171886A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 大日本印刷株式会社 | 大柄凹凸模様と微細柄凹凸模様を同時に賦型する賦型シートの製造方法及び該製造方法で作製された賦型シート |
JP2020055133A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-09 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦型用離型紙 |
JP2023021526A (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-14 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦形用離型紙 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH037341A (ja) * | 1989-03-27 | 1991-01-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 湿式不飽和ポリエステル化粧板用賦形シート |
JPH0465237A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦形シート |
JPH05238196A (ja) * | 1991-05-02 | 1993-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦型シート及びその製造方法 |
JPH07186352A (ja) * | 1989-03-27 | 1995-07-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦形シート |
WO2007091593A1 (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | エンボス離型シートの原反、エンボス離型シート、エンボス離型シートの原反の製造方法、エンボス離型シートの製造方法、エンボス離型シートの製造装置、合成皮革、及び合成皮革の製造方法 |
JP2008087322A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス付き工程離型紙 |
JP2008535702A (ja) * | 2005-04-13 | 2008-09-04 | オーファウデー キネグラム アーゲー | 転写フィルム |
WO2009044865A1 (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-09 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | エンボス付き離型紙およびその製造方法 |
-
2009
- 2009-04-24 JP JP2009105769A patent/JP5287471B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH037341A (ja) * | 1989-03-27 | 1991-01-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 湿式不飽和ポリエステル化粧板用賦形シート |
JPH07186352A (ja) * | 1989-03-27 | 1995-07-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦形シート |
JPH0465237A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦形シート |
JPH05238196A (ja) * | 1991-05-02 | 1993-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 賦型シート及びその製造方法 |
JP2008535702A (ja) * | 2005-04-13 | 2008-09-04 | オーファウデー キネグラム アーゲー | 転写フィルム |
WO2007091593A1 (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | エンボス離型シートの原反、エンボス離型シート、エンボス離型シートの原反の製造方法、エンボス離型シートの製造方法、エンボス離型シートの製造装置、合成皮革、及び合成皮革の製造方法 |
JP2008087322A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス付き工程離型紙 |
WO2009044865A1 (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-09 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | エンボス付き離型紙およびその製造方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012172279A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 合成皮革製造用離型紙 |
JP2017061161A (ja) * | 2015-04-17 | 2017-03-30 | 大日本印刷株式会社 | 離型シートおよび樹脂皮革 |
JP2017026917A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢シート、賦型シート、及び回折光沢シートの製造方法 |
JP2018104844A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 大日本印刷株式会社 | 離型紙、合成皮革、および離型紙の製造方法 |
JP2018171886A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 大日本印刷株式会社 | 大柄凹凸模様と微細柄凹凸模様を同時に賦型する賦型シートの製造方法及び該製造方法で作製された賦型シート |
JP2020055133A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-09 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦型用離型紙 |
JP7268320B2 (ja) | 2018-09-28 | 2023-05-08 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦型用離型紙 |
JP2023021526A (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-14 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦形用離型紙 |
JP7248060B2 (ja) | 2021-08-02 | 2023-03-29 | 大日本印刷株式会社 | 回折光沢賦形用離型紙 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5287471B2 (ja) | 2013-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5509567B2 (ja) | エンボス付き離型紙およびその製造方法 | |
JP5287471B2 (ja) | ナノオーダーの凹凸模様を有する積層体およびその製造方法 | |
JP3756406B2 (ja) | 化粧材 | |
WO2010113885A1 (ja) | 工程剥離紙およびその製造方法 | |
JP5277635B2 (ja) | エンボス離型シートの原反、エンボス離型シート、エンボス離型シートの原反の製造方法、エンボス離型シートの製造方法、及び合成皮革の製造方法 | |
KR102201531B1 (ko) | 박리 웹, 텍스처를 가진 제품, 박리 웹을 제조하는 방법 및 텍스처를 가진 제품을 제조하는 방법 | |
JP4255943B2 (ja) | 化粧材 | |
JP2007072188A (ja) | ホログラム、ホログラムラベル及びホログラム転写箔 | |
WO2006085597A1 (ja) | 複数図柄光輝性フィルム、複数図柄光輝性スレッドおよびそれらを用いた光輝性複数図柄形成物 | |
KR101015081B1 (ko) | 경화성 수지 조성물 및 이 조성물을 이용한 적층체의 제조방법, 및 전사재, 이의 제조방법 및 전사물 | |
JP4770342B2 (ja) | ホログラム付き収縮フィルムの製造方法 | |
JP2008089863A (ja) | ホログラムシート及びホログラム形成物 | |
JP2006137196A (ja) | 化粧材 | |
JP2011224915A (ja) | 転写シート | |
JP6672590B2 (ja) | 化粧シートの製造方法 | |
JP2007086251A (ja) | ホログラム付きラベル及びその製造方法 | |
KR102088998B1 (ko) | 데코 시트 및 이의 제조 방법 | |
KR20130045591A (ko) | 내스크래치성 및 굴곡가공성이 우수한 하이그로시 데코시트 | |
CN109153219A (zh) | 装饰片及其制造方法 | |
JP2024013894A (ja) | 転写箔 | |
JP2006137195A (ja) | 化粧材 | |
JPS60263140A (ja) | 紫外線または電子線硬化樹脂フイルム | |
JPH03281344A (ja) | 凹凸模様を有する積層フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121211 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130208 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130520 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |