JP2010241609A5

JP2010241609A5 -

Info

Publication number: JP2010241609A5
Application number: JP2008120459A
Authority: JP
Filing date: 2008-05-02
Publication date: 2011-05-12
Anticipated expiration: 2028-05-02

Claims

ｘ≒２、ｙ≒２、ｚ≒７の第１パイロクロア相Ａ_xＢ_yＯ_zとｘ’≒２、ｙ’≒２、ｚ’≒７の第２パイロクロア相Ａ’_x'Ｂ’_y'Ｏ_z'との混合物と、二次酸化物とを含有して成り、焼結助剤として０．０５重量％の酸化ケイ素、０．１重量％の酸化カルシウム、０．１重量％の酸化マグネシウム、０．１重量％の酸化鉄、０．１重量％の酸化アルミニウム及び０．０８重量％の酸化チタンを有していてもよいセラミック粉末。
Ａがガドリニウム（Ｇｄ）である請求項１記載のセラミック粉末。
ガドリニウム（Ｇｄ）が第１及び第２パイロクロア相用に使用される（Ａ＝Ｇｄ、Ａ’＝Ｇｄである）請求項１記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相がハフニウム酸塩である（Ｂ＝Ｈｆである）請求項１、２又は３記載のセラミック粉末。
第２パイロクロア相がジルコン酸塩である（Ｂ’＝Ｚｒである）請求項１、２、３又は４記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相がハフニウム酸ガドリニウムである請求項１又は５記載のセラミック粉末。
第２パイロクロア相がジルコン酸ガドリニウムである請求項１、４又は６記載のセラミック粉末。
Ｂ又はＢ’のいずれかの二次酸化物が設けられている請求項１、２、３、４、５、６又は７記載のセラミック粉末。
Ｂ及びＢ’の二次酸化物が存在する請求項１、２、３、４、５、６又は７記載のセラミック粉末。
２つのパイロクロア相と２つの二次酸化物とから成り、焼結助剤を有していてもよい請求項１記載のセラミック粉末。
０．１重量％〜２．５重量％の二次酸化物が存在する請求項１、４、５、８、９又は１０記載のセラミック粉末。
酸化ハフニウムを含有する請求項１、５、７又は１１記載のセラミック粉末。
０．１重量％〜７重量％の二次酸化物が存在する請求項１、４、５、８、９又は１０記載のセラミック粉末。
二次酸化物として酸化ジルコニウムを含有する請求項１、４、６又は１３記載のセラミック粉末。
Ｂ及びＢ’の二次酸化物のみが存在する請求項１、４、５、６、７及び１０〜１４のいずれか１つに記載のセラミック粉末。
Ｂ及びＢ’の二次酸化物が両パイロクロア相の一方と混晶を形成しない請求項１及び８〜１５のいずれか１つに記載のセラミック粉末。
Ｂ及びＢ’の二次酸化物が混晶としてのみ存在する請求項１及び８〜１５のいずれか１つに記載のセラミック粉末。
Ｂ及びＢ’の二次酸化物が酸化物として及び混晶として設けられている請求項８〜１５のいずれか１つに記載のセラミック粉末。
２つのパイロクロア相のみが存在する請求項１記載のセラミック粉末。
セラミック粉末が最大１０重量％の混晶を含有する請求項１記載のセラミック粉末。
第１及び第２パイロクロア相が混晶を形成しない請求項１記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相と第２パイロクロア相との混合比が３０：７０〜２０：８０である請求項１記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相と第２パイロクロア相との混合比が５０：５０〜４０：６０である請求項１記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相と第２パイロクロア相との混合比が７０：３０〜６０：４０である請求項１記載のセラミック粉末。
第１パイロクロア相と第２パイロクロア相との混合比が９０：１０〜８０：２０である請求項１記載のセラミック粉末。
２つのパイロクロア相と、Ｂ又はＢ’の二次酸化物の２つ以下と、酸化ケイ素及び／又は酸化カルシウム及び／又は酸化マグネシウムと、酸化鉄及び／又は酸化アルミニウム及び／又は酸化チタンとから成る請求項１記載のセラミック粉末。
２つのパイロクロア相が、セラミック粉末の少なくとも９０重量％を占める請求項１記載のセラミック粉末。
ｘ＝２、ｙ＝２、ｚ＝７である請求項１記載のセラミック粉末。
請求項１〜２８のいずれか１つに記載のセラミック粉末から製造されたセラミック層（１３）。
請求項１〜２８のいずれか１つに記載のセラミック粉末からのみ製造されたセラミック層（１３）。
請求項２９又は３０記載のセラミック層（１３）を有する層組織。
セラミック層（１３）の下に内側セラミック層（１０）が存在する請求項３１記載の層組織。
内側層（１０）が、内側セラミック層（１０）及び外側セラミック層（１３）の合計層厚（Ｄ）の１０％〜５０％の層厚を有する請求項３２記載の層組織。
内側層（１０）及び外側層（１３）の層厚が、全体で、少なくとも３００μｍである請求項３２又は３３記載の層組織。
内側層（１０）及び外側層（１３）の層厚が、全体で、少なくとも４５０μｍである請求項３２又は３３記載の層組織。
内側層（１０）が合計層厚（Ｄ）の６０％〜９０％の層厚を有する請求項３２記載の層組織。
セラミック層（１３）が最外層となる請求項３１、３２、３３、３４、３５又は３６記載の層組織。
層組織（１）が、基材（４）上に且つセラミック層（１０、１３）の下に金属結合層（７）を含有してなる請求項３１又は３２記載の層組織。
金属結合層（７）が、重量％で、１１％〜１３％のコバルト、２０％〜２２％のクロム、１０．５％〜１１．５％のアルミニウム、０．３％〜０．５％のイットリウム、１．５％〜２．５％のレニウム、及び残部ニッケルの組成を有して成る請求項３８記載の層組織。
金属結合層（７）が、重量％で、２４％〜２６％のコバルト、１６％〜１８％のクロム、９．５％〜１１％のアルミニウム、０．３％〜０．５％のイットリウム、１％〜１．８％のレニウム、及び残部ニッケルの組成を有して成る請求項３８記載の層組織。