JP2010225890A - Scheduling method of substrate treatment apparatus and program of the same - Google Patents

Scheduling method of substrate treatment apparatus and program of the same Download PDF

Info

Publication number
JP2010225890A
JP2010225890A JP2009072011A JP2009072011A JP2010225890A JP 2010225890 A JP2010225890 A JP 2010225890A JP 2009072011 A JP2009072011 A JP 2009072011A JP 2009072011 A JP2009072011 A JP 2009072011A JP 2010225890 A JP2010225890 A JP 2010225890A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lot
schedule
processing
resource
processed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009072011A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5189534B2 (en
Inventor
Nagahisa Mukuda
修央 椋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2009072011A priority Critical patent/JP5189534B2/en
Publication of JP2010225890A publication Critical patent/JP2010225890A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5189534B2 publication Critical patent/JP5189534B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • General Factory Administration (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To create a schedule again so that a lot required to be treated with the highest priority can be more preferentially treated than other lots even if treatment is performed based on a schedule. <P>SOLUTION: In the case that a treatment command is given to the lot required to be treated with the highest priority when the treatment is performed based on the schedule, a control unit temporarily deletes the schedule after a resource capable of safely waiting for a lot to be treated when the treatment command is given, temporarily deletes all the schedules for the lots to each of which the treatment is not yet started, adds the schedule of the lot to be treated with the highest priority with a hard link to the blank schedule created by the deletion, and creates the schedule again by adding the temporarily deleted schedules of the lots. Thereby, the schedule can be created again so that the lot required to be treated with the highest priority can be more preferentially treated without affecting the substrate treatment of the lot which is currently treated. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)に洗浄、乾燥等の所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。   The present invention relates to a schedule creation method for a substrate processing apparatus for performing predetermined processing such as cleaning and drying on a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as a substrate) and a program therefor.

従来、この種の基板処理装置のスケジュール作成方法として、実際の処理を実行する前に、各処理部のリソースをどのロットがどのような順序で使用していくかを決定するものがある(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, as a method of creating a schedule for this type of substrate processing apparatus, there is a method for determining which lot uses the resources of each processing unit in what order before executing the actual processing (for example, , See Patent Document 1).

上記の従来例により作成された基板処理装置のスケジュールの一例をタイムチャートにしたものを図10に示す。なお、図10においては、斜線でハッチングされたタイムバーは第1ロットであり、縦線でハッチングされたタイムバーは第2ロットを意味する。また、図10における縦軸の記号は、後程、図1を引用して説明する基板処理装置の各部の構成を示している。   FIG. 10 is a time chart showing an example of the schedule of the substrate processing apparatus created by the conventional example. In FIG. 10, the time bar hatched with diagonal lines represents the first lot, and the time bar hatched with vertical lines represents the second lot. Further, the symbols on the vertical axis in FIG. 10 indicate the configuration of each part of the substrate processing apparatus which will be described later with reference to FIG.

このように予めスケジューリングを行うことにより、ロットに対する処理を実行する前に、どのロットをどの処理部でどの時点において処理するか決めていくので、効率よくロットの各処理工程を配置することができ、基板処理装置の稼働率を向上させることができる。   By performing scheduling in advance in this way, it is possible to determine which lot is to be processed at which point at which point before executing the processing for the lot, so that each processing step of the lot can be arranged efficiently. The operating rate of the substrate processing apparatus can be improved.

特開2002−341923号公報JP 2002-341923 A

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、一度スケジューリングが行われ、処理が実行されると、最優先で処理すべきロット(以降、単に「優先ロット」とも称する)がある場合でも、当該ロットを最優先で処理できるようにスケジュールの変更ができないという問題がある。図11に、当該問題が起こった場合のタイムチャートを示す。図中で塗りつぶして記載されたタイムバーは優先ロットを示す。図10のようなスケジュールが作成され、処理が実行されている時に、図中の点線の時刻tにおいて優先ロットの処理命令が入った場合、既に処理が実行されているロットのスケジュールに影響を与えないように、優先ロットのスケジュールを追加するためである。
However, the conventional example having such a configuration has the following problems.
That is, once scheduling is performed and processing is executed, even if there is a lot to be processed with the highest priority (hereinafter, simply referred to as “priority lot”), the schedule can be processed so that the lot can be processed with the highest priority. There is a problem that it cannot be changed. FIG. 11 shows a time chart when the problem occurs. The time bar filled in the figure indicates the priority lot. When a schedule as shown in FIG. 10 is created and processing is executed, if a priority lot processing instruction is input at time t indicated by a dotted line in the drawing, the schedule of the lot that has already been processed is affected. This is to add a priority lot schedule.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、既にスケジュールに基づいて処理が実行されている場合であっても、所定の条件の下、処理が始まっているロットのスケジュールの削除を行い、優先ロットのスケジュールを追加することによって、最優先で処理を行う必要があるロットを他のロットよりも優先的に処理させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and even if the process has already been executed based on the schedule, the schedule of the lot that has been started under a predetermined condition can be obtained. Provided is a substrate processing apparatus schedule creation method and program capable of preferentially processing a lot that needs to be processed with priority over other lots by deleting and adding a priority lot schedule. The purpose is to do.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行う複数の処理部を備えた基板処理装置により、前記各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたり、実際に処理を実行する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記制御部が、各リソースの使用タイミングに基づくスケジュールに従って各ロットに対する処理を実行中に、最優先で処理すべきロットを前記スケジュールに追加する指示を受けた際、実行中の前記スケジュールのうち、処理が実行されていないロットのスケジュールの削除と、処理が実行されているロットについては、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールの削除とを行うことで空きスケジュールを生成し、前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングで、前記空きスケジュールに追加を行い、前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングを変更しないように、削除したロットの各リソースの使用タイミングを再決定することを特徴とするものである。   In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration. That is, according to the first aspect of the present invention, when a plurality of lots are processed by using a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate while using the resources of each processing unit, the processing is actually performed. In the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus in which the control unit determines the use timing of each resource before execution, the control unit has the highest priority while executing processing for each lot according to the schedule based on the use timing of each resource. When receiving an instruction to add a lot to be processed to the schedule, the deletion of the schedule of the lot that has not been processed among the schedules being executed and the lot that has been processed are as follows: An empty schedule is generated by deleting the schedule after the resource that can wait until processing, The usage timing of each resource of the deleted lot is added so that it is added to the vacant schedule at the usage timing of each resource of the lot to be processed in step 1, and the usage timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority is not changed. Is re-determined.

[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、ロットごとにそれぞれのリソースの使用タイミングに基づくスケジュールが作成され、処理が実行されている時に、優先ロットをスケジュールに追加する指示があった場合、未処理のロットに対しては一旦スケジュールを削除し、処理中のロットの対しては待機可能なリソースより後のスケジュールを削除することで、スケジュールに空きを生成し、その空きスケジュールに優先ロットのスケジュールを追加する。したがって、他のロットよりも早く優先ロットを処理することができる。また、既に処理が実行されているロットは、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールを削除するので、優先ロットがスケジュールに追加されることにより、処理中のロットに待ち状態が発生しても、待機可能なリソースで処理待ちを行うこととなり、処理中のロットへの過剰処理が生じることを防止できる。   [Operation / Effect] According to the first aspect of the present invention, when a schedule based on the use timing of each resource is created for each lot and processing is being executed, there is an instruction to add a priority lot to the schedule. If there is an unprocessed lot, the schedule is temporarily deleted, and for the lot being processed, the schedule after the resource that can be waited for is deleted, and a free space is created in the schedule. Add a priority lot schedule. Therefore, priority lots can be processed earlier than other lots. In addition, because lots that have already been processed delete the schedule after the resources that can wait until the next process, adding a priority lot to the schedule causes a waiting state for the lot being processed. However, it is possible to wait for processing with resources that can be waited, and it is possible to prevent overprocessing of the lot being processed.

なお、本発明における「リソース」(resource)とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部、基板を搬送する搬送処理部、基板の姿勢を変換する姿勢変換部などのことを示す。   The “resource” in the present invention means a pure water cleaning processing unit, a chemical processing unit, a drying processing unit, a coating processing unit, a plating processing unit, an etching processing unit, a transport processing unit for transporting a substrate, This indicates a posture conversion unit that converts the posture.

また、本発明において、前記待機可能なリソースは、ロットに対して純水洗浄処理を行う純水洗浄処理部であることが好ましい(請求項2)。純水洗浄処理部では、薬液処理が行われたロットの洗浄が行われるが、その時間が長引いたとしても、薬液等による基板への過剰処理が生じることを防止できる。   In the present invention, it is preferable that the standby resource is a pure water cleaning processing unit that performs pure water cleaning processing on a lot. In the pure water cleaning processing section, the lot subjected to the chemical processing is cleaned, but even if the time is prolonged, it is possible to prevent the substrate from being excessively processed by the chemical or the like.

また、本発明において、前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングは、前記最優先で処理すべきロットの処理が最短の時間で完了するように各リソースの使用タイミングをスケジュールすることが好ましい(請求項3)。他のロットよりも優先して、各リソースの使用タイミングをスケジュールすることで優先的に処理を行うことができる。   Further, in the present invention, the use timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority is scheduled so that the processing of the lot to be processed with the highest priority is completed in the shortest time. (Claim 3). Processing can be performed with priority by scheduling the use timing of each resource in preference to other lots.

また、本発明において、前記処理が実行されていないロットとは、基板を収容する収容器から基板が搬出されていないロットであることが好ましい(請求項4)。収容器から基板が搬出されていなければ、スケジュールを一旦削除しても、基板へのパーティクルの付着等を防止することができる。   In the present invention, the lot in which the processing is not performed is preferably a lot in which the substrate is not unloaded from the container that accommodates the substrate. If the substrate is not carried out of the container, even if the schedule is once deleted, adhesion of particles to the substrate can be prevented.

また、請求項5に記載の発明は、基板に処理を行う複数の処理部を備えた基板処理装置により、前記各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたり、実際に処理を実行する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、前記制御部が、各リソースの使用タイミングに基づくスケジュールに従って各ロットに対する処理を実行中に、最優先で処理すべきロットを前記スケジュールに追加する指示を受けた際、実行中の前記スケジュールのうち、処理が実行されていないロットのスケジュールを削除するステップと、処理が実行されているロットについては、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールを削除するステップと、削除により生成された空きスケジュールに、前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングで、前記空きスケジュールに追加を行うステップと、前記最優先で処理すべきロットが追加された各リソースの使用タイミングを変更しないように、削除したロットの各リソースの使用タイミングを再決定するステップと、をコンピュータに実行させることを特徴とするものである。   According to a fifth aspect of the present invention, when a plurality of lots are processed by using a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate while using the resources of each processing unit, the processing is actually performed. In the schedule creation program of the substrate processing apparatus in which the control unit determines the use timing of each resource before execution, the control unit has the highest priority while executing processing for each lot according to the schedule based on the use timing of each resource. When receiving an instruction to add a lot to be processed in the schedule, a step of deleting a schedule of a lot that has not been processed among the schedules that are being executed, and a lot that is being processed, A step that deletes a schedule after a resource that can wait until the next processing, and The step of adding to the empty schedule at the use timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority in the empty schedule, and the use timing of each resource to which the lot to be processed with the highest priority is added are not changed. Thus, the step of re-determining the use timing of each resource of the deleted lot is executed by a computer.

本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、優先ロットをすでに実行されているスケジュールに追加する指示があった場合、処理が実行されていないロットについてはスケジュールを削除し、処理が実行されているロットについては、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールを削除することで生成される空きスケジュールに優先ロットのスケジュールを追加する。したがって、処理中のロットへの過剰処理等の影響を与えずに、優先ロットの処理を行うことができる。   According to the schedule creation method for a substrate processing apparatus according to the present invention, when there is an instruction to add a priority lot to a schedule that has already been executed, the control unit deletes the schedule for a lot that has not been processed. For the lot for which processing is being executed, the priority lot schedule is added to the free schedule generated by deleting the schedule after the resource that can wait until the next processing. Therefore, it is possible to process the priority lot without affecting the lot being processed, such as excessive processing.

実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. 実施例に係る基板処理装置のブロック図である。It is a block diagram of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. レシピの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a recipe. 優先ロットの割り込み命令が入った場合の再スケジューリングの動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement of rescheduling when the interruption command of a priority lot is entered. 再スケジューリング前の実施例のタイムチャートである。It is a time chart of the Example before rescheduling. 第1ロットを所定の条件のもと削除した後の実施例のタイムチャートである。It is a time chart of the Example after deleting the 1st lot on the predetermined conditions. 図6のタイムチャートから、さらに第2ロットを所定の条件のもと削除した後の実施例のタイムチャートである。It is a time chart of the Example after deleting the 2nd lot on the predetermined conditions from the time chart of FIG. 図7のタイムチャートに、ハードリンクで優先ロットを追加したタイムチャートである。It is the time chart which added the priority lot with the hard link to the time chart of FIG. 図8のタイムチャートに、一旦削除した第1ロットと第2ロットを追加し、再スケジューリングが終了したタイムチャートである。It is the time chart which added the 1st lot and the 2nd lot which were once deleted to the time chart of Drawing 8, and rescheduled. 優先ロットが追加される前の従来例のタイムチャートである。It is a time chart of the prior art example before a priority lot is added. 従来例により優先ロットが追加され再スケジューリングが終了したタイムチャートである。It is the time chart which the priority lot was added by the prior art example, and rescheduling was complete | finished.

以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図2は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。   FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment, and FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment.

この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Wは複数枚(例えば25枚)が基板の収容器であるFOUP1に対して水平姿勢で収納されている。未処理の基板Wを収納したFOUP1は、投入部3に載置される。投入部3は、FOUP1が載置される載置台5を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部3の反対側には、払出部7が配備されている。この払出部7は、処理済みの基板WをFOUP1に収納してFOUP1ごと払い出す。このように機能する払出部7は、投入部3と同様に、FOUP1を載置するための二つの載置台9を備えている。   This substrate processing apparatus is an apparatus for performing chemical liquid processing, pure water cleaning processing, and drying processing on the substrate W, for example. A plurality of (for example, 25) substrates W are stored in a horizontal posture with respect to the FOUP 1 which is a substrate container. The FOUP 1 containing the unprocessed substrate W is placed on the loading unit 3. The input unit 3 includes two mounting tables 5 on which the FOUP 1 is mounted. On the opposite side of the loading unit 3 across the center of the substrate processing apparatus, a dispensing unit 7 is provided. The payout unit 7 stores the processed substrate W in the FOUP 1 and pays out the FOUP 1 together. The payout unit 7 that functions in this manner includes two mounting bases 9 for mounting the FOUP 1, similarly to the input unit 3.

投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能である第1搬送機構CTCが配置されている。第1搬送機構CTCは、投入部3の載置台5に載置されたFOUP1から複数枚の基板Wを搬出するとともに、基板Wの姿勢を水平方向から垂直方向へ変換した後、第2搬送機構WTRに対して基板Wを受け渡す。また、第1搬送機構CTCは、第2搬送機構WTRから処理済みの基板Wを受け取った後に、基板Wの姿勢を垂直方向から水平方向へ変換して、払出部7のFOUP1に基板Wを搬入する。   A first transport mechanism CTC that is movable between these is disposed at a position along the input unit 3 and the payout unit 7. The first transport mechanism CTC unloads the plurality of substrates W from the FOUP 1 placed on the placement table 5 of the loading unit 3 and converts the posture of the substrate W from the horizontal direction to the vertical direction, and then the second transport mechanism. Deliver the substrate W to the WTR. Further, after receiving the processed substrate W from the second transport mechanism WTR, the first transport mechanism CTC changes the posture of the substrate W from the vertical direction to the horizontal direction, and carries the substrate W into the FOUP 1 of the dispensing unit 7. To do.

第2搬送機構WTRは、基板処理装置の長手方向に沿って移動可能である。第2搬送機構WTRの移動方向に沿って複数の処理部が配置されているが、複数の処理部のうち第1搬送機構CTCの最も手前側には、複数枚の基板Wを低圧のチャンバ内に収納して、複数枚の基板Wを乾燥させるための乾燥処理部LPDが配備されている。   The second transport mechanism WTR is movable along the longitudinal direction of the substrate processing apparatus. A plurality of processing units are arranged along the movement direction of the second transport mechanism WTR. Among the plurality of processing units, the plurality of substrates W are placed in the low-pressure chamber on the most front side of the first transport mechanism CTC. And a drying processing unit LPD for drying a plurality of substrates W is provided.

第2搬送機構WTRの移動方向であって乾燥処理部LPDに隣接する位置には、第1処理部19が配備されている。この第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部ONB1を備えているとともに、複数枚の基板Wに対して処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部CHB1を備えている。また、第1処理部19は、純水洗浄処理部ONB1と薬液処理部CHB1との間で基板Wを搬送する副搬送機構LFS1を備えている。この副搬送機構LFS1は、第1処理部19内での基板搬送の他に、第2搬送機構WTRとの間で基板Wの受け渡しを行う。   A first processing unit 19 is disposed at a position adjacent to the drying processing unit LPD in the moving direction of the second transport mechanism WTR. The first processing unit 19 includes a pure water cleaning processing unit ONB1 for performing pure water cleaning processing on a plurality of substrates W, and performs chemical processing on the plurality of substrates W with processing liquid. A chemical treatment unit CHB1 for application is provided. The first processing unit 19 includes a sub transport mechanism LFS1 that transports the substrate W between the pure water cleaning processing unit ONB1 and the chemical solution processing unit CHB1. The sub transport mechanism LFS1 delivers the substrate W to and from the second transport mechanism WTR in addition to the substrate transport in the first processing unit 19.

第1処理部19に隣接した位置には、第2処理部27が配備されている。この第2処理部27は、上述した第1処理部19と同様の構成である。つまり、第2処理部27は純水洗浄処理部ONB1、薬液処理部CHB1、副搬送機構LFS1と同様の機能を有する、純水洗浄処理部ONB2と、薬液処理部CHB2と、副搬送機構LFS2とを備えている。   A second processing unit 27 is disposed at a position adjacent to the first processing unit 19. The second processing unit 27 has the same configuration as the first processing unit 19 described above. In other words, the second processing unit 27 has the same functions as the pure water cleaning processing unit ONB1, the chemical processing unit CHB1, and the sub-transport mechanism LFS1, and includes the pure water cleaning processing unit ONB2, the chemical processing unit CHB2, and the sub-transport mechanism LFS2. It has.

上記のように構成されている基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部37によって統括的に制御される。   The substrate processing apparatus configured as described above is comprehensively controlled by the control unit 37 as shown in the block diagram of FIG.

制御部37は、CPU等から構成されており、スケジューリング部39と、処理実行指示部41とを備えている。制御部37に接続されている記憶部43には、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板Wをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムなどが予め格納されている。また、スケジュール作成プログラムによって作成されたスケジュールも格納されている。さらに、制御部37は、乾燥処理部LPD、第1搬送機構CTC、第2搬送機構WTR、第1処理部19、及び第2処理部27を制御する。   The control unit 37 includes a CPU and the like, and includes a scheduling unit 39 and a process execution instruction unit 41. The storage unit 43 connected to the control unit 37 is created in advance by a user of the substrate processing apparatus, and includes a recipe including a plurality of processing steps that define how to process the substrate W, and a schedule creation A program and a processing program for executing the created schedule are stored in advance. A schedule created by the schedule creation program is also stored. Further, the control unit 37 controls the drying processing unit LPD, the first transport mechanism CTC, the second transport mechanism WTR, the first processing unit 19, and the second processing unit 27.

スケジューリング部39は、投入部3の載置台5に載置されたFOUP1に収容された複数枚の基板Wを一つのロットとして扱い、装置のオペレータにより指示され、記憶部43に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を実行する前に、ロット毎の処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。   The scheduling unit 39 treats a plurality of substrates W accommodated in the FOUP 1 mounted on the mounting table 5 of the loading unit 3 as one lot, is instructed by the operator of the apparatus, and is stored in the storage unit 43 in advance. Depending on the recipe, before actually executing the process, a schedule is created so that the process steps for each lot can be efficiently arranged in time series.

処理実行指示部41は、スケジューリング部39によって作成されて、記憶部43に記憶されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作指示を行う。   The process execution instructing unit 41 issues an operation instruction related to processing of each processing unit at an appropriate timing based on the schedule created by the scheduling unit 39 and stored in the storage unit 43.

ここで、図3を参照してレシピの一例について説明する。なお、図3は、レシピの一例を示す模式図である。   Here, an example of the recipe will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a recipe.

レシピは、基板Wなどに応じて種々のものがあるが、例えば、第1搬送機構CTC、第2搬送機構WTR、純水洗浄処理部ONB1、薬液処理部CHB1、純水洗浄処理部ONB1、乾燥処理部LPD、第2搬送機構WTR、第1搬送機構CTCの順で複数枚の基板Wが搬送されて、各処理部において純水洗浄、薬液処理、乾燥処理等の所定の処理が行われる。   There are various recipes depending on the substrate W and the like. For example, the first transport mechanism CTC, the second transport mechanism WTR, the pure water cleaning processing unit ONB1, the chemical processing unit CHB1, the pure water cleaning processing unit ONB1, and the drying A plurality of substrates W are transported in the order of the processing unit LPD, the second transport mechanism WTR, and the first transport mechanism CTC, and predetermined processing such as pure water cleaning, chemical processing, and drying processing is performed in each processing unit.

図3において、並行処理部とあるのは、左側に記載されている処理部と同様の機構などを備え、代替が可能な処理部を示している。例えば、他のロットの処理を行うため、純水洗浄処理部ONB1、薬液処理部CHB1が使用されていた場合でも、第1搬送機構CTC、第2搬送機構WTR、純水洗浄処理部ONB2、薬液処理部CHB2、純水洗浄処理部ONB2、乾燥処理部LPD、第2搬送機構WTR、第1搬送機構CTCの順で複数枚の基板Wに所定の処理を行うことができる。   In FIG. 3, the parallel processing unit indicates a processing unit that has the same mechanism as the processing unit described on the left side and can be replaced. For example, even when the pure water cleaning processing unit ONB1 and the chemical solution processing unit CHB1 are used to process other lots, the first transport mechanism CTC, the second transport mechanism WTR, the pure water cleaning processing unit ONB2, the chemical solution A predetermined process can be performed on the plurality of substrates W in the order of the processing unit CHB2, the pure water cleaning processing unit ONB2, the drying processing unit LPD, the second transport mechanism WTR, and the first transport mechanism CTC.

次に、図4を参照して具体的に優先ロットの処理命令が入った場合の再スケジューリングについて説明する。なお、図4は動作を示すフローチャートである。   Next, rescheduling when a priority lot processing instruction is input will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a flowchart showing the operation.

ステップS1
まず、処理実行指示部41は、優先で処理すべきロット(優先ロット)の処理命令をオペレータから受ける。この場合、既に他のロットに対するスケジュールが実行されていたとしても、優先ロットの処理が割り込んで実施されることになる。
Step S1
First, the processing execution instructing unit 41 receives a processing command for a lot (priority lot) to be processed with priority from an operator. In this case, even if a schedule for another lot has already been executed, processing of the priority lot is interrupted and executed.

ステップS2
処理実行指示部41は、実行中のスケジュールにおいて優先ロットの処理命令をオペレータから受けた時点、すなわち、優先ロットの処理命令が割り込んだ時点において、処理中のロットがあるか否かを判断して処理を分岐する。処理中のロットがない場合には、ステップS4へ処理を分岐し、処理中のロットがある場合には、ステップS3へ処理を分岐する。
Step S2
The process execution instructing unit 41 determines whether or not there is a lot being processed at the time when the priority lot processing command is received from the operator in the schedule being executed, that is, when the priority lot processing command is interrupted. Branch processing. If there is no lot being processed, the process branches to step S4. If there is a lot being processed, the process branches to step S3.

ステップS3
処理実行指示部41において、優先ロットの処理命令が割り込んだ時点で処理中のロットがあると判断された場合、スケジューリング部39は、優先ロットの割り込み時点以降において、安全に待機できるリソースより後ろのスケジュールを一旦削除する。安全に待機できるリソースとは、具体的には、純水洗浄処理部ONB1(ONB2)におけるリソースである。
Step S3
When the process execution instructing unit 41 determines that there is a lot that is being processed at the time when the priority lot processing instruction is interrupted, the scheduling unit 39 is behind the resource that can safely wait after the priority lot interrupt point. Delete the schedule once. Specifically, the resource that can safely wait is a resource in the pure water cleaning processing unit ONB1 (ONB2).

ステップS4
処理実行指示部41は、実行中のスケジュールにおいて処理が開始されていない未処理のロットがあるか否かを判断して処理を分岐する。未処理のロットがない場合には、ステップS6へ処理を分岐し、未処理のロットがある場合には、ステップS5へ処理を分岐する。未処理のロットとは、具体的には、優先ロットの処理命令をオペレータから受けた時点において、基板WがFOUP1から搬出されていないロットである。
Step S4
The process execution instructing unit 41 branches the process by determining whether there is an unprocessed lot that has not been processed in the schedule being executed. If there is no unprocessed lot, the process branches to step S6, and if there is an unprocessed lot, the process branches to step S5. Specifically, the unprocessed lot is a lot in which the substrate W has not been unloaded from the FOUP 1 when a priority lot processing instruction is received from the operator.

ステップS5
処理実行指示部41において、優先ロットの処理命令が割り込んだ時点で未処理のロットがあると判断された場合、スケジューリング部39は、優先ロットの割り込み時点における未処理のロットのスケジュールを一旦削除する。
Step S5
When the processing execution instruction unit 41 determines that there is an unprocessed lot at the time when the priority lot processing instruction is interrupted, the scheduling unit 39 temporarily deletes the schedule of the unprocessed lot at the priority lot interruption time. .

ステップS6
スケジューリング部39は、ステップS3、ステップS5でスケジュールが一旦削除されてできた空きスケジュールに、優先ロットのスケジュールをハードリンクとして追加する。また、ステップS3、ステップS5で削除されるスケジュールがなかった場合は、優先ロットを追加するためのスケジュールの変更等が必要ないため、優先ロットをハードリンクとして新規スケジュールを作成すればよい。
Step S6
The scheduling unit 39 adds the schedule of the priority lot as a hard link to the vacant schedule that has been deleted once in steps S3 and S5. Further, if there is no schedule to be deleted in step S3 and step S5, it is not necessary to change the schedule for adding the priority lot, so a new schedule may be created using the priority lot as a hard link.

ステップS7
スケジューリング部39は、ステップS3、ステップS5で一旦削除したスケジュールがあれば、優先ロットがハードリンクで追加されたスケジュールに、削除されたスケジュールを追加して再スケジューリングを行う。
Step S7
If there is a schedule once deleted in step S3 and step S5, the scheduling unit 39 performs rescheduling by adding the deleted schedule to the schedule in which the priority lot is added by a hard link.

ステップS8
上記ステップを経て、優先ロットが追加されたスケジュールの作成を終える。
Step S8
Through the above steps, the creation of the schedule with the priority lot added is completed.

次に具体的なロットの処理について説明する。図3のレシピに基づいて、スケジューリング部39によって作成された、第1ロット及び第2ロットの一連の処理工程を示すタイムチャートを図5に示す。なお、図中の斜線でハッチングされたタイムバーは第1ロットであり、縦線でハッチングされたタイムバーは第2ロットを意味する。また、点線で描かれたタイムバーは待機可能な処理部ONB1で基板Wが待機する待機時間を意味する。
ここで、図5のタイムチャートを参照する。
Next, specific lot processing will be described. FIG. 5 shows a time chart showing a series of processing steps of the first lot and the second lot created by the scheduling unit 39 based on the recipe of FIG. In the figure, the time bar hatched with diagonal lines is the first lot, and the time bar hatched with vertical lines means the second lot. Further, the time bar drawn with a dotted line means a standby time in which the substrate W waits in the processing unit ONB1 that can wait.
Here, the time chart of FIG. 5 is referred.

優先ロットの処理命令が入った時刻tにおいて、第1ロットの基板Wは、すでに処理が始まり第1搬送機構CTCから第2搬送機構WTRに基板Wが受け渡された状態にある。また、第2ロットの基板Wは、いまだ第1搬送機構CTCに基板Wが渡されていない状態、すなわち、第2ロットの基板WがFOUP1から搬出されていない状態である。
本発明は、これらスケジューリングされた各ロットの処理状態によって、第1ロット及び第2ロットのスケジュールを変更し、優先ロットを最優先で処理が行えるよう再スケジューリングするものである。
At time t when the priority lot processing instruction is input, the substrate W of the first lot has already started processing, and the substrate W has been transferred from the first transport mechanism CTC to the second transport mechanism WTR. Further, the substrate W of the second lot is not yet delivered to the first transport mechanism CTC, that is, the substrate W of the second lot is not unloaded from the FOUP 1.
According to the present invention, the schedules of the first lot and the second lot are changed according to the processing state of each scheduled lot, and rescheduling is performed so that the priority lot can be processed with the highest priority.

本発明における再スケジューリング方法について図5〜図9を参照しながら詳細に説明する。   The rescheduling method according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

処理実行指示部41によって、第1ロット及び第2ロットが図5のスケジュールに基づいて処理が実行されているとき、時刻tにおいて優先ロットの処理命令が割り込まれた場合、処理実行指示部41は時刻tにおける、第1ロット及び第2ロットの処理状況を確認し、スケジューリング部39に再スケジュールの指示を行う。   When the process execution instruction unit 41 is executing the process for the first lot and the second lot based on the schedule of FIG. 5, if the process instruction for the priority lot is interrupted at time t, the process execution instruction unit 41 The processing status of the first lot and the second lot at time t is confirmed, and a rescheduling instruction is given to the scheduling unit 39.

スケジューリング部39は処理が既に実行されている第1ロットは、待機可能なリソースである純水洗浄処理部ONB2まで処理を継続できるように、純水洗浄処理部ONB2までのリソースを残し、このリソースより後のスケジュールを一旦削除する(図6)。さらに、時刻tの時点で処理が実行されていない第2ロットは、スケジュールをすべて一旦削除する(図7)。   The scheduling unit 39 leaves resources up to the pure water cleaning processing unit ONB2 so that the first lot that has already been processed can continue processing up to the pure water cleaning processing unit ONB2, which is a standby resource. The later schedule is once deleted (FIG. 6). Further, all schedules are temporarily deleted for the second lot that has not been processed at time t (FIG. 7).

ここで、本実施例において、純水洗浄処理部ONB1並びに純水洗浄処理部ONB2が、基板Wにダメージを与えない状態で、基板Wを待機可能とするリソースである。また、処理が実行されていないロットとは、FOUP1から基板Wが搬出されていないロット、すなわち、タイムチャートでは第1搬送機構CTCの処理が始まっていないロットである。   Here, in the present embodiment, the pure water cleaning processing unit ONB1 and the pure water cleaning processing unit ONB2 are resources that make it possible to wait for the substrate W without damaging the substrate W. Further, the lot that has not been processed is a lot in which the substrate W has not been unloaded from the FOUP 1, that is, a lot for which processing of the first transport mechanism CTC has not started in the time chart.

上述したように、所定の条件の下、第1ロットと第2ロットのスケジュールを一旦削除した後、優先ロットをハードリンクとしてスケジュールに追加を行う(図8)。図中で塗りつぶして記載されたタイムバーが優先ロットを示す。   As described above, after deleting the schedules of the first lot and the second lot under a predetermined condition, the priority lot is added as a hard link to the schedule (FIG. 8). The time bar filled in the figure indicates the priority lot.

ここで、ハードリンクとは、1ロットの処理を最短時間で処理できるように各リソースが配置されたスケジュールであり、他のロットとのリソースの競合等でリソースの配置が変更されないものである。   Here, the hard link is a schedule in which each resource is arranged so that the processing of one lot can be processed in the shortest time, and the arrangement of the resource is not changed due to resource competition with other lots.

優先ロットをハードリンクでスケジュールに追加した後、最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングを変更しないように、かつ、一旦削除された第1ロットと第2ロットのリソースとが競合しないように、それぞれのロットのリソースを前詰めで配置する(図9)。   After adding the priority lot to the schedule with a hard link, do not change the use timing of each resource of the lot that should be processed with the highest priority, and the resources of the first lot and the second lot that have been deleted will not conflict. In this way, the resources of each lot are arranged in front of each other (FIG. 9).

この方法によれば、既にスケジュールに基づく処理が開始されているような場合でも、他のロットの基板処理に影響を与えることなく、優先すべきロットを優先的に処理可能なスケジュールを再作成することができる。   According to this method, even when processing based on a schedule has already been started, a schedule that can preferentially process a lot to be prioritized without affecting the substrate processing of other lots is recreated. be able to.

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例では、図1に示す基板処理装置の構成を例に採ったが、複数個の処理部を備え、複数のロットを搬送機構で各処理部に移動しつつ処理を行うものであれば、このような構成に限定されるものではない。   (1) In the above-described embodiment, the configuration of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1 is taken as an example. However, the substrate processing apparatus includes a plurality of processing units, and performs processing while moving a plurality of lots to each processing unit by a transport mechanism. If it is a thing, it will not be limited to such a structure.

(2)上述した実施例では、待機可能なリソースとして純水洗浄処理部ONB1あるいは純水洗浄処理部ONB2をあげたが、待機中に基板に悪影響を与えないリソースであれば、このような構成に限定されるものではない。   (2) In the above-described embodiment, the pure water cleaning processing unit ONB1 or the pure water cleaning processing unit ONB2 is given as a resource that can be on standby. However, if the resource does not adversely affect the substrate during standby, such a configuration is used. It is not limited to.

1 FOUP
19 第1処理部
27 第2処理部
37 制御部
39 スケジューリング部
41 処理実行指示部
43 記憶部
CHB1 薬液処理部
CHB2 薬液処理部
CTC 第1搬送機構
LFS1 副搬送機構
LFS2 副搬送機構
LPD 乾燥処理部
ONB1 純水洗浄処理部
ONB2 純水洗浄処理部
W 基板
WTR 第2搬送機構
1 FOUP
19 First processing unit 27 Second processing unit 37 Control unit 39 Scheduling unit 41 Processing execution instruction unit 43 Storage unit CHB1 Chemical solution processing unit CHB2 Chemical solution processing unit CTC First transport mechanism LFS1 Sub-transport mechanism LFS2 Sub-transport mechanism LPD Drying processing unit ONB1 Pure water cleaning processing section ONB2 Pure water cleaning processing section W Substrate WTR Second transport mechanism

Claims (5)

基板に処理を行う複数の処理部を備えた基板処理装置により、前記各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたり、実際に処理を実行する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部が、各リソースの使用タイミングに基づくスケジュールに従って各ロットに対する処理を実行中に、最優先で処理すべきロットを前記スケジュールに追加する指示を受けた際、
実行中の前記スケジュールのうち、処理が実行されていないロットのスケジュールの削除と、処理が実行されているロットについては、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールの削除とを行うことで空きスケジュールを生成し、
前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングで、前記空きスケジュールに追加を行い、
前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングを変更しないように、削除したロットの各リソースの使用タイミングを再決定することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
When a plurality of lots are processed using a resource of each processing unit by a substrate processing apparatus including a plurality of processing units that perform processing on the substrate, the control unit performs the processing of each resource before actually executing the processing. In the substrate processing apparatus schedule creation method for determining the use timing,
When the control unit receives an instruction to add the lot to be processed with the highest priority to the schedule while executing the processing for each lot according to the schedule based on the use timing of each resource,
Of the schedules that are being executed, the schedules of lots that have not been processed are deleted, and the lots that are being processed are deleted by deleting schedules after resources that can wait until the next process. Generate a free schedule,
At the use timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority, add to the empty schedule,
A method of creating a schedule for a substrate processing apparatus, comprising: re-determining the use timing of each resource of a deleted lot so as not to change the use timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority.
請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記次の処理まで待機可能なリソースは、純水洗浄処理部におけるリソースであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1,
The resource that can stand by until the next processing is a resource in a pure water cleaning processing section, and a schedule creation method for a substrate processing apparatus.
請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングは、前記最優先で処理すべきロットの処理が最短の時間で完了する各リソースの使用タイミングであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1 or 2,
The substrate processing apparatus schedule characterized in that the use timing of each resource of the lot to be processed with the highest priority is the use timing of each resource to complete the processing of the lot to be processed with the highest priority in the shortest time. How to make.
請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記処理が実行されていないロットは、基板を収容する収容器から基板が搬出されていないロットであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus in any one of Claim 1 thru | or 3,
The method for creating a schedule for a substrate processing apparatus, wherein the lot for which the processing is not performed is a lot for which a substrate is not unloaded from a container for storing a substrate.
基板に処理を行う複数の処理部を備えた基板処理装置により、前記各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたり、実際に処理を実行する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
前記制御部が、各リソースの使用タイミングに基づくスケジュールに従って各ロットに対する処理を実行中に、最優先で処理すべきロットを前記スケジュールに追加する指示を受けた際、
実行中の前記スケジュールのうち、処理が実行されていないロットのスケジュールを削除するステップと、
処理が実行されているロットについては、次の処理まで待機可能なリソースより後のスケジュールを削除するステップと、
削除により生成された空きスケジュールに、前記最優先で処理すべきロットの各リソースの使用タイミングで、前記空きスケジュールに追加を行うステップと、
前記最優先で処理すべきロットが追加された各リソースの使用タイミングを変更しないように、削除したロットの各リソースの使用タイミングを再決定するステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
When a plurality of lots are processed using a resource of each processing unit by a substrate processing apparatus including a plurality of processing units that perform processing on the substrate, the control unit performs the processing of each resource before actually executing the processing. In the schedule creation program of the substrate processing apparatus that determines the use timing,
When the control unit receives an instruction to add the lot to be processed with the highest priority to the schedule while executing the processing for each lot according to the schedule based on the use timing of each resource,
Deleting a schedule of a lot that has not been processed among the schedules being executed;
For the lot that is being processed, deleting the schedule after the resource that can wait until the next processing;
Adding to the empty schedule generated at the time of use of each resource of the lot to be processed with the highest priority to the empty schedule generated by deletion;
Re-deciding the use timing of each resource of the deleted lot so as not to change the use timing of each resource to which the lot to be processed with the highest priority is added;
A program for creating a schedule of a substrate processing apparatus, characterized in that a computer is executed.
JP2009072011A 2009-03-24 2009-03-24 Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof Active JP5189534B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009072011A JP5189534B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009072011A JP5189534B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010225890A true JP2010225890A (en) 2010-10-07
JP5189534B2 JP5189534B2 (en) 2013-04-24

Family

ID=43042759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009072011A Active JP5189534B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5189534B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110352470A (en) * 2017-03-02 2019-10-18 株式会社斯库林集团 Base plate processing system, substrate board treatment and substrate processing method using same
WO2024157382A1 (en) * 2023-01-25 2024-08-02 株式会社日立ハイテク Inspection management system and method

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0846006A (en) * 1994-07-27 1996-02-16 Hitachi Ltd Production control method and production line
JPH11150061A (en) * 1997-11-17 1999-06-02 Canon Inc Semiconductor aligner, semiconductor manufacturing device, and device manufacture
JP2002217098A (en) * 2001-11-16 2002-08-02 Canon Inc Apparatus and method for manufacturing semiconductor device
JP2002341923A (en) * 2001-05-16 2002-11-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for creating schedule of board processor and its program
JP2003086481A (en) * 2001-09-11 2003-03-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for creating schedule of substrate processing apparatus and program therefor
JP2003099112A (en) * 2001-09-21 2003-04-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for preparing and executing schedule of substrate treating apparatus and its program
JP2009037406A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Panasonic Corp Production management method and system

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0846006A (en) * 1994-07-27 1996-02-16 Hitachi Ltd Production control method and production line
JPH11150061A (en) * 1997-11-17 1999-06-02 Canon Inc Semiconductor aligner, semiconductor manufacturing device, and device manufacture
JP2002341923A (en) * 2001-05-16 2002-11-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for creating schedule of board processor and its program
JP2003086481A (en) * 2001-09-11 2003-03-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for creating schedule of substrate processing apparatus and program therefor
JP2003099112A (en) * 2001-09-21 2003-04-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method for preparing and executing schedule of substrate treating apparatus and its program
JP2002217098A (en) * 2001-11-16 2002-08-02 Canon Inc Apparatus and method for manufacturing semiconductor device
JP2009037406A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Panasonic Corp Production management method and system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110352470A (en) * 2017-03-02 2019-10-18 株式会社斯库林集团 Base plate processing system, substrate board treatment and substrate processing method using same
CN110352470B (en) * 2017-03-02 2023-03-28 株式会社斯库林集团 Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method
WO2024157382A1 (en) * 2023-01-25 2024-08-02 株式会社日立ハイテク Inspection management system and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5189534B2 (en) 2013-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4073186B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP5852908B2 (en) Schedule creation method and schedule creation program for substrate processing apparatus
JP6313671B2 (en) Method for creating schedule for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus
KR102148089B1 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program
JP4845553B2 (en) Substrate processing apparatus schedule execution method and program thereof
JP5132111B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP5189534B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP3758992B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP4115107B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP4979412B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP5352390B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP5427455B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP4762025B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP2015170833A (en) Schedule generating method of substrate processing apparatus
JP5432654B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP4749197B2 (en) Control method of substrate processing apparatus
JP4731372B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP2008217058A (en) Schedule preparation method for substrate treatment apparatus, and its program
JP6282067B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP3960761B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP5295335B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP2008218449A (en) Schedule creating method of substrate processing apparatus and program thereof
JP4027110B2 (en) Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof
JP2010027772A (en) Schedule generating method for substrate processing apparatus, and program thereof
JP2009238916A (en) Scheduling method and program of substrate processing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111219

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121226

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130124

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160201

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5189534

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250