JP2010225846A - 基板の接続構造、基板の接続方法、電気光学装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】フレキシブル基板を素子基板から剥がす作業を伴わないようにすることによって、素子基板にストレス与えないリペア技術が望まれていた。
【解決手段】素子基板1には、フレキシブル基板2が接合される2つの接合領域R1と接合領域R2とが設けられている。さらに、接合領域R1には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM1aとアライメントマークM1bとが、また接合領域R2には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM2aとアライメントマークM2bとが、それぞれ形成されている。一方、フレキシブル基板2には、素子基板1と接合する2つの接合領域F1と接合領域F2とが設けられている。
【選択図】図2
【解決手段】素子基板1には、フレキシブル基板2が接合される2つの接合領域R1と接合領域R2とが設けられている。さらに、接合領域R1には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM1aとアライメントマークM1bとが、また接合領域R2には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM2aとアライメントマークM2bとが、それぞれ形成されている。一方、フレキシブル基板2には、素子基板1と接合する2つの接合領域F1と接合領域F2とが設けられている。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板の接続構造、基板の接続方法、この基板の接続構造を備えた電気光学装置、この基板の接続方法で接続された基板を備えた電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器に関する。
従来より、例えば有機ELパネルなどの電気光学装置では、有機ELパネルの表示領域に設けられた画素に画像を表示するための画像信号を入力し、入力した画像信号を有機ELパネル内で所定の信号処理を行うことによって、画素に画像を表示することが行われている。
このとき、有機ELパネルでは、画像信号が供給される可撓性を有するフレキシブル基板を、ガラス板などのリジッド基板であり有機ELパネルを構成する素子基板に対して、その素子基板の端部において接合する基板の接続構造が設けられている。そして、この基板の接続構造によって、素子基板に配線形成された電極端子群と、この電極端子群に対応してフレキシブル基板に配線形成された電極端子群とを電気的に接続し、画像信号をフレキシブル基板側から素子基板側に伝送することが行われている。そして、フレキシブル基板を素子基板に対して接合する際には、厚さ方向への導電性と接着性とを有する異方性導電膜(ACF)を基板間に介在して圧着し、フレキシブル基板と素子基板とを電気的に接続する方法が多く採用されている。
このように、異方性導電膜を介してフレキシブル基板と素子基板とを接合する接続構造において接合部分に導電性異物が存在する場合、それぞれの電極端子群において電極端子間で電気的な短絡が生ずることがある。そこで、接合部分における電極端子間の短絡の発生を抑える接続技術が種々提案されている(例えば特許文献1)。
しかしながら、接合部分に導電性異物が存在する場合は、少なからず短絡が生じ、修復(リペア)作業が行われる。通常リペア作業は、既に接続されたフレキシブル基板を機械的に引っ張るなどして素子基板から剥がし、新しいフレキシブル基板を異方性導電膜(フィルム)を介して再び素子基板に接合することで行われる。
このとき、異方性導電膜を介してフレキシブル基板と素子基板とを接合する基板の接続構造においては、素子基板からフレキシブル基板を剥がす際に、素子基板にストレスを与えてしまうことが生じる。この結果、与えられたストレスによって素子基板にヒビや亀裂が発生するなど、接合部分の信頼性を劣化させてしまう虞がある。特に、近年は有機ELパネルの薄型化のためにパネルを構成する素子基板が薄くなっている場合が多く、ヒビや亀裂が発生しやすくなるために、接合部分の信頼性を劣化させてしまう虞が高まっている。従って、フレキシブル基板を素子基板から剥がす作業を伴わないようにすることによって、素子基板にストレス与えないリペア技術が望まれていた。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群の各端子と対応するように第2電極端子群が基板面に形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続構造であって、前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続される接合領域が、複数設けられていることを特徴とする。
この構成によれば、第1電極端子群と第2電極端子群とを電気的に接続する接合領域が第1基板の基板面に複数形成されている。従って、例えば、1つの接合領域において第1基板に接合された第2基板を、第1基板から剥がすことなく、別の接合領域において第1基板に対して別の第2基板を接合することによって、基板にストレス与えることなくリペアすることが可能である。
[適用例2]上記基板の接続構造であって、前記第2基板の前記基板面には、前記第1基板に設けられた前記複数の接合領域のそれぞれに形成された前記第1電極端子群に対応して、前記第2電極端子群が複数形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、例えば、第2基板から、1つの接合領域において接合した第2基板の接合領域を切り離しても、第2基板には他の接合領域に対応した第2電極端子群が形成されているので、1つの第2基板をリペアに用いることができる。従って、第2基板の消費を抑制することができる。
[適用例3]上記基板の接続構造であって、前記第1基板には、前記接合領域毎に、前記第2基板を接合する位置を示すアライメントマークが形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、第1基板の接合領域に対して第2基板の接合領域を位置合わせするとき、アライメントマークを用いて容易に位置合わせすることができる。
[適用例4]上記基板の接続構造であって、前記アライメントマークは、前記接合領域毎に異なる形状であることを特徴とする。
この構成によれば、例えば接合順など、接合に用いる接合領域を間違うことなく、第1基板の接合領域に対して第2基板の接合領域の位置を正しく合わせることができる。
[適用例5]上記基板の接続構造であって、前記接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔は、前記接合領域毎に異なることを特徴とする。
この構成によれば、リペア時の接続において、第1電極端子群または第2電極端子群における端子間の短絡の発生確率を低くすることができる。
[適用例6]上記基板の接続構造であって、前記第2基板は可撓性を有するフレキシブル基板であることを特徴とする。
この構成によれば、既に接合された第2基板を第1基板の接合領域に残したままで、第2基板が有する可撓性によって、第2基板を第1基板に接合してリペアすることができる。
[適用例7]第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群の各端子と対向するように第2電極端子群が基板面に形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続方法であって、前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合される第1接合領域と第2接合領域とが設けられ、前記第1接合領域において前記第1基板に接合された前記第2基板から、前記第1接合領域に接合された基板領域を切り離す工程と、前記第1接合領域に形成された前記第1電極端子群と、前記第2接合領域に形成された前記第1電極端子群との間の電気的な接続を切断する工程と、前記第2接合領域において前記第1基板および前記第2基板とを接合する工程と、を備えたことを特徴とする。
この方法によれば、第1接合領域において第1基板に接合された第2基板を、第1基板から剥がすことなく切り離し、新たに第2接合領域において第1基板に対して第2基板を接合するので、基板にストレス与えることなくリペアすることが可能である。
[適用例8]第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群と対向するように第2電極端子群が基板面に複数形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続方法であって、前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合される第1接合領域と第2接合領域とが設けられ、前記第1接合領域に接合された前記第2基板を、前記第1接合領域とともに前記第1基板から切り離す工程と、前記第2接合領域において前記第1基板と前記第2基板とを接合する工程と、を備えたことを特徴とする。
この方法によれば、第1接合領域において第1基板に接合された第2基板を、第1基板から剥がすことなく、第1接合領域ごと第1基板から切り離し、新たに第2接合領域において第1基板に対して第2基板を接合するので、基板にストレス与えることなくリペアすることが可能である。
[適用例9]上記基板の接続方法であって、前記第2接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔は、前記第1接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔よりも広いことを特徴とする。
こうすれば、リペア時の接続において、第1電極端子群および第2電極端子群における端子間の短絡の発生確率を低くすることができる。
[適用例10]上記基板の接続方法であって、前記第2基板の前記基板面には、前記第1基板に設けられた前記第1接合領域と前記第2接合領域とに対応する前記第2電極端子群が形成されていることを特徴とする。
こうすれば、例えば、第1接合領域において接合した第2基板の基板領域を切り離しても、切り離された第2基板には、第2接合領域に対応した第2電極端子群が形成されているので、この切り離された第2基板をリペアに用いることができる。従って、第2基板の消費を抑制することができる。
[適用例11]上記基板の接続方法であって、前記第2基板は、可撓性を有するフレキシブル基板であることを特徴とする。
こうすれば、既に接合された第2基板を第1基板の第1接合領域に残したままで、リペアすることが容易になる。
[適用例12]電気光学素子と、前記電気光学素子を駆動するための信号が入力される第1電極端子群が基板面に形成された第1基板と、前記第1電極端子群の各端子に接続され、前記電気光学素子を駆動するための信号を供給する第2電極端子群が基板面に形成された第2基板と、を備えた電気光学装置であって、前記第1基板と前記第2基板との接続が、上記基板の接続構造を有することを特徴とする。
この電気光学装置によれば、基板にストレス与えることなくリペアすることができるリペア性の優れた電気光学装置を提供できる。
[適用例13]電気光学素子と、前記電気光学素子を駆動するための信号が入力される第1電極端子群が基板面に形成された第1基板と、前記第1電極端子群の各端子に接続され、前記電気光学素子を駆動するための信号を供給する第2電極端子群が基板面に形成された第2基板と、を備えた電気光学装置であって、前記第1基板と前記第2基板との接続が、上記基板の接続方法で行われたことを特徴とする。
この電気光学装置によれば、基板にストレス与えることなくリペアすることができるリペア性の優れた電気光学装置を提供できる。
[適用例14]上記電気光学装置を表示装置として備えた電子機器。
この電子機器によれば、基板にストレス与えることなくリペアすることができるリペア性の優れた表示装置を有するので、コストアップを抑制した電子機器が得られる。
以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。なお、以降の説明において用いる図面は、説明のために誇張して図示している場合もあり、必ずしも実際の大きさや長さを示すものでないことは言うまでもない。
(電気光学装置)
図1は、基板の接合部分に本発明の基板の接続構造および接続方法を適用する一実施形態となる電気光学装置としての有機ELパネル100について、その接合部分の構成を模式的に示した説明図である。なお、図1(a)は平面図、図1(b)は図1(a)におけるA−A線に沿った部分断面図である。
図1は、基板の接合部分に本発明の基板の接続構造および接続方法を適用する一実施形態となる電気光学装置としての有機ELパネル100について、その接合部分の構成を模式的に示した説明図である。なお、図1(a)は平面図、図1(b)は図1(a)におけるA−A線に沿った部分断面図である。
図1(a)に示すように、有機ELパネル100は、第1基板としての素子基板1と、対向基板3とが、その周辺に配置された図示しないシール材によって、内部を封止状態にして貼り合わされた構造を有している。そして、表示領域100dには図示しない電気光学素子としての画素が形成され、封止状態で貼り合わされた内部には、素子基板1の基板上に画素を表示駆動するための図示しない駆動回路が形成されている。
素子基板1は、対向基板3が対向していない領域部分に形成された接合部分において、第2基板としてのフレキシブル基板2が接合されている。具体的には、素子基板1の基板面に形成された第1電極端子群としての複数の帯状の電極端子11と、フレキシブル基板2の基板面に形成された第2電極端子群としての複数の帯状の電極端子21とが、それぞれの基板面間に異方性導電膜4を介在して熱圧着され、電気的に導通するように接合(接続)されている。この結果、フレキシブル基板2から供給される画像信号は、互いに接続された電極端子21と電極端子11とを介して素子基板1に形成された駆動回路に送信され、画像信号に応じて画素が表示駆動されることによって表示領域100dに画像が表示される。
素子基板1とフレキシブル基板2との接合部分は、図1(b)に示した構成を有している。すなわち、素子基板1に形成された電極端子11と、フレキシブル基板2に形成された電極端子21とが対向するように、素子基板1とフレキシブル基板2とを平面的に配置した後、素子基板1とフレキシブル基板2との間に異方性導電膜4を介在して配置する。そして、図示しない圧着ヘッドにより異方性導電膜4を加熱プレスして潰すことによって、異方性導電膜4に含まれる導電性粒子(例えば半田粒子)が電極端子11と電極端子21との間の電気的な接続を行う。この結果、それぞれの電極端子群の電極端子間つまり面方向の絶縁を確保しつつ、電極端子11と電極端子21との接続つまり厚さ方向の電気的な接続を行うのである。
ここで、本実施形態では、素子基板1の基板面において、潰された異方性導電膜4がほぼ占有する領域Rを、請求項記載の第1基板の接合領域として扱うこととする。また、フレキシブル基板2の基板面において、各電極端子11に対して、これと対応する電極端子21を接合するために必要な領域Fを、請求項記載の第2基板の接合領域として扱うこととする。もとより、領域Rおよび領域Fは、素子基板1とフレキシブル基板2とに形成される電極端子の形状や、素子基板1とフレキシブル基板2との間に配置される異方性導電膜の大きさや厚みなどによって異なることは言うまでもない。
さて、このような異方性導電膜を用いて電極端子間の接続を行う接合方法において、導電性異物DBが異方性導電膜4中に混入していると、例えば、図1(a)に示したように、電極端子間で平面方向の導通が生じ、電極端子間での短絡が生じてしまう。この結果、フレキシブル基板2の電極端子21から画像信号を正しく供給できなくなり、表示領域100dに正しく画像を表示することができなくなってしまう。従って、このような場合には、修復(リペア)を行う必要がある。
そこで、本実施形態では、素子基板1およびフレキシブル基板2のそれぞれに、複数の接合領域を設け、リペア作業時において素子基板1にストレス与えることなくリペアすることができる基板の接続構造とした。以下、本実施形態における素子基板1とフレキシブル基板2との接続構造と、リペア作業で行われる素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、順次説明する。
(基板の接続構造)
まず本実施形態の基板の接続構造を図2を用いて説明する。なお図2(a)は、本実施形態の素子基板1とフレキシブル基板2の構成を示した平面図で、図2(b)はこれらが接合された状態を示す平面図である。なお、図2(b)では、フレキシブル基板2を透視状態で示している。
まず本実施形態の基板の接続構造を図2を用いて説明する。なお図2(a)は、本実施形態の素子基板1とフレキシブル基板2の構成を示した平面図で、図2(b)はこれらが接合された状態を示す平面図である。なお、図2(b)では、フレキシブル基板2を透視状態で示している。
図2(a)に示したように、素子基板1には、対向基板が重ならない領域に、フレキシブル基板2が接合される2つの接合領域R1と接合領域R2とが設けられている。そして、電極端子11は、この2つの接合領域R1と接合領域R2とに跨って配線形成されている。さらに、接合領域R1には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM1aとアライメントマークM1bとが、また接合領域R2には、接合されるフレキシブル基板2の位置合わせのためのアライメントマークM2aとアライメントマークM2bとが、それぞれ形成されている。ちなみに、本実施形態ではアライメントマークは四角形(正方形)の形状を有し、マスク印刷や配線材料のパターニング等で基板面に形成されている。なお、接合領域R1と接合領域R2との間は所定の隙間DS1が設けられている。この隙間DS1については後述する。
一方、フレキシブル基板2には、素子基板1と接合する2つの接合領域F1と接合領域F2とが設けられている。そして、電極端子21は、この2つの接合領域F1と接合領域F2とに跨って配線形成されている。さらに、接合領域F1には、接合する素子基板1との位置合わせのためのアライメントマークN1aとアライメントマークN1bが、また接合領域F2には、接合する素子基板1との位置合わせのためのアライメントマークN2aとアライメントマークN2bが、それぞれ形成されている。ちなみに、本実施形態ではアライメントマークは、円形の形状を有し、フレキシブル基板2が透明な基板材料で形成されている場合は、マスク印刷や配線材料のパターニング等で基板面に形成されている。あるいは、アライメントマークは穴であってもよい。フレキシブル基板2が不透明な基板材料で形成されているような場合では有効である。なお、接合領域F1と接合領域F2との間は所定の隙間DS2が設けられている。この隙間DS2については後述する。
さて、フレキシブル基板2を素子基板1に対して接合した状態は、通常図2(b)に示したようになる。すなわち、アライメントマークN1aとアライメントマークM1aとの位置、およびアライメントマークN1bとアライメントマークM1bとの位置がそれぞれ合わされる。そして、素子基板1の接合領域R1において、ほぼ接合領域R1の形状を呈する異方性導電膜4によって、フレキシブル基板2の接合領域F1が素子基板1に対して接合された状態となる。
この接合状態で、例えば図1に示したような導電性異物DBが存在せず、電極端子11と電極端子21との間のそれぞれの接続が正常な場合は、この状態が基板の接続構造となる。従って、フレキシブル基板2の接続状態において、素子基板1には、接合領域R2が残存し、フレキシブル基板2には、接合領域F2が残存した状態となる。
次に、電極端子11間や電極端子21間に短絡があった場合などに行われるリペア作業において、本実施形態で行われる素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、2つの実施例を説明する。
(基板の接続方法の第1実施例)
本実施例における素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、図3、および図4を用いて説明する。図3は、本実施例のリペア処理のフローチャートである。図4はリペア処理中の素子基板1とフレキシブル基板2との具体的な接合状態を示している。
本実施例における素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、図3、および図4を用いて説明する。図3は、本実施例のリペア処理のフローチャートである。図4はリペア処理中の素子基板1とフレキシブル基板2との具体的な接合状態を示している。
図3に示したように、リペア処理が開始されると、まず、フレキシブル基板を切断処理する(ステップS101)。具体的には、図4(a)に示したように、接合領域R1において接続されたフレキシブル基板2を、カッターや鋏などの切断手段を用いて切断線CL1で切断する。このとき切断線CL1は、接合領域F2の領域端部の位置とすることが好ましい。こうすれば、切断された状態においてフレキシブル基板2の端部を接合領域F2とすることができるので、この切断された状態のまま素子基板1に対して接合使用することが可能なフレキシブル基板2となる。従って、切断線CL1は、平面的に素子基板1の接合領域R1の領域外、つまり接合領域F1とは隣接せず離れた位置となることから、接合領域F1と接合領域F2との間に所定の隙間DS2を設けるのである。
図3に戻り、次に、素子基板の電極端子を切断処理する(ステップS102)。具体的には、図4(b)に示したように、電極端子11を、カッターやレーザーなどの切断手段を用いて切断線DLで切断する。このとき切断線DLは、接合領域R1と接合領域R2との間の位置、つまり接合領域R2の領域外の位置とすることが好ましい。こうすれば、電極端子11が切断された状態で、接合領域R2において接合されるフレキシブル基板2の電極端子21と、平面的に重なる電極端子11の領域が確保されるとともに、切断後、接合領域R1の領域側に残る電極端子11との間での短絡が生じ難くなる。従って、切断線DLに沿った電極端子11の切断処理において必要とする隙間(例えばカッターの切断代)DS1を、接合領域R1と接合領域R2との間に設けるのである。
図3に戻り、次に、切断したフレキシブル基板を素子基板に接合処理して(ステップS103)、リペア処理を終了する。具体的には、図4(c)に示したように、切断されたフレキシブル基板2を、素子基板1に対して、接合領域R2において接合する。すなわち、アライメントマークN2aとアライメントマークM2aとの位置、およびアライメントマークN2bとアライメントマークM2bとの位置をそれぞれ合わせ、異方性導電膜を介在して熱圧着し、素子基板1に対してフレキシブル基板2の接合領域F2を接合するのである。この結果、1つのフレキシブル基板2をリペアに用いることができる。従って、フレキシブル基板2の消費を抑制することができる。なお、図4(c)では、接合領域R2における異方性導電膜を省略している。また、フレキシブル基板2を透視状態で示している。
上述した本実施例の基板の接続方法によれば、例えば図1に示したような導電性異物DBが存在する接合領域R1との電気的な接続が切断されているので、電極端子11と電極端子21との間のそれぞれの接続は修復される。また、フレキシブル基板2を素子基板1から剥がす処理を伴わないので、素子基板1にストレスが加わることがない。この結果、ストレスによって素子基板1にヒビや亀裂が発生するなど、接続部分の信頼性を劣化させてしまう虞もない。
なお、素子基板1のリペア用の接合領域R2にフレキシブル基板2を接合する場合、フレキシブル基板2が有する可撓性によって、素子基板1の接合領域R1において既に接合されたフレキシブル基板2を残したままで、接合領域R2に接合することが可能である。
(基板の接続方法の第2実施例)
本実施例における素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、図5、および図6を用いて説明する。図5は、本実施例のリペア処理のフローチャートである。図6はリペア処理中の素子基板1とフレキシブル基板2との具体的な接合状態を示している。
本実施例における素子基板1とフレキシブル基板2との接続方法について、図5、および図6を用いて説明する。図5は、本実施例のリペア処理のフローチャートである。図6はリペア処理中の素子基板1とフレキシブル基板2との具体的な接合状態を示している。
図5に示したように、リペア処理が開始されると、まず、素子基板を切断処理する(ステップS111)。具体的には、図6(a)に示したように、素子基板1を、カッターやレーザーなどの切断手段を用いて切断線CL2で切断する。このとき切断線CL2は、接合領域R1と接合領域R2との間の位置とすることが好ましい。こうすれば、素子基板1が切断された状態で、接合領域R2において接合されるフレキシブル基板2の電極端子21と、平面的に重なる電極端子11の領域が確保される。従って、切断線CL2における切断処理において必要となる隙間(例えば切断代)DS1を、接合領域R1と接合領域R2との間に設けるのである。
本実施例は、素子基板1を切り落とすことなく素子基板1に形成された電極端子11を切断した上記第1実施例と異なり、電極端子11と一緒に素子基板1を切断して切り離す。従って、図6(b)に示したように、接合領域R1およびフレキシブル基板2が接合状態のまま、素子基板1から切断削除される。
図5に戻り、次に、素子基板にフレキシブル基板を接合処理して(ステップS112)、リペア処理を終了する。具体的には、図6(c)に示したように、フレキシブル基板2を、素子基板1に対して、接合領域R2において接合する。本実施例では、フレキシブル基板2は、上記第1実施例と同様、接合領域F2の領域端面で切断されたフレキシブル基板であるものとする。従って、アライメントマークN2aとアライメントマークM2aとの位置、およびアライメントマークN2bとアライメントマークM2bとの位置をそれぞれ合わせ、異方性導電膜を介在して熱圧着すれば、素子基板1に対してフレキシブル基板2の接合領域F2が接合されるのである。なお、図6(c)では、異方性導電膜を省略し、またフレキシブル基板2を透視状態で示している。
もとより、フレキシブル基板2を、新しいフレキシブル基板2としても差し支えない。この場合は、アライメントマークN1aとアライメントマークM2aとの位置、およびアライメントマークN1bとアライメントマークM2bとの位置をそれぞれ合わせ、異方性導電膜を介在させて熱圧着し、素子基板1に対してフレキシブル基板2の接合領域F1を接合することになる。
上述した本実施例の基板の接続方法によれば、例えば図1に示したような導電性異物DBが存在する接合領域R1が素子基板1から切り落とされ、電気的な短絡部分が削除されるので、電極端子11と電極端子21との間のそれぞれの接続は修復される。また、フレキシブル基板2を素子基板1から剥がす処理を伴わないので、素子基板1にストレスが加わることがない。この結果、ストレスによって素子基板1にヒビや亀裂が発生するなど、接続部分の信頼性を劣化させてしまう虞もない。
以上、本発明について、実施形態を用いて説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。以下変形例を挙げて説明する。
(基板の接続構造の第1変形例)
上記実施形態では、図2(a)に示したように、素子基板1に形成された帯状の電極端子11は、2つの接合領域R1と接合領域R2とに跨って配線形成されている。従って、特に言及しなかったが、隣接する電極端子11間の間隔は、接合領域R1と接合領域R2とにおいて同じである。これは、フレキシブル基板2に形成された電極端子21においても同様である。従って、図4(a)に示したように、接合領域R1における接合時において、電極端子間の間隔が同じであるため、リペア時においても、同じサイズの導電性異物DBが存在した場合、導電性異物DBによる短絡が生じてしまうことになる。
上記実施形態では、図2(a)に示したように、素子基板1に形成された帯状の電極端子11は、2つの接合領域R1と接合領域R2とに跨って配線形成されている。従って、特に言及しなかったが、隣接する電極端子11間の間隔は、接合領域R1と接合領域R2とにおいて同じである。これは、フレキシブル基板2に形成された電極端子21においても同様である。従って、図4(a)に示したように、接合領域R1における接合時において、電極端子間の間隔が同じであるため、リペア時においても、同じサイズの導電性異物DBが存在した場合、導電性異物DBによる短絡が生じてしまうことになる。
そこで、基板の接続構造の第1変形例として、接合領域R2における電極端子間の間隔を、接合領域R1よりも広くする。こうすることによって、同じサイズの導電性異物DBが存在しても導電性異物DBによる短絡を生じないようにして、短絡の発生確率を低減することができる。本変形例を、図7を用いて説明する。図7は、図2(a)に対応する図で、本変形例の素子基板1とフレキシブル基板2の構成を示した平面図である。
図示するように、素子基板1について、接合領域R1における電極端子11は電極端子間が間隔P1で形成されている。これに対して、リペア時に使用される接合領域R2における電極端子11は、電極端子間が間隔P1よりも広い間隔P2で形成されている。この結果、接合領域R1において電極端子間の短絡を引き起こす大きさの導電性異物DBが、接合領域R2において存在しても、電極端子間の短絡の発生が抑制されることになる。
同様に、フレキシブル基板2について、接合領域F1における電極端子21は、素子基板1における接合領域R1の電極端子11に対応して形成されるので、電極端子間が間隔P1で形成されることになる。また、リペア時に使用される接合領域F2における電極端子21は、素子基板1における接合領域R2の電極端子11に対応して形成されるので、電極端子間が間隔P1よりも広い間隔P2で形成されることになる。この結果、接合領域F1において電極端子間の短絡を引き起こす大きさの導電性異物DBが、接合領域F2において存在しても、電極端子間の短絡の発生が抑制されることになる。
なお、間隔P2は、電極端子間の短絡を抑制するためには、広い方が好ましいことは明らかであるが、間隔P2を広くすると、電極端子11と電極端子21との平面的に重なる面積領域が減少する。従って、異方性導電膜による電極端子間の電気的な導通を行える範囲において、間隔P2を最も広くすることが好ましい。
(基板の接続構造の第2変形例)
上記実施形態では、図2(a)に示したように、素子基板1に形成された帯状の電極端子11は、2つの接合領域R1と接合領域R2とに跨って同形状で配線形成されている。従って、電極端子11の形状は接合領域R1と接合領域R2とにおいて同じである。このため、図4(a)に示したように、通常アライメントマークの位置合わせでは、作業者が顕微鏡などを覗いて視覚的に拡大されたアライメントマークを見ながら位置合わせを行うことが多い。この場合、作業者の視野は狭くなるために接合領域が識別できず、その結果、接合領域R1ではなく接合領域R2のアライメントマークに対して位置合わせを行ってしまう虞がある。
上記実施形態では、図2(a)に示したように、素子基板1に形成された帯状の電極端子11は、2つの接合領域R1と接合領域R2とに跨って同形状で配線形成されている。従って、電極端子11の形状は接合領域R1と接合領域R2とにおいて同じである。このため、図4(a)に示したように、通常アライメントマークの位置合わせでは、作業者が顕微鏡などを覗いて視覚的に拡大されたアライメントマークを見ながら位置合わせを行うことが多い。この場合、作業者の視野は狭くなるために接合領域が識別できず、その結果、接合領域R1ではなく接合領域R2のアライメントマークに対して位置合わせを行ってしまう虞がある。
そこで、基板の接続構造の第2変形例として、接合領域R1のアライメントマークM1a,M1bと、接合領域R2のアライメントマークM2a,M2bとを、異なるマーク形状で形成する。こうすることによって、素子基板1に設けられた接合領域R1と接合領域R2とを、作業者は正しく認識することができる。従って、フレキシブル基板2の接合領域F1を、素子基板1の接合領域R2に接合することが抑制される。本変形例の一例を、図8を用いて説明する。なお、図8(a)は、図2(a)に示した上記実施形態の素子基板1に対応する平面図である。また、図8(b)は、図7に示した上記基板の接続構造の第1変形例における素子基板1に対応する平面図である。
図8(a)に示すように、素子基板1について、接合領域R1におけるアライメントマークM1a,M1bは四角形(正方形)で形成されている。これに対して、リペア時に使用される接合領域R2におけるアライメントマークM2a,M2bは、三角形(正三角形)で形成されている。この結果、作業者は接合領域R1と接合領域R2とを間違える確率が低くなり、フレキシブル基板2の接合領域F1(接合領域F2)を素子基板1の接合領域R1(接合領域R2)に対して、正しく位置合わせを行える確率が高くなる。
同様に、図8(b)に示したように、素子基板1に形成された電極端子11の形状が、接合領域R1と接合領域R2とで電極端子間の間隔が異なる上記基板の接続構造の第1変形例においても、アライメントマークの形状を異ならせることとしてもよい。例えば、素子基板1について、接合領域R1におけるアライメントマークM1a,M1bは四角形(正方形)で形成されている。これに対して、リペア時に使用される接合領域R2におけるアライメントマークM2a,M2bは、三角形(正三角形)で形成されている。
この結果、特にアライメントマークのみを見て位置合わせを行う場合であっても、作業者は接合領域R1と接合領域R2とを間違えることなく認識することが可能となる。従って、フレキシブル基板2の接合領域F1(接合領域F2)を素子基板1の接合領域R1(接合領域R2)に対して、正しく位置合わせできる確率が高くなる。
なお、本変形例において、フレキシブル基板2の接合領域F1のアライメントマークN1a,N1bと接合領域F2のアライメントマークN2a,N2bとを、素子基板1のアライメントマークに応じて異なるマーク形状で形成するようにしても差し支えない。こうすれば、フレキシブル基板2の接合領域F1(接合領域F2)を素子基板1の接合領域R1(接合領域R2)に対して、正しく位置合わせできる確率がさらに高くなる。
(電子機器)
さて、上記実施形態では、本発明を電気光学装置としての有機ELパネル100としたが、例えば、上記実施形態の有機ELパネル100を備えた電子機器としてもよい。電子機器は、一例として、図9に示したように携帯電話であってもよい。図9は、表示部に有機ELパネル100を組み込んだ携帯電話の模式図である。携帯電話は、筐体が薄いほうが持ち運び易くなることから、上記実施形態の有機ELパネル100を備えることによって、少なくとも表示部のケース厚さを薄く出来るとともに、基板の接合部分の信頼性が高い携帯電話を提供することができる。
さて、上記実施形態では、本発明を電気光学装置としての有機ELパネル100としたが、例えば、上記実施形態の有機ELパネル100を備えた電子機器としてもよい。電子機器は、一例として、図9に示したように携帯電話であってもよい。図9は、表示部に有機ELパネル100を組み込んだ携帯電話の模式図である。携帯電話は、筐体が薄いほうが持ち運び易くなることから、上記実施形態の有機ELパネル100を備えることによって、少なくとも表示部のケース厚さを薄く出来るとともに、基板の接合部分の信頼性が高い携帯電話を提供することができる。
もとより、電子機器は、携帯電話に限るものでなく、表示部が薄型であることが好ましいビデオカメラ、デジタルカメラを始め、テレビジョンや電子手帳、モバイル端末機などであってもよい。要は、表示部を有する電子機器であれば、いずれの電子機器においても適用できる。
(その他の変形例)
上記実施形態では、電気光学装置として有機ELパネルを一例として説明したが、特にこれに限るものでなく、素子基板1とフレキシブル基板2とを接続する構成を有する装置であれば、液晶パネルなど他の装置であってもよいことは勿論である。また、接続される2つの基板が、両方ともリジッド基板であってもよいし、両方ともフレキシブル基板であっても差し支えない。
上記実施形態では、電気光学装置として有機ELパネルを一例として説明したが、特にこれに限るものでなく、素子基板1とフレキシブル基板2とを接続する構成を有する装置であれば、液晶パネルなど他の装置であってもよいことは勿論である。また、接続される2つの基板が、両方ともリジッド基板であってもよいし、両方ともフレキシブル基板であっても差し支えない。
また、上記実施形態では、素子基板1(フレキシブル基板2)に2つの接合領域R1,R2(接合領域F1,F2)を設けることして説明したが、特にこれに限るものでなく、3つ以上の接合領域を設けることとしてもよい。この場合、素子基板1には、接合領域毎に、フレキシブル基板2を接合する位置を示すとともに異なる形状を有するアライメントマークが形成されていることが好ましい。また、各接合領域に形成された電極端子11の端子間隔は、接合領域毎に異なるように形成することが好ましい。
また、上記実施形態では、第1電極端子群としての複数の電極端子11と、第2電極端子群としての複数の電極端子21とを、それぞれ帯状の電極形状であるものとして説明したが、特にこれに限るものでないことは勿論である。前述の説明から明らかなように、接合領域毎に電極端子11と電極端子21との形状が対応して形成されていればよく、円形や楕円形、あるいは正方形などの帯状以外の形状であってもよい。また、電極端子間の形成位置も等ピッチでなくランダムであっても勿論よい。
さらに、上記実施形態では、本発明を電気光学装置として説明したが、本発明は、異方性導電膜を介在させて基板を接合する接合部分に対して適用することができる。従って、本発明は、電気光学装置に限らず、基板の接続構造および基板の接続方法に対しても適用することができる。
1…素子基板、2…フレキシブル基板、3…対向基板、4…異方性導電膜、11…電極端子、21…電極端子、100…有機ELパネル、100d…表示領域、M1a,M1b,M2a,M2b…アライメントマーク、N1a,N1b,N2a,N2b…アライメントマーク、R1,R2,F1,F2…接合領域。
Claims (14)
- 第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群の各端子と対応するように第2電極端子群が基板面に形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続構造であって、
前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続される接合領域が、複数設けられていることを特徴とする基板の接続構造。 - 請求項1に記載の基板の接続構造であって、
前記第2基板の前記基板面には、前記第1基板に設けられた前記複数の接合領域のそれぞれに形成された前記第1電極端子群に対応して、前記第2電極端子群が複数形成されていることを特徴とする基板の接続構造。 - 請求項1または2に記載の基板の接続構造であって、
前記第1基板には、前記接合領域毎に、前記第2基板を接合する位置を示すアライメントマークが形成されていることを特徴とする基板の接続構造。 - 請求項3に記載の基板の接続構造であって、
前記アライメントマークは、前記接合領域毎に異なる形状であることを特徴とする基板の接続構造。 - 請求項1ないし4のいずれか一項に記載の基板の接続構造であって、
前記接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔は、前記接合領域毎に異なることを特徴とする基板の接続構造。 - 請求項1ないし5のいずれか一項に記載の基板の接続構造であって、
前記第2基板は可撓性を有するフレキシブル基板であることを特徴とする基板の接続構造。 - 第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群の各端子と対向するように第2電極端子群が基板面に形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続方法であって、
前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合される第1接合領域と第2接合領域とが設けられ、
前記第1接合領域において前記第1基板に接合された前記第2基板から、前記第1接合領域に接合された基板領域を切り離す工程と、
前記第1接合領域に形成された前記第1電極端子群と、前記第2接合領域に形成された前記第1電極端子群との間の電気的な接続を切断する工程と、
前記第2接合領域において前記第1基板および前記第2基板とを接合する工程と、
を備えたことを特徴とする基板の接続方法。 - 第1電極端子群が基板面に形成された第1基板に対して、前記第1電極端子群と対向するように第2電極端子群が基板面に複数形成された第2基板が、それぞれの前記基板面間に異方性導電膜を介在して接合され、前記第1電極端子群と前記第2電極端子群とが電気的に接続された基板の接続方法であって、
前記第1基板の前記基板面には、前記第2基板が接合される第1接合領域と第2接合領域とが設けられ、
前記第1接合領域に接合された前記第2基板を、前記第1接合領域とともに前記第1基板から切り離す工程と、
前記第2接合領域において前記第1基板と前記第2基板とを接合する工程と、
を備えたことを特徴とする基板の接続方法。 - 請求項7または8に記載の基板の接続方法であって、
前記第2接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔は、前記第1接合領域に形成された前記第1電極端子群の端子間隔よりも広いことを特徴とする基板の接続方法。 - 請求項7ないし9のいずれか一項に記載の基板の接続方法であって、
前記第2基板の前記基板面には、前記第1基板に設けられた前記第1接合領域と前記第2接合領域とに対応する前記第2電極端子群が形成されていることを特徴とする基板の接続方法。 - 請求項7ないし10のいずれか一項に記載の基板の接続方法であって、
前記第2基板は、可撓性を有するフレキシブル基板であることを特徴とする基板の接続方法。 - 電気光学素子と、前記電気光学素子を駆動するための信号が入力される第1電極端子群が基板面に形成された第1基板と、前記第1電極端子群の各端子に接続され、前記電気光学素子を駆動するための信号を供給する第2電極端子群が基板面に形成された第2基板と、を備えた電気光学装置であって、
前記第1基板と前記第2基板との接続が、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の基板の接続構造を有することを特徴とする電気光学装置。 - 電気光学素子と、前記電気光学素子を駆動するための信号が入力される第1電極端子群が基板面に形成された第1基板と、前記第1電極端子群の各端子に接続され、前記電気光学素子を駆動するための信号を供給する第2電極端子群が基板面に形成された第2基板と、を備えた電気光学装置であって、
前記第1基板と前記第2基板との接続が、請求項7ないし11のいずれか一項に記載の基板の接続方法で行われたことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項12または13に記載の電気光学装置を表示装置として備えた電子機器。
Priority Applications (1)
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JP2009071473A JP2010225846A (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 基板の接続構造、基板の接続方法、電気光学装置および電子機器 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107770957A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-03-06 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种柔性线路板模组和显示装置 |
JP2020072117A (ja) * | 2018-10-29 | 2020-05-07 | 神田工業株式会社 | フレキシブルプリント配線板及びそれを用いた薄型通信デバイス並びに薄型通信デバイスからフレキシブルプリント配線板を再利用する方法。 |
WO2021084630A1 (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | シャープ株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-03-24 JP JP2009071473A patent/JP2010225846A/ja not_active Withdrawn
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