JP2010225782A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】低電力制御が行われるエリアバンプ構造の半導体集積回路装置に最適化した電源供給を提供する。
【解決手段】論理ブロック領域2において、電源スイッチ部14は、論理ブロック領域2,3の両辺側にそれぞれレイアウトするのではなく、論理ブロック領域2の内側に分割して等間隔でレイアウトし、各々の基準電位VSS用のパッド11との距離が短くなるようにする。たとえば、論理ブロック領域2では、電源スイッチ部14が3つに分散されて配置されており、各々のパッド11と電源スイッチ部14との距離が短くなるようにしている。これにより、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給の電圧低下を大幅に低減することができる。
【選択図】図3

Description

本発明は、半導体集積回路装置における電源供給の最適化技術に関し、特に、低消費電力制御が行われるエリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給に有効な技術に関する。
近年、半導体素子の微細化に伴い、半導体集積回路装置の高性能、高集積化が進んでいる。高性能化により、半導体チップに必要なピン数はますます増加傾向にあるが、高集積化、高収益化のためチップサイズの面積増加は抑えられる傾向にある。
結果として、半導体チップ周辺にパッドを配置する技術ではピン数増加に対応することが困難になりつつあり、パッドを半導体チップの外周部、およびそれより内側に、グリッド状や千鳥足状に配置し、それらパッド上にバンプをそれぞれ形成する技術、いわゆるエリアバンプが開発されている。
また、半導体集積回路装置においては、低消費電力化の要求が非常に強くなっており、この種の半導体集積回路装置における低消費電力化技術としては、たとえば、コア電源領域(たとえば、論理ブロック毎)を分割し、その分割された領域毎に電源を供給する電源スイッチをON/OFFすることにより、電源を制御するものが知られている。
さらに、この種の半導体集積回路装置における低電力制御技術としては、たとえば、複数の電源線群が縞状に配置されており、この電源線群から分岐する複数の分岐線群によって、上記回路セルに電源が供給され、この分岐線群上に挿入される上記電源スイッチセルにより、回路セルへの電源供給を遮断することにより、電源スイッチを挿入するレイアウト設計の負担を軽減できるとともに、電源スイッチで生じる電圧降下が信号遅延に与える影響を緩和するものが知られている(特許文献1参照)。
特開2005−259879号公報
ところが、上記のようなエリアバンプ構造の半導体集積回路装置における低電力化技術では、次のような問題点があることが本発明者により見い出された。
一般に、電源配線は、信号配線の配線性を確保するために、半導体チップの任意の対向する2つの辺方向(半導体チップの縦方向、または横方向)に形成されており、電源スイッチも電源配線の配線方向に従って、コア電源領域の任意の対向する2つの辺に沿って配置されている。
しかしながら、上記した電源スイッチの構造を、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置に適応した場合、遮断される電源は、電源スイッチを通過するために該電源スイッチから離れた位置にあるほど電圧低下が大きくなり、電源用バンプからの電源供給が乏しくなってしまう。
このため、電源用のパッドが多数あるにも関わらず、コア電源領域への電源供給が不安定となり、エリアバンプ構造の特徴を生かすことができないという問題がある。
また、一部のパッドで電源供給を支えるために、該パッドとその接続幹線、および電源スイッチとその接続幹線のEM(ElectroMigration)耐性が劣化してしまう恐れが生じてしまう。
本発明の目的は、低電力制御が行われるエリアバンプ構造の半導体集積回路装置に最適化した電源供給技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴については、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明は、外周部、およびそれより内側に、グリッド状、または千鳥足状に配置された複数のパッドを備えた半導体チップを有し、該半導体チップは、低消費電力制御の対象となる論理ブロック領域と、該論理ブロック領域の低消費電力制御が可能と判断した際に、電源スイッチコントロール信号を出力する電源スイッチ制御部と、該電源スイッチ制御部から出力された電源スイッチコントロール信号に基づいて、論理ブロック領域に供給される基準電位を遮断し、論理ブロック領域を低電力制御する電源スイッチ部とを備え、複数のパッドのうち、電源スイッチ部がレイアウトされている領域に近いパッドを基準電位用パッドとしてレイアウトするものである。
また、本発明は、前記電源スイッチ部が、低消費電力制御の対象となる論理ブロック領域に任意に分割されてレイアウトされているものである。
さらに、本発明は、前記基準電位用パッド以外のパッドが、基準電位以外の他の電源用パッド、または信号用パッドとして用いるものである。
また、本発明は、前記基準電位用パッド以外のパッドが形成された領域に、基準電位用電源幹線以外の他の電源幹線をレイアウトするものである。
さらに、本願のその他の発明の概要を簡単に示す。
本発明は、外周部、およびそれより内側に、グリッド状、または千鳥足状に配置された複数のパッドを備えた半導体チップを有し、該半導体チップは、低消費電力制御の対象となる論理ブロック領域と、該論理ブロック領域の低消費電力制御が可能と判断した際に、電源スイッチコントロール信号を出力する電源スイッチ制御部と、該電源スイッチ制御部から出力された電源スイッチコントロール信号に基づいて、論理ブロック領域に供給される電源電圧を遮断し、論理ブロック領域を低電力制御する電源スイッチ部とを備え、複数のパッドのうち、電源スイッチ部がレイアウトされている領域に近いパッドを基準電位用パッドとしてレイアウトするものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
(1)低電力制御が行われるエリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源電圧の低下などを大幅に低減することができる。
(2)EM耐性のマージンを増加させることができる。
(3)上記(1)、(2)により、半導体集積回路装置の信頼性を大幅に向上させることができる。
本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置におけるチップレイアウトの一例を示すレイアウト図である。 図1の半導体集積回路装置に設けられた低消費電力制御部の構成例を示す説明図である。 図2の半導体集積回路装置に設けられた電源スイッチ部のレイアウト例を示す説明図である。 本発明者が検討した一般的な電源スイッチ部のレイアウト例を示した説明図である。 図4のレイアウトを採用した半導体装置のA−B線の断面構造を示した図である。 図4の等価回路を示す説明図である。 図4のA−B線におけるパッドが電源供給に寄与するパッドの試算結果を示す説明図である。 図4の等価回路を示す説明図である。 図2の電源スイッチ部におけるレイアウトの他の例を示す説明図である。 図9における電源スイッチ部とパッドとのレイアウトの一例を示した説明図である。 図9における電源スイッチ部とパッドとのレイアウトの他の例を示した説明図である。 図2の電源スイッチ部のレイアウトの他の例を示す説明図である。 本発明の実施の形態2による電源スイッチ部と論理ブロック領域との接続関係を示す説明図である。 図13の電源スイッチ部に設けられた第2のトランジスタ部のレイアウト例を示した説明図である。 図14の一部領域における電源スイッチ部を拡大した説明図である。 本発明の実施の形態3によるシミュレーション解析結果の一例を示す説明図である。 図16のシミュレーション解析結果を説明する説明図である。 本発明の実施の形態3によるバンプの配置例を示す説明図である。 図18のA−A’線における電源電圧VDD、および基準電位VSSの電圧低下量を示した説明図である。 図18に示す電流供給に寄与しないパッド領域における電源配線の一例を示す説明図である。 図20の電源配線に最上層となる第8配線層に電源配線を形成した例を示す説明図である。 本発明の実施の形態4による低消費電力制御部の構成例を示す説明図である。 図22の低消費電力制御部に設けられたダイオードのレイアウト例を示す説明図である。 図23のダイオードの詳細な配置例を示す説明図である。 図24のA−B断面図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置におけるチップレイアウトの一例を示すレイアウト図、図2は、図1の半導体集積回路装置の構成例を示す説明図、図3は、図2の半導体集積回路装置に設けられた電源スイッチ部のレイアウト例を示す説明図、図4は、本発明者が検討した一般的な電源スイッチ部のレイアウト例を示した説明図、図5は、図4のレイアウトを採用した半導体装置のA−B線の断面構造を示した図、図6は、図4の等価回路を示す説明図、図7は、図4のA−B線におけるパッドが電源供給に寄与するパッドの試算結果を示す説明図、図8は、図4の等価回路を示す説明図、図9は、図2の電源スイッチ部におけるレイアウトの他の例を示す説明図、図10は、図9における電源スイッチ部とパッドとのレイアウトの一例を示した説明図、図11は、図9における電源スイッチ部とパッドとのレイアウトの他の例を示した説明図、図12は、図2の電源スイッチ部のレイアウトの他の例を示す説明図である。
本実施の形態1において、半導体集積回路装置に設けられる半導体チップ1は、図1に示すように、機能ブロック毎の領域となる論理ブロック領域2〜9から構成されている。論理ブロック領域2〜8は、後述する低消費電力制御部10によって、半導体集積回路装置1の低消費電力制御を行う。
また、論理ブロック領域9は、低消費電力制御が行われずに常時電源電圧が供給される領域であり、たとえば、クロック系統の論理回路領域、アナログ回路や低消費電力制御部10などによって構成されている。
さらに、半導体チップ1の表面には、複数のパッドが形成されている。これらパッドは、半導体チップ1の外周辺、およびそれより内側にグリッド状、または千鳥足状に配列されている。そして、各々のパッドには、該パッド上にバンプが形成され、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置となる。
また、半導体チップ1において、I/O端子となるパッドは、該半導体チップ1の4つの辺に沿ってそれぞれ形成されており、I/O端子となるパッドよりも内側には、電源電圧用VDD用のパッド、および基準電位VSS用のパッド11が交互に形成されている。
なお、図1においては、基準電位VSS用のパッド11のみが記載されており、I/O端子となるパッド、ならびに電源電圧用VDD用のパッドは記載していない。
図2は、低消費電力制御部10の構成例を示す回路図である。
低消費電力制御部10は、図示するように、電源スイッチ制御部となる電源スイッチコントローラ12,13、および電源スイッチ部14,15から構成されている。なお、この図では、低消費電力制御部10と論理ブロック領域2,3との接続関係のみを示しているが、電源スイッチコントローラ、および電源スイッチ部は、その他の論理ブロック領域4〜9にも同様に構成されている。
電源スイッチ部14は、論理ブロック領域2と基準電位VSSとの間に接続されており、電源スイッチ部15は、論理ブロック領域3と基準電位VSSとの間に接続されている。
これら電源スイッチ部14と論理ブロック領域2との接続部が仮想基準電位VSSM1となっており、電源スイッチ部15と論理ブロック領域3との接続部が、仮想基準電位VSSM2となっている。
電源スイッチ部14,15は、たとえば、複数のNチャネルMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタが並列接続された構成からなる。電源スイッチコントローラ12は、電源スイッチコントロール信号を出力し、電源スイッチ部14のON(導通)またはOFF(非導通)動作の制御を行う。また、電源スイッチコントローラ13は、電源スイッチ部15のON/OFF動作の制御を行う。
電源スイッチコントローラ12,13は、たとえば、常時電源電圧が供給される論理ブロック領域9に設けられたシステムコントローラなどに接続されており、該システムコントローラの制御部に基づいて動作を行う。
半導体集積回路装置においては、論理ブロック領域2,3(および論理ブロック領域4〜8)と基準電位VSSとの間に設けられた電源スイッチ部14,15(および図示しない電源スイッチ部)をON/OFFさせることによって、各論理ブロック領域2〜8内での内部電源遮断を行い、低消費電力の制御を行う。
なお、本実施例では論理ブロックの仮想接地電位VSSMと基準電位VSS側に電源スイッチを設けた場合について説明するが、基準電位のVDD側に電源スイッチを設ける構成、あるいは基準電位のVSS側とVDD側の双方に電源スイッチを設ける場合についても同様の効果を有することは言うまでもない。
さらに、電源スイッチのみではなく論理ブロックに印加する電源電圧を意図的に低下させて低電力化するために、スイッチに代えて印加電圧を制御可能な電源ブロックを設ける場合、あるいは電源スイッチと上記電源ブロックを併設する場合についても有効な技術である。
図3は、論理ブロック領域2,3における電源スイッチ部14,15のレイアウトの一実施例を示した説明図である。
電源スイッチ部14,15は、図示するように、論理ブロック領域2,3の両辺側にそれぞれレイアウトするのではなく、論理ブロック領域2,3の内側に分割して等間隔でレイアウトし、各々の基準電位VSS用のパッド11との距離が短くなるようにしている。なお、図中の矢印はパッド11から論理ブロック領域2の仮想基準電位に流れる電子電流の流れを示したものである。以降、図中の矢印で示す電流の流れはすべて電子電流を示す。
たとえば、論理ブロック領域2では、電源スイッチ部14が3つに分散されて配置されており、各々のパッド11と電源スイッチ部14との距離が短くなるようにしている。また、論理ブロック領域3でも同様に、電源スイッチ部15が2つに分散されて配置されており、各々のパッド11と電源スイッチ部15との距離が短くなるようにしている。
電源スイッチの分割数は、たとえば、次式によって分割するようにしてもよい。
L=A/N (式1)
ここで、Nは電源スイッチ部の分割数、Aは論理ブロック領域の幅、Lは近傍の2つの電源スイッチ部間の距離とする。このような電源スイッチの配置を用いることで後述するように電源スイッチ部分の面積を増加させることなく論理ブロック内での実質的な電源電圧低下を防止することができる。
図4は、本発明者が検討した一般的な電源スイッチ部50,51のレイアウト例を示した説明図である。
一般に、電源スイッチ部50,51は、図示するように、論理ブロック領域52,53の対向する2つの辺部にそれぞれレイアウトされている。
このようなレイアウトであると、遮断する電源ノードはパッド54から電源スイッチ部50,51を経由して論理ブロック領域52,53へ供給されるため、電流は電源スイッチ部50,51に集中する。なお、図4の点線で示すパッド55は、電源電圧用VDD用のパッドである。
パッド54との位置関係から、電源供給の電流の流れをみると、パッド54のうち、電源スイッチ部50から最も離れているパッド54aでは、矢印に示すように、パッド54から電源スイッチ部50、該電源スイッチ部50から論理ブロック領域52の中央へと流れるため、この経路が長い分、図6の等価回路で後述するように抵抗が付き電圧低下を起こす。
図5は図4に示したレイアウトを採用した半導体装置のA−B線の断面図を示したものである。図5では電源スイッチ周辺と論理ブロックの一部を示し、その他の部分は省略してある。
本断面図では一例として金属配線層が金属配線層M1から金属配線層M9までの9層の場合を示しているが、言うまでもなく本発明の対象は9層の金属配線層数に限定するものではない。
パッドは、パッドを形成する金属層101と、バンプが接続される部分の金属層が露出するように形成されたパッシベーション層100とで構成されている。半導体の製造工程において、一般に前工程といわれる部分でパッドまでが形成され、後工程において金属層100の上にはんだボールのバンプ102が接続される。
パッド下には金属配線層M9が形成される。本断面図では基準電位VSS用のバンプ部分での断面であるので横方向にVSS用の金属配線層M9配線が伸びている。VDD側パッド下にはVDD用M9配線が伸びている構造となる。
金属配線層M9の下には金属配線層M8が敷設され、金属配線層M9と接続が必要な部分には接続ビアV8が適宜設けられる。本実施例の場合、最上層の配線層M9から電源スイッチまでの接続は金属配線層M8から金属配線層M1、配線間の接続ビアV8から接続ビアV1、および金属配線層M1とコンタクト層CONTACTを用いて形成される。
ここでコンタクト層CONTACTは電源スイッチ部50を構成するMOSトランジスタの拡散層との接続を行う層である。電源スイッチ部50から仮想接地電位の供給配線層である金属配線層M8までは再びコンタクト層CONTACT、金属配線層M1から金属配線層M6、およびビアV1からビアV6を用いて形成される。
さらに、電源遮断される論理ブロック領域52に含まれる各MOSトランジスタまでの接続は金属配線層M6から金属配線層M1、配線間の接続ビアV6からビアV1、および金属配線層M1と論理ブロック領域52を構成するMOSトランジスタの拡散層との接続を行うコンタクト層CONTACTによって接続される。
図6は、図5のA−B断面における電源電圧の低下を説明する等価回路である。論理ブロック52の高電位側は電源電圧用VDD用のパッド55から配線抵抗Rを介し論理ブロック内の電源幹線に接続される。
電源幹線には配線抵抗rを含むが電源電圧用VDD用のパッド55と論理ブロック内のトランジスタの間には配線抵抗Rがほぼ等しく配置されることになるので論理ブロック内での電圧低下や電圧ばらつきは比較的少ない。
一方、基準電位VSS用のパッド54と論理ブロック内の仮想接地電位の間には配線抵抗R、rおよびスイッチ部分の配線抵抗rsなどが直列に配置されることになる。これにより電源スイッチに近い基準電位VSS用のパッド54から論理ブロック内のトランジスタ接地電位までの抵抗より、電源スイッチから遠い基準電位VSS用のパッド54は直列抵抗が大きくなり電流の通り道としての機能が低下する。これにより論理モジュール内の接地電位が上昇し、論理モジュールに印加される電源電圧の実質的な低下をもたらす。
図7は、図4のA−B線におけるパッドのうち、実際に電源供給に寄与するパッドがどのくらいであるかを試算した結果を示す説明図であり、この例では、図7に示すように、電源スイッチ部50の位置から2列目のパッド54までしか電流寄与しておらず、その他のパッド54に関しては、ほとんど電流寄与していなことがわかる。
さらには、パッド54から電源スイッチ部50,51までの距離が遠ければ、電圧低下が大きくなることになるばかりでなく、電源スイッチ部50,51を論理ブロック領域52,53の対向する2つの辺部に集中配置することにより、電源スイッチ部50,51、およびその周辺での通過電流が大きくなり、EM耐性が悪くなってしまう。
しかしながら、図3に示したレイアウトとすることによって、論理ブロック領域2,3と各々のパッド11との距離を大幅に短くすることが可能となるので、電源供給に寄与するパッド11を増加させ、図8の等価回路に示すように、基準電位VSS用のパッド54と論理ブロックの設置電位間の抵抗を低減することができるので電源電圧の低下を防止し、EM耐性のマージンを増加させることができる。
また、図3では、電源スイッチ部14,15を論理ブロック領域2,3の内側に分割して等間隔でレイアウトした構成について記載したが、たとえば、図9に示すように、論理ブロック領域2,3に形成されているパッド11の列毎に、該パッド11の列の下方に電源スイッチ部14,15をそれぞれレイアウトするようにしてもよい。
この場合、電源スイッチ部14,15と各々のパッド11との距離が大幅に短くなるために、より効率よく電源電圧の低減を防止することができる。
図10、および図11は、図9における電源スイッチ部14とパッド11とのレイアウト例を示した説明図である。
図10では、電源スイッチ部14の直下に接続用のビア16を介して、該電源スイッチ部14とパッド11とが接続されている。また、図11は、電源スイッチ部14とバンプとが少しだけずれた位置にレイアウトされており、電源スイッチ部14の直下に形成された接続用のビア16を介して電源幹線である電源配線17が接続され、その電源配線17とパッド11とが接続されている。
さらに、電源スイッチ部14のレイアウトは、これら以外であってもよく、たとえば、図12に示すように、パッド11における列ピッチの整数倍ピッチで電源スイッチ部14をレイアウトするようにしてもよい。
それにより、本実施の形態1によれば、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給の電圧低下を大幅に低減することができる。
また、半導体集積回路装置におけるEM耐性を向上させることができ、信頼性を高めることができる。
(実施の形態2)
図13は、本発明の実施の形態2による電源スイッチ部と論理ブロック領域との接続関係を示す説明図、図14は、図13の電源スイッチ部に設けられた第2のトランジスタ部のレイアウト例を示した説明図、図15は、図14の一部領域における電源スイッチ部を拡大した説明図である。
本実施の形態2において、半導体集積回路装置は、前記実施の形態1と同様に、エリアバンプ構造からなり、低消費電力制御部10aによって、該半導体集積回路装置1の低消費電力制御が行われる。
また、半導体集積回路装置に設けられる半導体チップ1(図1)は、機能ブロック毎の領域となる論理ブロック領域2〜9から構成されており、論理ブロック領域2〜8が低消費電力制御部10aによって低消費電力制御される。
低消費電力制御部10aは、図13に示すように、図2に示す電源スイッチコントローラ12、および電源スイッチ部14aから構成されている。なお、この図では、低消費電力制御部10aの電源スイッチ部14aと論理ブロック領域2との接続関係のみを示しているが、電源スイッチコントローラ、および電源スイッチ部は、その他の論理ブロック領域3〜9にも同様に構成されている。
電源スイッチ部14aは、多段電源スイッチ(図13では2段)構成となっており、論理ブロック領域2と基準電位VSSとの間に接続されている。電源スイッチ部14aは、複数のNチャネルMOSトランジスタが並列接続された構成からなる第1のトランジスタ部14a1と、同じく複数のNチャネルMOSトランジスタが並列接続された構成からなる第2のトランジスタ部14a2とから構成されている。
第1のトランジスタ部14a1は、論理ブロック領域2と第2のトランジスタ部14a2と間に接続されており、第2のトランジスタ部14a2は、第1のトランジスタ部14a1と基準電位VSSとの間に接続されている。
第1のトランジスタ部14a1と論理ブロック領域2とが接続される接続部が、仮想基準電位VSSMM1となり、第1のトランジスタ部14a1と第2のトランジスタ部14a2との接続部が仮想基準電位VSSM1となる。
また、第1のトランジスタ部14a1を構成するトランジスタは、薄膜トランジスタからなり、第2のトランジスタ部14a2を構成するトランジスタは、厚膜トランジスタからなる。
第1のトランジスタ部14a1は、論理ブロック領域2を任意に分割したロジック領域毎に設けられている。電源スイッチコントローラ12は、論理ブロック領域2のすべてのロジック領域を低電力制御する際、第1のトランジスタ部14a1、および第2のトランジスタ部14a2をそれぞれOFFとし、論理ブロック領域2のうち、任意のロジック領域のみを低電力制御する場合には、第2のトランジスタ部14a2をONとし、低電力制御を行う任意のロジック領域に接続されている第1のトランジスタ部14a1をOFFとなるように制御する。
第1のトランジスタ部14a1と第2のトランジスタ部14a2の使い分けに特に制限はなく、任意のロジック領域のみを低電力制御する場合に14a1をONする制御を可能な構成を用いてもよい。
図14は、論理ブロック領域2の電源スイッチ部14aにおける第2のトランジスタ部14a2のレイアウト例を示した説明図である。電源スイッチ部14aのうち、第2のトランジスタ部14a2は、図示するように、論理ブロック領域2に形成されているパッド11の列毎に、該パッド11の列の下方にレイアウトされている。
図15は、図14の太線の四角形で示した領域における電源スイッチ部14aのレイアウトの拡大図である。
この場合、電源ソースに近い側に配置される第2のトランジスタ部14a2のトランジスタがパッド11の列の下方にレイアウトされており、薄膜トランジスタで形成されている第1のトランジスタ部14a1については、パッド11の列と列との間に領域に、任意の位置にレイアウトされている。
これは電源電流(電子電流)がパッドを通して基準電位VSSから供給されるため厚膜トランジスタで形成されている第2のトランジスタ部14a2を優先してパッド近くに配置したことにより、論理ブロックの基準電位が寄生抵抗により上昇することを防ぐことが可能となる。
それにより、本実施の形態2おいても、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給の電圧低下を大幅に低減、および半導体集積回路装置におけるEM耐性を向上させることができる。
(実施の形態3)
図16は、本発明の実施の形態3によるシミュレーション解析結果の一例を示す説明図、図17は、図16のシミュレーション解析結果を説明する説明図、図18は、本発明の実施の形態3によるバンプの配置例を示す説明図、図19は、図18のA−A’線における電源電圧VDD、および基準電位VSSの電圧低下量を示した説明図、図20は、図18に示す電流供給に寄与しないパッド領域における電源配線の一例を示す説明図、図21は、図20の電源配線に最上層となる第8配線層に電源配線を形成した例を示す説明図である。
前記実施の形態1(図4)で説明したように、電源スイッチ部のレイアウト位置から遠いバンプは電源供給に寄与しなくなるため、あまり必要性がない。よって、電源スイッチ部のレイアウト位置から遠く離れたこれらのバンプを信号、もしくは他の電源補強のために用いることにより、効率的な他の電源種などの補強を実現することができる。
この場合、たとえば、各々のバンプ電流値を求めて、その電流値が全体の5%程度以上となるバンプを残して、それ以下の電流供給のバンプは、信号用もしくは、他の電源の補強に使用する。
また、電源供給に寄与するバンプ数の試算は、たとえば、図16(a)に示すモデルを用いて電流シミュレーションソフトウェアであるSPICEなどでの電流値シミュレーション解析を行うものとする。
図16(b)は、図16(a)によるシミュレーション解析結果の一例を示す説明図である。この場合、図17に示す論理ブロック領域2の対向する2辺に設けられた電源スイッチ部14に対して、電源供給に寄与するパッド11が該電源スイッチ部14近傍の2列のパッド11のみであり、その他のパッド11(図17の点線で囲まれている領域のパッド11)は、電源供給にほとんど寄与していないパッドであることを示している。
よって、図18に示すように、電源供給にほとんど寄与していない領域に形成されているパッド(図18の点線の領域)を、電源電圧用VDD用のパッド18(太線で示す)として形成し、電源供給に寄与する領域(図18の点線の領域外)のパッドを基準電位VSS用のパッド11(細線で示す)として形成する。
図19は、図18のA−A’線における電源電圧VDD、および基準電位VSSの電圧低下量を示した説明図である。
図示するように、基準電位VSSの浮きは、2乗の曲線を描くが、パッド18を中央部近傍に密に配置することによって、電源電圧VDDの電圧低下も基準電位VSSの浮きを補正するような特性となるため、結果として略一定の電位を維持することができる。
さらに、電流供給に寄与しないバンプの下方に配線されている電源幹線に関しても、仮想電源ノードの補強に用いるようにしてもよい。
図20は、電流供給に寄与しないパッドの領域(図18に示す点線の領域内)における電源配線の一例を示す説明図である。
論理ブロック領域2には、図示するように、第7配線層に形成された電源配線として、電源電圧VDD用の電源幹線である電源配線19、基準電位VSS用の電源幹線となる電源配線20、電源電圧VDD用の電源配線19、および仮想基準電位VSSM1用の電源幹線である電源配線21がそれぞれ形成されている。
図20の点線の領域外においては、上方から下方にかけて、電源配線19、電源配線20、電源配線19、および電源配線21が、順番に繰り返して形成されており、電源配線19と電源配線21とは、論理ブロック領域2の横方向に、一方の図20の点線の領域外から図20の点線に示す領域内を介して対向する他方の図20の点線の領域外まで形成されている。
電源配線20は、一方、および対向する他方の図21の点線の領域外にのみ形成されており、図20の点線の領域内には、電源配線21が電源配線20の代わりに形成されている。
このように、遮断される電源ノードとなる仮想基準電位VSSM1用の電源配線21の配線数を増加させることによって、仮想基準電位VSSM1を強化することができ、電源電圧の低下を低減することができる。
また、図21は、第7配線層だけでなく、最上層となる第8配線層に形成された電源配線において、仮想基準電位VSSM1を強化する配線を行った際の一例を示す説明図である。
この場合、論理ブロック領域2において、図21に示す点線の領域外では、図示するように、左側から右側にかけて、電源電圧VDD用の電源配線19、基準電位VSS用の電源配線20、電源電圧VDD用の電源配線19、および仮想基準電位VSSM1用の電源配線21の順番で、論理ブロック領域2の縦方向にそれぞれ形成されている。
そして、図21に示す点線の領域内では、左側から順番に、電源配線19と電源配線21とが交互に繰り返して、論理ブロック領域2の縦方向にそれぞれ形成されている。これにより、より仮想基準電位VSSM1を強化することができる。
それにより、本実施の形態3でも、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給の電圧低下を大幅に低減し、半導体集積回路装置におけるEM耐性を向上させることができる。
(実施の形態4)
図22は、本発明の実施の形態4による低消費電力制御部の構成例を示す説明図、図23は、図22の低消費電力制御部に設けられたダイオードのレイアウト例を示す説明図、図24は、図23のダイオードの詳細な配置例を示す説明図、図25は、図24のA−B断面図である。
本実施の形態4において、低消費電力制御部10bは、図22に示すように、前記実施の形態1の低消費電力制御部10(図2)の構成に、ESD(ElectroStatic Discharge)対策用のダイオード22,23が新たに設けられた構成となっている。
電源遮断が行われる論理ブロック領域の遮断される電源ノード(仮想基準電位)は、他の電源ノードと電気的に分離される。このため、このノードは、チャージアップによるESD破壊、もしくは、外部サージ印加などにより電流パスが異なることにより生じる電位差によるESD破壊をケアする必要がある。
ダイオード22,23は、電源スイッチ部の両端に過大な電位差が生じた場合に電流を引き抜き、ESD破壊を防止する。
ダイオード22,23のカソードは、電源電圧VDDにそれぞれ接続されており、ダイオード22のアノードは、電源スイッチ部を構成するスイッチとなるトランジスタTの一方の接続部に接続されている。
また、ダイオード23のアノードは、電源スイッチ部を構成するトランジスタTの他方の接続部に接続されている。よって、ダイオード22は、電源電圧VDDと仮想基準電位VSSM1との間に接続されており。ダイオード23は、電源電圧VDDと基準電位VSSとの間に接続されている。
電源スイッチ部14は、図23に示すように。前記実施の形態1と同様に論理ブロック領域2などに分散して配置されているので、電源スイッチ部14のトランジスタ毎に、上記したダイオード22,23を設けることはレイアウトコストの増大となってしまう。このため、ダイオード22,23の配置は、電源スイッチ部14のトランジスタと独立させて、且つ最適な配置位置とする。
たとえば、各論理ブロック領域には、遮断される電源ノードが供給されるウエルを分離するために、論理ブロック領域の最外周は遮断されない電源ノードが供給されるウエルで囲む必要があるので、このもともと必要なウエル分離領域に着目し、この領域にESD対策用のダイオードを配置することで面積増加することなく、該ダイオードの挿入によるレイアウトオーバーヘッドを軽減する。
図24は、ダイオード22,23の配置例を示す説明図である。
図示するように、論理ブロック領域2と論理ブロック領域5との間には、論理ブロック領域2,5毎に形成されているP−WELLを分離するWELL分離層24が形成されている。
図25は、図24のA−B断面図である。
図25の左側には、論理ブロック領域2が形成されており、図25の右側には、論理ブロック領域5が形成されている。そして、論理ブロック領域2と論理ブロック領域5との間には、WELL分離層24が形成されている。
WELL分離層24において、N−WELL領域25の上方の左側には、ダイオード22のアノードとなるP型半導体領域26が形成されており、N−WELL領域25の上方の右側には、ダイオード23のアノードとなるP型半導体領域27が形成されている。そして、P型半導体領域26とP型半導体領域27との間には、ダイオード22,23のカソードとなるN型半導体領域28が形成されている。
このように、WELL分離層24に、ダイオード22,23を形成することによって、該ダイオード22,23をレイアウトすることによる面積増加がなくなり、レイアウトオーバーヘッドを軽減することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
たとえば、前記実施の形態においては、低消費電力制御部によって基準電位VSS側の電源遮断を行う場合について説明したが、低消費電力制御部によって電源電圧VDD側の電源遮断を行う半導体集積回路装置であっても同様の効果を得ることができる。
本発明は、エリアバンプ構造の半導体集積回路装置における電源供給の最適化技術に適している。
1 半導体チップ
2〜9 論理ブロック領域
10 低消費電力制御部
10a 低消費電力制御部
10b 低消費電力制御部
11 パッド
12 電源スイッチコントローラ
13 電源スイッチコントローラ
14 電源スイッチ部
14a 電源スイッチ部
14a1 第1のトランジスタ部
14a2 第2のトランジスタ部
15 電源スイッチ部
16 ビア
17 電源配線
18 パッド
19 電源配線
20 電源配線
21 電源配線
22 ダイオード
23 ダイオード
24 WELL分離層
25 N−WELL領域
26 P型半導体領域
27 P型半導体領域
28 N型半導体領域
50 電源スイッチ部
51 電源スイッチ部
52 論理ブロック領域
53 論理ブロック領域
54 パッド
54a パッド
55 パッド
100 パッシベーション層
101 金属層
102 バンプ
M1〜M9 金属配線層
V1〜V8 ビア
CONTACT コンタクト層

Claims (7)

  1. 外周部、およびそれより内側に、グリッド状、または千鳥足状に配置された複数のパッドを備えた半導体チップを有し、
    前記半導体チップは、
    低消費電力制御の対象となる論理ブロック領域と、
    前記論理ブロック領域の低消費電力制御が可能と判断した際に、電源スイッチコントロール信号を出力する電源スイッチ制御部と、
    前記電源スイッチ制御部から出力された電源スイッチコントロール信号に基づいて、前記論理ブロック領域に供給される基準電位を遮断し、前記論理ブロック領域を低電力制御する電源スイッチ部とを備え、
    前記複数のパッドのうち、前記電源スイッチ部がレイアウトされている領域に近いパッドを基準電位用パッドとしてレイアウトすることを特徴とする半導体集積回路装置。
  2. 請求項1記載の半導体集積回路装置において、
    前記電源スイッチ部は、
    低消費電力制御の対象となる前記論理ブロック領域に任意に分割されてレイアウトされていることを特徴とする半導体集積回路装置。
  3. 請求項1または2記載の半導体集積回路装置において、
    前記基準電位用パッド以外のパッドは、
    前記基準電位以外の他の電源用パッド、または信号用パッドとして用いることを特徴とする半導体集積回路装置。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体集積回路装置において、
    前記基準電位用パッド以外のパッドが形成された領域には、
    基準電位用電源幹線以外の他の電源幹線をレイアウトすることを特徴とする半導体集積回路装置。
  5. 外周部、およびそれより内側に、グリッド状、または千鳥足状に配置された複数のパッドを備えた半導体チップを有し、
    前記半導体チップは、
    低消費電力制御の対象となる論理ブロック領域と、
    前記論理ブロック領域の低消費電力制御が可能と判断した際に、電源スイッチコントロール信号を出力する電源スイッチ制御部と、
    前記電源スイッチ制御部から出力された電源スイッチコントロール信号に基づいて、前記論理ブロック領域に供給される電源電圧を遮断し、前記論理ブロック領域を低電力制御する電源スイッチ部とを備え、
    前記複数のパッドのうち、前記電源スイッチ部がレイアウトされている領域に近いパッドを基準電位用パッドとしてレイアウトすることを特徴とする半導体集積回路装置。
  6. 請求項5記載の半導体集積回路装置において、
    前記電源スイッチ部は、
    低消費電力制御の対象となる前記論理ブロック領域に任意に分割されてレイアウトされていることを特徴とする半導体集積回路装置。
  7. 請求項5または6記載の半導体集積回路装置において、
    前記基準電位用パッド以外のパッドは、
    前記基準電位以外の他の電源用パッド、または信号用パッドとして用いることを特徴とする半導体集積回路装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014188514A1 (ja) * 2013-05-21 2014-11-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
WO2020065916A1 (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 株式会社ソシオネクスト 半導体装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008251835A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Renesas Technology Corp 半導体装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008251835A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Renesas Technology Corp 半導体装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014188514A1 (ja) * 2013-05-21 2014-11-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
CN105229782A (zh) * 2013-05-21 2016-01-06 瑞萨电子株式会社 半导体集成电路装置
JP6028097B2 (ja) * 2013-05-21 2016-11-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
JPWO2014188514A1 (ja) * 2013-05-21 2017-02-23 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
TWI628447B (zh) * 2013-05-21 2018-07-01 瑞薩電子股份有限公司 Semiconductor integrated circuit device
US10090829B2 (en) 2013-05-21 2018-10-02 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
WO2020065916A1 (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 株式会社ソシオネクスト 半導体装置
JPWO2020065916A1 (ja) * 2018-09-28 2021-08-30 株式会社ソシオネクスト 半導体装置
JP7160105B2 (ja) 2018-09-28 2022-10-25 株式会社ソシオネクスト 半導体装置

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