JP2010224097A

JP2010224097A - 液晶装置

Info

Publication number: JP2010224097A
Application number: JP2009069620A
Authority: JP
Inventors: Junichi Wakabayashi; 淳一若林
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2009-03-23
Filing date: 2009-03-23
Publication date: 2010-10-07

Abstract

【課題】例えば、液晶装置を構成する一対の基板間の距離を均一に保つと共に、押し痕の
低減と、温度変化に起因して液晶装置に発生しうる気泡を低減とを実現する。
【解決手段】スペーサ（６１）は、下地層（１１）のうち非開口領域（Ｓ２ａ）に重なる
第１部分（１１Ａ）の表面に形成されている。スペーサ（６２）は、下地層（１１）のう
ち非開口領域（Ｓ２ｂ）に重なる第２部分（１１Ｂ）の表面に配置されている。第１部分
（１１Ａ）の表面の位置と、第２部分（１１Ｂ）の表面の位置とは、ＴＦＴアレイ基板（
１０）の厚み方向に沿って相互に揃っている。下地層（１１）のうち開口領域（Ｓ１）に
重なる部分（１１Ｃ）の表面を基準としたスペーサ（６１）の上面の高さ（ａ）、即ち位
置は、スペーサ（６２）の上面の高さ（ｂ）より低い。
【選択図】図３

Description

本発明は、例えば、液晶層と、該液晶層を挟持する一対の基板間に設けられたスペーサ
を備えた液晶装置の技術分野に関する。

この種の液晶装置では、液晶層を挟持する一対の基板間にスペーサが設けられる。スペ
ーサは、一対の基板間の距離を維持する。液晶装置では、温度変化或いは液晶装置に加わ
る衝撃に起因して液晶層に気泡発生する場合がある。気泡は、液晶装置が画像を表示する
際のコントラストを低下させる一因となり、液晶装置の表示性能を低下させてしまう。特
許文献１乃至５は、液晶層に気泡を発生させないための各種技術を開示している。

特開２００３−１２１８５７号公報特開２００１−２４２４６９号公報特開２００８−１４５７５５号公報特開２０００−１９３９５２号公報特開２００５−１５７４０３号公報

しかしながら、荷重当たりの各々の変形量が相互に一定である複数のスペーサが一対の
基板間に配置されている場合、一対の基板を貼り合せる貼り合せ工程で一対の基板間の間
隙が均一になり難く、液晶装置が画像を表示する際に色むらが発生してしまう問題点があ
る。また、液晶装置に局所的に過剰な荷重が加わった場合、その荷重を開放した後でも、
当該荷重が加わった部分に押し痕が残り、画像に表示むらを発生させてしまう問題点もあ
る。また、荷重当たりの変形量が小さい一種類のスペーサを配置した場合、液晶装置を組
み立てる組立工程では一対の基板間の距離を均一にし易くなるが、低温環境では液晶装置
中の液晶層が収縮し、液晶装置中に気泡が発生し易くなる問題点もある。

よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、液晶装置を構成
する一対の基板間の距離を均一に保つと共に、押し痕の低減と、温度変化に起因して液晶
装置に発生しうる気泡の低減とを実現可能な液晶装置を提供することを課題とする。

本発明の第１の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第
１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に挟持
された液晶層と、前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、前記表示領域のうち
光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部である第１領域に形成さ
れた第１スペーサと、前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、
前記第１スペーサに加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量
が大きい第２スペーサとを備え、前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に
重なる第１部分の表面に配置されており、前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第
２領域に重なる第２部分の表面に配置されており、前記第１部分の表面の位置と、前記第
２部分の表面の位置とは相互に揃っており、前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分
の表面を基準として、前記第１スペーサの上面の位置は、前記第２スペーサの上面の位置
より低い。

本発明に係る液晶装置によれば、第１スペーサによって押し痕の発生を低減できると共
に、第２スペーサによって気泡の発生を低減できる。

本発明の第２の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第
１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に挟持
された液晶層と、前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、前記表示領域のうち
光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部である第１領域に形成さ
れた第１スペーサと、前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、
前記第１スペーサに加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量
が大きい第２スペーサとを備え、前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に
重なる第１部分の表面に配置されており、前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第
２領域に重なる第２部分の表面に配置されており、前記第１部分の表面の位置は、前記第
２部分の表面の位置より低く、前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面を基準
として、前記第１スペーサの上面の位置は、前記第２スペーサの上面の位置より低い。

本発明に係る液晶装置によれば、上述の液晶装置と同様に、第１スペーサによって押し
痕の発生を低減できると共に、第２スペーサによって気泡の発生を低減できる。

本発明の第３の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第
１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に挟持
された液晶層と、前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、前記表示領域のうち
光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部である第１領域に形成さ
れた第１スペーサと、前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、
前記第１スペーサに加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量
が大きい第２スペーサとを備え、前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に
重なる第１部分の表面に配置されており、前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第
２領域に重なる第２部分の表面に配置されており、前記第１部分の表面及び前記第２部分
の表面の夫々の位置は、前記前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面を基準と
して、相互に揃っており、前記第２基板のうち前記第１領域において前記第１スペーサの
上面に対応する部分の下面と、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面との
高さの違いである距離は、前記第２基板のうち前記第２領域において前記第２スペーサの
上面に対応する部分の下面と、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面との
高さの違いである距離より小さい。

本発明の第１から第３の発明の夫々に係る液晶装置では、記下地層の最上層は、配向膜
であり、前記第１スペーサ及び第２スペーサの夫々のサイズは、相互に異なっていてもよ
い。

この態様によれば、配向膜のうちラビングローラによってラビングされない部分を低減
できる。よって、配向膜のうちラビングされた部分を増やすことができ、ラビングされた
配向膜の部分のサイズに応じて開口領域を拡げることが可能である。

本発明の第４の発明に係る液晶装置は、上記課題を解決するために、第１基板と、前記
第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に挟
持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、前記表示領域のう
ち光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部である第１領域に形成
された第１スペーサと、前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され
、前記第１スペーサに加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形
量が大きい第２スペーサとを備え、前記第１スペーサは、前記第２基板の下面に形成され
ており、前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第２領域に重なる第２部分の表面に
配置されており、前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面から前記第２スペー
サの上面までの距離は、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面から前記第
１スペーサの下面までの距離より大きい。

本発明の第４の発明に係る液晶装置の一の態様では、前記第１スペーサ及び第２スペー
サの夫々のサイズは、相互に異なっていてもよい。

この態様によれば、第１スペーサ及び第２スペーサ相互で荷重に対する変形量を異なら
せることが可能である。

本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。

本発明の第１の発明の一実施形態である液晶装置の平面図である。図１のＩＩ−ＩＩ´断面図である。画像表示領域において第１実施形態に係る液晶装置を切った断面の一部を拡大して示した拡大断面図である。２種類のスペーサの荷重に対する変形量の変化を示したグラフと、荷重に対するスペーサの変形量を測定するための測定システムの概念図である。第１実施形態に係る液晶装置において、スペーサをサイズの違いによって配向膜のラビング状態が異なることを示した概念図である。衝撃によって液晶装置の気泡が発生するプロセスを概念的に示した概念図である。温度変化によって液晶層に気泡が発生するプロセスを概念的に示した概念図である。本発明の第２の発明の一実施形態である液晶装置の拡大断面図である。本発明の第３の発明の一実施形態である液晶装置の拡大断面図である。本発明の第４の発明の一実施形態である液晶装置の拡大断面図である。

以下、図面を参照しながら本発明の第１乃至４の夫々に係る液晶装置の実施形態を説明
する。

＜第１実施形態＞
先ず、図１乃至図７を参照しながら、第１の発明に係る液晶装置の一実施形態である液
晶装置１を説明する。

＜１−１：液晶装置の全体構成＞
先ず、図１及び図２を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置１の全体構成を説明す
る。図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から
見た液晶装置１の平面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ´断面図である。

図１及び図２において、液晶装置１では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対
向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入され
ており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素部が設けられる表示領域
たる画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相
互に接着されている。

シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等
からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、
加熱等により硬化させられたものである。

シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領
域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、この
ような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設
けられてもよい。尚、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域が存在する。言い換
えれば、本実施形態においては特に、ＴＦＴアレイ基板１０の中心から見て、この額縁遮
光膜５３より以遠が周辺領域として規定されている。

周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、デ
ータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額
縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０
ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１
０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設
けられている。

対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導
通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナー部に対
向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。対向電極２１の電位は、固
定電位とされる。

図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、
データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜が形成されている。他方、
対向基板２０上には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜２３、更には
最上層部分に配向膜が形成されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティ
ック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。

＜１−２：液晶装置の詳細な構成＞
次に、図３乃至図７を参照しながら、液晶装置１の詳細な構成を説明する。図３は、本
実施形態に係る液晶装置１の一部の構成を詳細に示した部分断面図であって、画像表示領
域１０ａにおいて液晶装置１を切った断面の一部を示している。図４は、スペーサに加わ
る荷重と、スペーサの変形量との関係を説明するための図である。図５は、本実施形態に
係る液晶装置１において、スペーサのサイズの相違によってラビング処理される領域の大
きさが相違することを説明するための図である。図６及び図７は、液晶層に気泡が発生す
るメカニズムを説明するための図である。

図３において、液晶装置１は、本発明の「第１基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１
０と、ＴＦＴアレイ基板１０に対向するように配置された対向基板２０と、ＴＦＴアレイ
基板１０及び対向基板２０間に挟持された液晶層５０と、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像
表示領域１０ａに形成された下地層１１と、本発明の「第１領域」の一例である非開口領
域Ｓ２ａに形成された、本発明の「第１スペーサ」の一例であるスペーサ６１と、本発明
の「第２領域」の一例である非開口領域Ｓ２ｂに形成された、本発明の「第２スペーサ」
の一例であるスペーサ６２とを備えている。

開口領域Ｓ１は、画像表示領域１０ａを構成する複数の画素の夫々において実質的に光
が透過可能な領域である。ＴＦＴアレイ基板１０の開口領域Ｓ１には、ＩＴＯ等の透明電
極で構成された画素電極９ａが形成されており（図２参照。）、対向基板２０側に形成さ
れた対向電極２１（図２参照。）及び画素電極９ａ間で液晶層５０の配向状態を制御する
。

非開口領域Ｓ２ａ及びＳ２ｂは、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａのうち
不透明な配線層、或いは遮光膜等が形成された領域であり、画像表示に実質的に寄与しな
い領域である。

スペーサ６１は、画像表示領域１０ａのうち光が透過可能な複数の開口領域Ｓ１を相互
に隔てる非開口領域Ｓ２ａに形成されている。スペーサ６２は、非開口領域Ｓ２ａと異な
る非開口領域Ｓ２ｂに形成されている。

ここで、図４を参照しながら、荷重に対する各スペーサの変形量を説明する。図４（ａ
）に示すように、スペーサ６１に加えた荷重に等しい荷重をスペーサ６２に加えた場合に
は、スペーサ６２の変形量は、スペーサ６１の変形量より大きい。図４（ｂ）に示すよう
に、スペーサ６１（６２）の変形量Ｄ[ｍ]は、ステージ２００上にスペーサ６１（６２）
を載置した状態でスペーサ６１（６２）の上面に荷重Ｆ[Ｎ]を加えた際にスペーサ６１（
６２）が変形した量である。スペーサ６１（６２）の変形量は、別途設けられたセンサ等
の測定手段によって検出される。

再び、図３において、下地層１１は、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された絶縁層１１
ａと、その上に形成された配向膜１１ｂとから構成されている。対向基板２０は、対向基
板本体２０ａ及びその下側に形成された配向膜２０ｂから構成されていると共に、不図示
の対向電極を備えている。

スペーサ６１は、下地層１１のうち非開口領域Ｓ２ａに重なる第１部分１１Ａの表面に
形成されている。スペーサ６２は、下地層１１のうち非開口領域Ｓ２ｂに重なる第２部分
１１Ｂの表面に配置されている。第１部分１１Ａの表面の位置と、第２部分１１Ｂの表面
の位置とは、ＴＦＴアレイ基板１０の厚み方向に沿って相互に揃っている。下地層１１の
うち開口領域Ｓ１に重なる部分１１Ｃの表面を基準としたスペーサ６１の上面の高さａ、
即ち位置は、スペーサ６２の上面の高さｂより低い。

ここで、図６及び図７を参照しながら、液晶層に気泡が発生するメカニズムを説明する
。先ず、図６を参照しながら、液晶装置１００の使用環境が高温から低温に変化した場合
に液晶層に発生する低温気泡の発生メカニズムを説明する。

図６（ａ）に示すように、環境温度Ｔ０で使用されていた液晶装置１００を、環境温度
Ｔ０より低い環境温度Ｔ１で使用した場合、図６（ｂ）に示すように、低温気泡Ｐ１は、
ＴＦＴアレイ基板１１０及び対向基板１２０が液晶層１５０の収縮に追従できないことに
よって液晶層１５０及び対向基板１２０間に発生する隙間である。ここで、ＴＦＴアレイ
基板１１０及び対向基板１２０間のギャップを維持する複数のスペーサ１６０が一様なも
のであれば、低温気泡Ｐ１をなくすように複数のスペーサ１６０相互で変形量を変えるこ
とはできない。

次に、図７を参照しながら、液晶装置１００の表面の一部に部分的に衝撃を加えた場合
に発生する真空気泡を説明する。

図７（ａ）において、定常状態、言い換えれば、衝撃力が加えられていない液晶装置１
００には、真空気泡が発生していない。図７（ｂ）に示すように、液晶装置１００の表面
の一部に衝撃力を加えると、液晶層１５０に真空気泡Ｐ２が発生する。図７（ｃ）に示す
ように、液晶装置１００に加わっていた衝撃力を取り除いた後でも、衝撃力が加わった部
分の周辺には、真空気泡Ｐ２が残る。

このような低温気泡Ｐ１及び真空気泡Ｐ２は、液晶装置１００の表示性能を低下させる
一因となるため、液晶装置１００に発生する低温気泡Ｐ１及び真空気泡Ｐ２の両方を低減
することが、液晶装置の表示性能を高めるためには重要になる。

そこで、図３を参照しながら説明したように、液晶装置１によれば、互いに変形量が異
なるスペーサ６１及び６２が形成されているため、低温気泡Ｐ１の発生原因の一つと考え
られる一対の基板及び液晶層相互の収縮率の差を相殺するように、ＴＦＴアレイ基板１０
及び対向基板２０が変形可能になる。加えて、液晶装置１によれば、スペーサ６１の上面
の高さａ、即ち位置が、スペーサ６２の上面の高さｂより低いため、液晶装置１の表面に
部分的に衝撃力が加わったり、液晶装置１の表面が部分的に押されたりした場合でも、ス
ペーサ６１によって一対の基板を支持することが可能であり、真空気泡Ｐ２の発生を低減
でき、押し痕に起因する表示性能の低下を抑制できる。

よって、液晶装置１によれば、低温気泡及び真空気泡の両方を低減でき、液晶装置１の
表示性能を高めることができる。加えて、液晶装置１によれば、高さが低いスペーサ６１
を設けない場合に比べて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合せる貼り合せ
工程においてこれら一対の基板及び液晶層から構造体の変形量を低減できるため、スペー
サが破壊されることを低減できる。したがって、表示むらや破壊されたスペーサの小片に
よる微小表示欠陥の発生を低減できる。

また、図３に示すように、液晶装置１では、下地層１１の最上層が、配向膜１１ｂであ
り、スペーサ６１及び６２の夫々のサイズは、相互に異なっているため、液晶装置１の製
造時に、配向膜１１ｂのうちラビングローラによってラビングされない部分を低減できる
利点もある。

ここで、図５を参照しながら、スペーサ６１及び６２のサイズの相違によってラビング
処理される領域の大きさが相違することを説明する。

図５（ａ）に示すように、配向膜１１ｂに形成されたスペーサが所定のサイズを有する
スペーサ６２ａであると仮定する。この場合、配向膜１１ｂのうちラビングローラ３００
でラビング処理されない領域、言い換えれば、ラビング処理を実行する際にスペーサ６２
ａの影となる領域は領域Ｌ１になる。次に、図５（ｂ）に示すように、配向膜１１ｂに形
成されたスペーサがスペーサ６２ａより小さいスペーサ６１ａであると仮定する。この場
合、配向膜１１ｂのうちラビングローラ３００でラビング処理されない領域は、領域Ｌ１
より小さい領域Ｌ２となる。よって、液晶装置１によれば、スペーサ６２より小さいスペ
ーサ６１が形成されているため、配向膜１１ｂのうちラビングされた部分を増やすことが
でき、配向膜１１ｂのうちラビングされた部分のサイズに応じて開口領域を拡げることが
可能である。このため、液晶装置１によれば、均一な変形量で且つ、一様なサイズのスペ
ーサを配置する場合に比べて、各画素における光の透過率を高めることができ、表意画像
のコントラストを向上させることが可能である。

＜第２実施形態＞
次に、図８を参照しながら、第２の発明に係る液晶装置の一実施形態である液晶装置２
を説明する。尚、以下の各実施形態に係る液晶装置のうち第１実施形態に係る液晶装置１
と共通する部分に共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。

図８において、本実施形態に係る液晶装置２では、第１部分１１Ａの表面の位置が、第
２部分１１Ｂの表面の位置より低く、下地層１１のうち開口領域Ｓ１に重なる部分１１Ｃ
の表面を基準として、スペーサ６１の上面の位置は、スペーサ６２の上面の位置より低い
。

液晶装置２によれば、液晶装置１と同様に、低温気泡及び真空気泡の両方を低減でき、
液晶装置２の表示性能を高めることができる。加えて、表示むらや破壊されたスペーサの
小片による微小表示欠陥の発生を低減できる。更に加えて、液晶装置２の製造時に、配向
膜１１ｂのうちラビングローラによってラビングされない部分を低減できる利点があるた
め、配向膜１１ｂのうちラビングされた部分のサイズに応じて開口領域を拡げることが可
能である。このため、液晶装置２によれば、均一な変形量で且つ、一様なサイズのスペー
サを配置する場合に比べて、各画素における光の透過率を高めることができ、表意画像の
コントラストを向上させることが可能である。

＜第３実施形態＞
次に、図９を参照しながら、第３の発明に係る液晶装置の一実施形態である液晶装置３
を説明する。

図９において、本実施形態に係る液晶装置３では、第１部分１１Ａの表面及び第２部分
１１Ｂの表面の夫々のＴＦＴアレイ基板１０厚み方向に沿った位置は、下地層１１のうち
開口領域Ｓ１に重なる部分１１Ｃの表面を基準として相互に揃っている。加えて、液晶装
置３では、対向基板２０のうち非開口領域Ｓ２ａにおいてスペーサ６１の上面に対応する
部分の下面と、対向基板２０のうち開口領域Ｓ１に重なる部分の下面との高さの違いであ
る距離ｅは、対向基板２０のうち非開口領域Ｓ２ｂにおいてスペーサ６２の上面に対応す
る部分の下面と、対向基板２０のうち開口領域Ｓ１に重なる部分の下面との高さの違いで
ある距離ｆより小さい。

液晶装置３によれば、液晶装置１及び２と同様に、低温気泡及び真空気泡の両方を低減
でき、液晶装置３の表示性能を高めることができる。加えて、表示むらや破壊されたスペ
ーサの小片による微小表示欠陥の発生を低減できる。更に加えて、液晶装置３の製造時に
、配向膜１１ｂのうちラビングローラによってラビングされない部分を低減できる利点が
あるため、配向膜１１ｂのうちラビングされた部分のサイズに応じて開口領域を拡げるこ
とが可能である。このため、液晶装置３によれば、均一な変形量で且つ、一様なサイズの
スペーサを配置する場合に比べて、各画素における光の透過率を高めることができ、表意
画像のコントラストを向上させることが可能である。

＜第４実施形態＞
次に、図１０を参照しながら、第４の発明に係る液晶装置の一実施形態である液晶装置
４を説明する。

図１０において、液晶装置４では、スペーサ６１は、対向基板２０の下面に形成されて
おり、スペーサ６２は、下地層１１のうち非開口領域Ｓ２ｂに重なる第２部分１１Ｂの表
面に配置されている。加えて、液晶装置４では、下地層１１のうち開口領域Ｓ１に重なる
部分１１Ｃの表面からスペーサ６２の上面までの距離ｈは、対向基板２０のうち開口領域
Ｓ１に重なる部分２０ｃの下面からスペーサ６１の下面までの距離ｇより大きい。

液晶装置４によれば、液晶装置１乃至３と同様に、低温気泡及び真空気泡の両方を低減
でき、液晶装置４の表示性能を高めることができる。加えて、表示むらや破壊されたスペ
ーサの小片による微小表示欠陥の発生を低減できる。更に加えて、液晶装置４の製造時に
、配向膜１１ｂのうちラビングローラによってラビングされない部分を低減できる利点が
あるため、配向膜１１ｂのうちラビングされた部分のサイズに応じて開口領域を拡げるこ
とが可能である。このため、液晶装置４によれば、均一な変形量で且つ、一様なサイズの
スペーサを配置する場合に比べて、各画素における光の透過率を高めることができ、表意
画像のコントラストを向上させることが可能である。

９ａ・・・画素電極、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、１１・・・下地層、２０・・・対
向基板、６１，６２・・・スペーサ

Claims

第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、
前記表示領域のうち光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部で
ある第１領域に形成された第１スペーサと、
前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、前記第１スペーサに
加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量が大きい第２スペー
サとを備え、
前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に重なる第１部分の表面に配置さ
れており、
前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第２領域に重なる第２部分の表面に配置さ
れており、
前記第１部分の表面の位置と、前記第２部分の表面の位置とは相互に揃っており、
前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面を基準として、前記第１スペーサの
上面の位置は、前記第２スペーサの上面の位置より低いこと
を特徴とする液晶装置。
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、
前記表示領域のうち光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部で
ある第１領域に形成された第１スペーサと、
前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、前記第１スペーサに
加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量が大きい第２スペー
サとを備え、
前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に重なる第１部分の表面に配置さ
れており、
前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第２領域に重なる第２部分の表面に配置さ
れており、
前記第１部分の表面の位置は、前記第２部分の表面の位置より低く、
前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面を基準として、前記第１スペーサの
上面の位置は、前記第２スペーサの上面の位置より低いこと
を特徴とする液晶装置。
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、
前記表示領域のうち光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部で
ある第１領域に形成された第１スペーサと、
前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、前記第１スペーサに
加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量が大きい第２スペー
サとを備え、
前記第１スペーサは、前記下地層のうち前記第１領域に重なる第１部分の表面に配置さ
れており、
前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第２領域に重なる第２部分の表面に配置さ
れており、
前記第１部分の表面及び前記第２部分の表面の夫々の位置は、前記下地層のうち前記開
口領域に重なる部分の表面を基準として、相互に揃っており、
前記第２基板のうち前記第１領域において前記第１スペーサの上面に対応する部分の下
面と、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面との高さの違いである距離は
、前記第２基板のうち前記第２領域において前記第２スペーサの上面に対応する部分の下
面と、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面との高さの違いである距離よ
り小さいこと
を特徴とする液晶装置。
前記下地層の最上層は、配向膜であり、
前記第１スペーサ及び第２スペーサの夫々のサイズは、相互に異なること
を特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の液晶装置。
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域に形成された下地層と、
前記表示領域のうち光が透過可能な複数の開口領域を相互に隔てる非開口領域の一部で
ある第１領域に形成された第１スペーサと、
前記非開口領域のうち前記第１領域と異なる第２領域に形成され、前記第１スペーサに
加えた荷重に等しい荷重を加えた場合に前記第１スペーサより変形量が大きい第２スペー
サとを備え、
前記第１スペーサは、前記第２基板の下面に形成されており、
前記第２スペーサは、前記下地層のうち前記第２領域に重なる第２部分の表面に配置さ
れており、
前記下地層のうち前記開口領域に重なる部分の表面から前記第２スペーサの上面までの
距離は、前記第２基板のうち前記開口領域に重なる部分の下面から前記第１スペーサの下
面までの距離より大きいこと
を特徴とする液晶装置。
前記第１スペーサ及び第２スペーサの夫々のサイズは、相互に異なること
を特徴とする請求項５に記載の液晶装置。