JP2010217137A - プローバフレーム、およびtftアレイ検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】コンタクト位置観察用テープを用いることなくプローブピンの接触位置が確認できるプローバフレームおよびTFTアレイ検査装置を提供する。
【解決手段】プローバフレーム10のプローブピンの近傍に撮像手段を設け、撮像手段で取得した撮像画像によってプローブピンと電極との接触状態を監視し、プローブピンの接触位置を確認する。プローバフレームは、プローバフレームの枠体を構成するフレーム材と、フレーム材においてTFT基板6と対向する対向面上に、TFT基板上に設けられた電極と接触するための複数のプローブピンからなる少なくも一つのプローブピン配列、および、少なくとも一つのプローブピン配列に並置された撮像手段を備える。撮像手段は、並置されたプローブピン配列の少なくとも一つのプローブピンを撮像し、撮像画像によって電極配列に対するプローブピン配列の位置関係の撮像画像を取得する。
【選択図】図1
【解決手段】プローバフレーム10のプローブピンの近傍に撮像手段を設け、撮像手段で取得した撮像画像によってプローブピンと電極との接触状態を監視し、プローブピンの接触位置を確認する。プローバフレームは、プローバフレームの枠体を構成するフレーム材と、フレーム材においてTFT基板6と対向する対向面上に、TFT基板上に設けられた電極と接触するための複数のプローブピンからなる少なくも一つのプローブピン配列、および、少なくとも一つのプローブピン配列に並置された撮像手段を備える。撮像手段は、並置されたプローブピン配列の少なくとも一つのプローブピンを撮像し、撮像画像によって電極配列に対するプローブピン配列の位置関係の撮像画像を取得する。
【選択図】図1
Description
本発明は、プローバフレーム、およびプローバフレームを備えるTFTアレイ検査装置に関し、特にプローバフレームのプローブピンとプローブピンとの接触位置を確認するための構成に関する。
TFT液晶基板は、例えばガラス基板上に液晶の画素を駆動する複数の回路がマトリックス状に配列された電気回路が形成され、その周囲に電気的接点となるコンタクトパットが多数形成されている。この液晶基板に形成された電気回路の良否を判定する電気的検査は、液晶基板のコンタクトパッドにプローバに設けたプローブピンを電気的に接触させることで行っている。
プローブピンをTFT液晶基板のコンタクトパッドに接触させることによって、TFT液晶基板のTFT(薄膜トランジスタ)に検査用の駆動信号を供給するTFT液晶基板検査装置は、例えば、特許文献1〜3で知られている。
TFT(薄膜トランジスタ)に検査用駆動信号を供給するには、プローバのプローブピンとコンタクトパッドとの接触が良好であることが求められる。
プローブピンのコンタクト位置を確認するために、コンタクト位置観察用のテープを用いてプローブピンのコンタクト状態をチェックする方法が知られている。図8はコンタクト位置観察用テープを用いたプローブピンの接触確認を説明するための図である。
図8において、ガラス基板等の基板20の面上には複数の液晶パネルが形成されている。液晶パネル21には、複数のTFTや透明電極がマトリックス状に配置されると共に、これらTFTを選択的に駆動する配線が形成され、これらの配線に駆動信号を供給する電極22が設けられる。図8(a)では、TFT、電極、配線等が形成される回路部分からなる液晶パネル21と、コンタクトパッドを形成する電極22を示している。図8(b)は電極22とプローブピン12との接触を確認するために、コンタクト位置観察用テープ30を電極22の表面に貼り付けた状態を示している。
ここでは、電極22a〜22eに対してそれぞれプローブピン12a〜12eが一本ずつ接触することによって、各電極22a〜22eに検査用駆動信号を供給する場合を示している。プローブピン12をTFT液晶基板20に近づけ、プローブピン12の先端をコンタクト位置観察用テープ30に接触させると、この接触によってコンタクト位置観察用テープ30にピン痕31が形成される。図8(c)に示す例では、ピン痕31a〜31eは電極22a〜22e上の対応する位置に観察される。一方、図8(c)に示す例では、ピン痕31a〜31eは電極22a〜22eから外れた位置に観察される。このコンタクト位置観察用テープ30上に残るピン痕31によって、プローブピン12の電極22に対する接触位置を確認することができる。
コンタクト位置観察用テープ30を用いてプローブピン12の接触位置を確認するには、TFT液晶基板20の電極22上にコンタクト位置観察用テープ30を貼った後、TFT液晶基板20をロードロックチャンバ(図示していない)内に導入し、導入したTFT液晶基板20をロードロックチャンバからメインチャンバ(図示していない)内に搬入し、プローバフレーム(図示していない)をTFT液晶基板20にセットしプローブピン12をTFT液晶基板20に接触させる。
プローブピン12をTFT液晶基板20に接触させた後、プローバフレームをTFT液晶基板20から離し、プローブピン12とTFT液晶基板20との接触を解除した後、TFT液晶基板20をメインチャンバ(図示していない)からロードロックチャンバ(図示していない)に搬送し、ロードロックチャンバの大気側を開放してTFT液晶基板20を取り出し、コンタクト位置観察用テープ30のピン痕を観察し、ピン痕からコンタクト位置の位置ずれを求めて調整を行う。
コンタクト位置観察用テープを用いたプローブピンの接触位置の確認法では、コンタクト位置観察用テープをプローブピンに貼る必要がある。このコンタクト位置観察用テープの貼付を人手によって行う場合には、プローブピンの設置位置が手の届かない位置であるときにはコンタクト位置観察用テープの貼り付けが難しい。そのため、接触位置の確認ができない個所が発生するという問題がある。特に、TFT液晶基板の大型化に伴ってプローバフレームが大型化した場合には、コンタクト位置観察用テープを用いて接触位置を確認することができる範囲はプローバフレームの周囲に限られ、プローバフレームの内側に設けられたプローブピンについては接触位置の確認が困難である。
また、仮にプローバフレームの内側に設置されたプローブピンにコンタクト位置観察用テープを貼り付けることができた場合であっても、コンタクト位置観察用テープのピン痕を目視で確認することが難しいという問題がある。
また、コンタクト位置観察用テープの人手による貼付や、ピン痕の目視による確認に代えて、貼付治具や撮像装置等を用いることによって解決することも考えられるが、そのためには特別に設計した装置を別途用意する必要があるという問題がある。
そこで、本発明は前記した問題点を解決し、プローバフレームおよびTFTアレイ検査装置において、従来のコンタクト位置観察用テープを用いることなくプローブピンの接触位置を確認することを目的とする。
本発明は、プローバフレームのプローブピンの近傍に撮像手段を設け、この撮像手段で取得した撮像画像によってプローブピンと電極との接触状態を監視することによって、コンタクト位置観察用テープを用いることなくプローブピンの接触位置を確認する。
本発明のプローバフレームは、検査対象のTFT基板に検査信号を入力するプローバフレームであって、プローバフレームは、このプローバフレームの枠体を構成するフレーム材と、このフレーム材においてTFT基板と対向する対向面上に、TFT基板上に設けられた電極と接触するための複数のプローブピンからなる少なくも一つのプローブピン配列、および、少なくとも一つのプローブピン配列に並置された撮像手段を備える。
撮像手段は、並置されたプローブピン配列の少なくとも一つのプローブピンを撮像し、この撮像によって電極配列に対するプローブピン配列の位置関係を表す撮像画像を取得する。
撮像手段は、プローバフレームの枠体において周辺部に限らず中央部にも設置することができるため、プローバフレームの所望位置でのプローブピンと電極との接触関係を確認することができる。
通常、プローブピンは複数のピン材を有し、これら複数のプローブピンはプローブピン配列を構成している。このプローブピン配列において、各プローブピン間の位置は所定間隔に定められ、これらプローブピン間の位置ずれは、プローバフレームと基板との位置合わせにおいて、無視することができる程度に小さい。また、基板側に形成された複数の電極からなる電極配列において、各電極間の位置は所定間隔に定められ、これら電極間の位置ずれは、プローバフレームと基板との位置合わせにおいて、無視することができる程度に小さい。
したがって、プローブピン配列中の少なくとも一つのプローブピンと電極配列中の少なくとも一つの電極との位置関係を監視することによって、プローブピン配列と電極配列との位置関係を確認することができ、これによって、プローブピン配列の各プローブピンと電極配列の各電極の位置関係を確認することができる。
本発明の撮像手段は、各プローブピン間の位置ずれを監視するものではなく、プローブピン配列中の少なくとも一つのプローブピンと電極配列中の少なくとも一つの電極との位置関係を撮像画像によって監視し、複数のプローブピンからなるプローブピン配列と複数の電極からなる電極配列との位置関係を確認し、プローブピンと電極との接触関係を確認することができる。
本発明の撮像手段は、プローバフレームの枠体に対してプローブピンが設けられた位置の全ての位置に配置する必要はなく、プローバフレームの枠において、対角位置、および中央位置の3箇所に設ける構成とする他、4隅の位置および中央位置の5箇所に設ける構成とすることができる。
プローバフレームのプローブピンと基板の電極との位置ずれは、主にプローバフレームの枠体と基板との位置ずれに基づくものと考えられるため、プローバフレームの枠の対角位置および中央位置の3箇所、あるいは、プローバフレームの枠の4隅の位置および中央位置の5箇所において、プローブピンと電極との位置ずれを監視することによって、プローバフレームのプローブピンと基板の電極との位置ずれを確認することができる。
また、本発明の撮像手段はCCDカメラやCMOSカメラ等のカメラを有する構成とすることができる。
撮像手段の一形態は、カメラをプローバフレームのフラーム材に設置する構成であり、カメラの撮像方向をプローブピン配列に向けてフレーム材上に設置する。
撮像手段の他の形態は、カメラの先端に接続した光ファイバをプローバフレームのフラーム材に設置する構成であり、この光ファイバの受光端をプローブピン配列に向けてフレーム材上に設置する。
上記形態によって、プローブピン配列の少なくとも一つのプローブピンを撮像画像として撮像する。
撮像した撮像画像に基づいて、プローブピンとこのプローブピンと接触すべき電極との位置関係を監視することができる。
光ファイバを配列した場合には、一台のカメラに切り換える構成とすることによって、カメラの台数を減らすことができる。
カメラを配置する形態では、カメラのサイズはプローバフレームと基板との隙間に設置可能な程度に小型である必要があるが、光ファイバを配列した場合には、カメラのサイズについては制限を考慮する必要がなくなるという利点がある。
また、本発明のTFTアレイ検査装置は、TFT基板上に形成されるTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置であって、本発明のプローバフレームと、TFT基板の電位状態を検出する検出手段とを備え、プローバフレームに設けた撮像手段が取得する撮像画像に基づいてプローブピン配列と前記電極との位置関係を確認する。
以上説明したように、本発明のプローバフレームおよびTFTアレイ検査装置は、従来のコンタクト位置観察用テープを用いることなくプローブピンの接触位置を確認することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。以下、本発明のTFTアレイ検査装置について図1を用いて説明し、本発明のプローバフレームについて図2〜7を用いて説明する。
はじめに、本発明のTFTアレイ検査装置について説明する。図1は本発明のTFTアレイ検査装置の概略を説明するための図である。
図1は、本発明のTFTアレイ検査装置の構成例を説明するための概略ブロック図である。図1において、TFTアレイ検査装置1は、ステージ5上に載置した基板6のTFTアレイ(図示していない)上に荷電粒子ビームを走査する走査ビーム部分と、荷電粒子ビームをTFTアレイ上で走査することで得られる二次電子によってTFTアレイ検査を行う検査部分とを備える。
走査ビーム部分は、荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム源2、基板6を載置するステージ5、荷電粒子ビーム源2から照射する荷電粒子ビーム、およびステージ5を制御して、基板上で荷電粒子ビームを走査させる走査制御部4、基板6の上方位置に配置したプローバフレーム10に対して検査信号を入力する検査信号生成部7を備える。プローバフレーム10は、基板6が備える電極(図示していない)に対して上方からプローブピンを接触させ、電極を通して基板6に検査信号を印加する。
検査部分は、荷電粒子ビームの照射によって基板から放出される二次電子を検出する検出器3、および検出器3で検出した検出信号の信号強度検出部8、検出信号に基づいて画像を形成する信号処理部9を備える。
また、走査制御部4、検査信号生成部7の各制御部、および信号処理部9は、図示していない制御部によって制御することができる。
図2,3は本発明のプローバフレーム10の構成を説明するための図である。なお、図2に示すプローバフレーム10は、基板(図示していない)と対向する対向面11を下方から見た状態を示している。
プローバフレーム10は、フレーム材14を組み合わせて成る枠体15を備える。枠体15は開口部を有し、この開口部を介して電子線の照射および放出された二次電子線の検出を行う。
プローバフレーム10において、図示していない基板に対して対向する対向面11には、基板に設けられた電極と対応する位置に複数のプローブピン12から成るプローブピン配列Aが設けられる。このプローブピン12は、プローバフレーム10を基板上に接近させることによって基板上に設けた電極と接触し、電極を介して基板のアレイに検査信号を印加する。
本発明のプローバフレーム10は、プローブピン配列Aの少なくとも一つのプローブピンを撮像する撮像手段13を備える。図2は撮像手段13としてCCDカメラ13aの例を示し、図3は撮像手段13として光ファイバ13bの例を示している。
CCDカメラ13aは、その撮像方向をプローブピン配列12Aの少なくとも一つのプローブピン12に向けて配置する。また、光ファイバ13bはその受光端13cをプローブピン配列12Aの少なくとも一つのプローブピン12に向けて配置する。光ファイバ13bに他端にはCCDカメラが接続される。なお、撮像手段13はCCDカメラやCMOSカメラに限られるものではなく、画像データを取得する任意の撮像装置を用いることができる。
撮像手段13は、プローブピン配列12Aの少なくとも一つのプローブピン12を撮像し、プローバフレーム10を基板に接近させてプローブピン12を電極に接触させる際に、プローブピン12およびその周囲を撮像して、プローブピン12と電極との位置関係を撮像画像によって取得する。
図4はプローバフレームと基板側の電極との位置関係を説明するための図である。図4(a)は、プローバフレーム10のプローブピン12が基板20側に当接していない状態を示している。この状態では、撮像手段13は、複数のプローブピン12からなるプローブピン配列12Aの内で、撮像手段13に近い位置にあるプローブピン12を撮像している。撮像されるプローブピン12の本数は、撮像手段13の撮像方向とプローブピン配列12Aとの位置関係に依るが、少なくとも1つのプローブピン12を撮像するように配置している。
図4(b)、(c)はプローバフレーム10のプローブピン12が基板20側に当接した状態を示している。図4(b)はプローブピン12が電極22と接触した状態を示し、図4(c)は、プローブピン12と電極22との位置ずれによって、プローブピン12が電極22と接触していない状態を示している。撮像手段13は、プローブピン12と電極22との位置関係を撮像画像によって取得する。この撮像画像を監視することによって、プローブピン12と電極22とが接触状態にあるか、あるいは非接触状態にあるかを確認することができる。
プローブピン配列12Aおよび複数の電極22からなる電極配列22Aは、各配列内の位置関係の位置ずれは、プローバフレーム10と基板20との位置合わせにおいては無視できる程度に小さいため、プローブピン配列12A中の一部のプローブピン12と電極配列22A中の一部の電極22との位置関係を監視することで、プローブピン配列12Aと電極配列22Aとの位置関係、およびプローブピン配列12A内のプローブピン12と電極配列22A内の対応する電極22との位置関係を監視し確認することができる。
図5は撮像手段13による撮像画像の例を示している。図5(a)はプローブピン12と電極22との位置決めが正しく行われている場合の撮像画像を示し、図5(b)はプローブピン12と電極22との位置決めが正しく行われていない場合の撮像画像を示している。なお、ここでは、3本にプローブピン12が撮像される場合を示しているが、少なくとの1本のプローブピンを撮像することによって、プローブピンと電極との位置関係を監視し確認することができる。
本発明の撮像手段13は、プローバフレーム10の枠体15に対して、プローブピン12が設けられた位置の全ての位置に配置する必要はなく、プローバフレーム10の枠体15において、対角位置、および中央位置の3箇所に設ける構成とする他、4隅の位置および中央位置の5箇所に設ける構成とすることができる。
図6、7は撮像手段の配置位置を説明するための図である。図6は2枚のパネルを備える基板の例を示し、図7は9枚のパネルを備える基板の例を示している。
図6(a)、図7(a)は、プローバフレーム10の枠体15の対角位置(図中のA,Bで示す位置)、および中央位置(図中のEで示す位置)の3箇所に設ける例を示している。図6(b)、図7(b)は、プローバフレーム10の枠体15の4隅の位置(図中のA,B,C,Dで示す位置)および中央位置(図中のEで示す位置)の5箇所に設ける例を示している。
プローバフレーム10の枠体15の対角位置および中央位置の3箇所、あるいは、プローバフレーム10の枠体15の4隅の位置および中央位置の5箇所において、プローブピンと電極との位置ずれを監視することによって、プローバフレームのプローブピンと基板の電極との位置ずれを確認することができる。
なお、本発明は前記各実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨に基づいて種々変形することが可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明のプローバフレームおよびTFTアレイ検査装置は、液晶基板に限らず、半導体基板の検査に適用することができる。
1…TFTアレイ検査装置
2…荷電粒子ビーム源
3…検出器
4…走査制御部
5…ステージ
6…基板
7…検査信号生成部
8…信号強度検出部
9…信号処理部
10…プローバフレーム
11…対向面
12…プローブピン
12A…プローブピン配列
12a-12e…プローブピン
13…撮像手段
13a…カメラ
13b…光ファイバ
13c…受光端
14…フレーム材
15…枠体
20…基板
21…液晶パネル
22…電極
22a-22e…電極
22A…電極配列
30…コンタクト位置観察用テープ
31…ピン痕
31a-31e…ピン痕
2…荷電粒子ビーム源
3…検出器
4…走査制御部
5…ステージ
6…基板
7…検査信号生成部
8…信号強度検出部
9…信号処理部
10…プローバフレーム
11…対向面
12…プローブピン
12A…プローブピン配列
12a-12e…プローブピン
13…撮像手段
13a…カメラ
13b…光ファイバ
13c…受光端
14…フレーム材
15…枠体
20…基板
21…液晶パネル
22…電極
22a-22e…電極
22A…電極配列
30…コンタクト位置観察用テープ
31…ピン痕
31a-31e…ピン痕
Claims (5)
- 検査対象のTFT基板に検査信号を入力するプローバフレームであって、
前記プローバフレームは、
当該プローバフレームの枠体を構成するフレーム材と、
当該フレーム材においてTFT基板と対向する対向面上に、
TFT基板上に設けられた電極と接触するための複数のプローブピンからなる少なくも一つのプローブピン配列、および、前記少なくとも一つのプローブピン配列に並置された撮像手段を備え、
前記撮像手段は、前記並置されたプローブピン配列の少なくとも一つのプローブピンを撮像し、複数の電極から成る電極配列に対する前記プローブピン配列の位置関係を表す撮像画像を取得することを特徴とする、プローバフレーム。 - 前記撮像手段は、前記プローバフレームの枠体において、対角位置、および中央位置の3箇所に設けることを特徴とする、請求項1に記載のプローバフレーム。
- 前記撮像手段は、前記プローバフレームの枠体において、4隅の位置、および中央位置の5箇所に設けることを特徴とする、請求項1に記載のプローバフレーム。
- 前記撮像手段は、当該撮像手段の撮像方向を前記プローブピン配列に向けてフレーム材上に設置すること、又は、前記撮像手段の先端に接続した光ファイバの受光端を前記プローブピン配列に向けてフレーム材上に設置することを特徴とする、請求項1から3の何れかに記載のプローバフレーム。
- TFT基板上に形成されるTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置であって、
検査対象のTFT基板に検査信号を入力する請求項1から4の何れかに記載のプローバフレームと、
TFT基板の電位状態を検出する検出手段とを備え、
前記プローバフレームに設けた撮像手段が取得する撮像画像に基づいてプローブピン配列と複数の電極から成る電極配列との位置関係を確認することを特徴とする、TFTアレイ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009067463A JP2010217137A (ja) | 2009-03-19 | 2009-03-19 | プローバフレーム、およびtftアレイ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP (1) | JP2010217137A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117388906A (zh) * | 2023-10-12 | 2024-01-12 | 北京富通康影科技有限公司 | 基于弹针阵列的高像素密度辐射探测器晶体检测装置及平台 |
-
2009
- 2009-03-19 JP JP2009067463A patent/JP2010217137A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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