JP2010202518A - 凹凸補正化粧料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平均粒子径が1〜30μmのポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末,部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物、及び該部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物成分を膨潤せしめる油剤を含有する凹凸補正化粧料である。上記のポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末の含有量は1.0〜50質量%が好ましい。また、上記の部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の含有量は0.5〜15質量%が好ましい。
【選択図】なし
Description
(A)平均粒子径が1〜30μmのポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末
(B)部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物
(C)成分(B)を膨潤せしめる油剤
を含有することを特徴とする凹凸補正化粧料である。
上記の成分(A)のポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末の含有量は1.0〜50質量%(以下、「質量%」を「%」と記す)が好ましい。また、成分(B)の部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の含有量は0.5〜15%が好ましい。
(b−1)は、SiO2単位、(CH2=CH)SiO1.5単位、RSiO1.5単位、R(CH2=CH)SiO単位、R2SiO単位、R3SiO0.5単位及びR2(CH2=CH)SiO0.5単位(ここで、Rは脂肪族不飽和基を除く置換もしくは非置換の炭素数1〜30の一価炭化水素基である。一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ビニル基等の脂肪族不飽和基、メチル基、エチル基、プロピル基等の水素原子をフェニル基、トリル基等のアリール基で置換されたアラルキル基、シクロヘキシル基や、フルオロ基を含有するハロゲン化炭化水素基、エチレンオキサイド基を含有する炭化水素基等が挙げられる。)からなる群から選択された少なくとも1種の構造単位で構成され、且つ分子中にケイ素原子に結合したビニル基を平均で1.5個以上含有するオルガノポリシロキサンである。
(b−2)は、下記一般式(イ)で表わされるポリオキシアルキレンである。
CmH2m−1O(C2H4O)h(C3H6O)iCmH2m−1 ・・・(イ)
(式中、hは2〜200の整数、iは0〜200の整数、h+iは3〜200の整数、mは2〜6をそれぞれ示す)
(b−3)は、下記一般式(ロ)で表される不飽和炭化水素である。
CnH2n−1(CH2)jCnH2n−1 ・・・(ロ)
(但し、nは2〜6、jは1以上の整数である。)
表1に示す成分を用いて、下記の製造方法によりO/W型化粧下地を製造した。そして、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」を、下記の官能評価法で評価した。それらの結果を併せて表1に示した。
A.成分(1)〜(8)を70℃にて均一に混合溶解する。
B.成分(9)〜(11)を70℃にて均一に混合溶解する。
C.BにAを添加し、デスパーミキサーにて70℃にて乳化する。
D.Cに成分(12)〜(16)を加え、デスパーミキサーにて均一に混合する。
E.Dを冷却する。
F.Eに成分(17)〜(21)を40℃にて加え、デスパーミキサーにて均一に混合し、O/W型化粧下地を得た。
専門パネル員20名により、前記製造方法で得られた各化粧下地を顔に使用し、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」について、パネル各人が下記絶対評価にて6段階に評価し評点を付け、各化粧下地ごとにパネル全員の評点合計から、その平均値を算出し、下記4段階判定基準により判定した。
[絶対評価基準]
(評点): (評価)
6点 : 非常に良好
5点 : 良好
4点 : やや良好
3点 : 普通
2点 : やや不良
1点 : 不良
[4段階判定基準]
(判定):(評点の平均値):(評価)
◎ :5点を超える:非常に良好
○ :3点を超え5点以下:良好
△ :1点を超え3点以下:やや不良
× :1点以下:不良
なお、上記のアナライザー装置でモノクロ写真を撮影し、このモノクロ画像中で、周辺部位に比べて「やや暗い部分」と「暗い部分」として縁辺を検出できる対象物のうち、丸みを帯びていて、かつサイズ(毛穴の上面の面積)が0.3〜0.6mm2の連続した領域を検出し、これを「開きが目立つ毛穴」と称した。
(成分) (%)
1.部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の混合物(注5) 5.0
2.ポリオキシエチレンメチルシロキサン・ポリオキプロピレンオレイル
メチルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体(注6) 2.0
3.PEG−3ジメチコン(注7) 1.0
4.ジメチルポリシロキサン(6mm2/s) 20.0
5.精製水 残量
6.1,3−ブチレングリコール 14.5
7.1,2−ペンタンジオール 0.5
8.シリコーン処理赤酸化鉄(注8) 1.0
9.シリコーン処理黄酸化鉄 1.5
10.シリコーン処理黒酸化鉄 0.5
11.ポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末(注3) 10.0
12.水添レシチン 0.2
13.2−エチルへキサン酸グリセリル 20.0
14.香料 0.1
注5:KSG−16(信越化学工業社製)
注6:KF−6026(信越化学工業社製)
注7:KF−6015(信越化学工業社製)
注8:メチルポリシロキサン2%処理
A:1〜4をデスパーにて均一に分散する。
B:8〜13をローラーにて均一分散し、Aに添加する。
C:Bに5〜7を徐々に加え乳化する。
D:Cに14を加え、脱泡後、容器に充填する。
得られたW/O型凹凸補正ファンデーションは、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」に優れたもので、ファンデーションとしても使用しやすいものであった。
(成分) (%)
1.ジメチルポリシロキサン(10mm2/s) 10.0
2.ジオクタン酸ネオペンチルグリコール 残量
3.部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の混合物(注9) 10.0
4.セレシンワックス 7.0
5.カルナウバワックス 1.0
6.ポリエチレンワックス 2.0
7.ラウリン酸亜鉛 5.0
8.酸化チタン 5.0
9.ポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末(注3) 10.0
10.赤酸化鉄 1.0
11.黄酸化鉄 1.5
12.黒酸化鉄 0.5
13.香料 0.1
注9:KSG−210(信越化学工業社製)
A:1〜6を90℃で加熱溶解する。
B:Aに7〜12を均一に分散する。
C:Bに13を加え、溶解、脱泡後、スティック状容器に充填する。
得られたスティック状凹凸補正コンシーラーは、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」に優れたもので、コンシーラーとしても使用しやすいものであった。
(成分) (%)
1.部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の混合物(注10) 60.0
2.ポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末(注3) 39.9
3.香料 0.1
注10:KSG−43(信越化学工業社製)
(製造方法)
A:1〜3を均一に分散混合し、脱泡後、容器に充填する。
得られたゲル状凹凸補正化粧料は、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」に優れたものであった。
(成分) (%)
1.タルク 15.0
2.マイカ 10.0
3.酸化チタン 5.0
4.ベンガラ 1.0
5.黄酸化鉄 3.0
6.黒酸化鉄 0.2
7.ポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末(注3) 10.0
8.ポリエチレンワックス 6.0
9.マイクロクリスタリンワックス 7.0
10.流動パラフィン 20.0
11.部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の混合物(注11) 5.0
12.ジメチルポリシロキサン(20mm2/s) 10.0
13.トリ(カプリル/カプリン酸)グリセリル 残量
14.香料 0.1
注11:KSG−310(信越化学工業社製)
A:8〜13を90℃で加熱溶解する。
B:Aに1〜7を均一に分散する。
C:Bに14を加え、溶解、脱泡後、皿状容器に充填する。
得られた油性固形状凹凸補正ファンデーションは、「毛穴隠し効果」及び「毛穴隠し効果の持続性」に優れたもので、ファンデーションとしても使用しやすいものであった。
Claims (3)
- 次の成分(A)〜(C);
(A)平均粒子径が1〜30μmのポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末
(B)部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物
(C)成分(B)を膨潤せしめる油剤
を含有することを特徴とする凹凸補正化粧料。 - 成分(A)のポリエチレンテレフタレート微粉砕粉末の含有量が、1.0〜50質量%である請求項1に記載の凹凸補正化粧料。
- 成分(B)の部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物の含有量が、0.5〜15質量%である請求項1又は2に記載の凹凸補正化粧料。
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