JP2010199197A - 半導体発光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電流を供給する電極が固定の半導体発光素子と比べて、温度による発光効率の低下を防ぐことができる半導体発光装置を提供する。
【解決手段】半導体発光装置1の制御部120は、高温時と低温時でp側及びn側電極の組み合わせを変更し、例えば、低温時には、p側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対を構成する。半導体発光装置1は、電流経路が電流通過領域10の中心部付近を経由するので、電流狭窄径(Ox)における電流密度が均一となり、低温時の発光効率を向上させることができる。
【選択図】図1
【解決手段】半導体発光装置1の制御部120は、高温時と低温時でp側及びn側電極の組み合わせを変更し、例えば、低温時には、p側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対を構成する。半導体発光装置1は、電流経路が電流通過領域10の中心部付近を経由するので、電流狭窄径(Ox)における電流密度が均一となり、低温時の発光効率を向上させることができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体発光装置に関する。
従来の技術として、第1導電型半導体層が裏側に形成され、かつ第1導電型半導体層とPN接合を形成する第2導電型半導体層が表側に形成された半導体積層部と、半導体積層部の表側に形成されると共に第2導電型半導体と電気的に接合された表側電極と、半導体積層部の裏側に形成されると共に第1導電型半導体と電気的に接合された裏側電極とを備え、第1導電型半導体層と第2導電型半導体層との間で発生した光が、第2導電型半導体層を介して、半導体積層部の表側から外部に取り出される半導体発光素子であって、表側電極は、第2導電型半導体層の周縁部に環状に形成されると共に光を外部に出射させる光出射面の縁を構成する周縁電極部と、光出射面上に位置する中心電極部とを含んで構成され、周縁電極部と裏側電極とを通る電流路の抵抗が、中心電極部と裏側電極とを通る電流路の抵抗よりも高いことを特徴とする半導体発光素子が知られている(例えば、特許文献1参照)。
本発明の目的は、電流を供給する電極が固定の半導体発光素子と比べて、温度による発光効率の低下を防ぐことができる半導体発光装置を提供することにある。
[1]光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、前記第1の電極との間に、電流狭窄層の電流通過領域を通る電流経路を形成可能な位置に設けられた複数の第2の電極と、を具備する半導体発光素子と、前記第1の電極と前記複数の第2の電極とに前記半導体発光素子の駆動電流を選択的に供給する駆動部と、を備えた半導体発光装置。
[2]第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層されたメサ構造体を有する半導体基板と、前記上部多層膜反射層上に、前記活性領域で発生した光が出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられたN個(N≧2の整数)の第1の電極と、前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域が形成された電流狭窄層と、前記半導体基板上の前記メサ構造体の周囲に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る電流経路を形成する、前記第1の電極と同数のN個の第2の電極と、を具備する半導体発光素子と、前記出射窓を介して互いに反対側に位置する前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記出射窓に対して同じ側に位置する前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第2の電極対とを構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、を備えた半導体発光装置。
[3]前記第1の電極対と前記第2の電極対の接続を切り換える複数のスイッチを有する接続切換部と、前記半導体発光素子の温度がしきい値以上なら高温度、前記しきい値よりも低いなら低温度と判定を行う判定回路と、前記判定回路による判定結果に基づいて前記複数のスイッチの制御を行うスイッチ制御回路と、を具備する制御部と、を備えた前記[2]に記載の半導体発光装置。
[4]前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第1の電極対から1つの前記第1の電極対を選択して接続を切り換え、前記駆動部は、選択された1つの前記第1の電極対に前記駆動電流を供給する前記[3]に記載の半導体発光装置。
[5]前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して複数の前記第1の電極対を選択して接続を切り換え、前記駆動部は、選択された複数の前記第1の電極対のそれぞれに周期的に前記駆動電流を供給する前記[3]に記載の半導体発光装置。
[6]前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記高温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して少なくとも1つの前記第2の電極対を選択して接続を切り換え、前記駆動部は、選択された少なくとも1つの前記第2の電極対のそれぞれに供給される電流の合計が前記駆動電流に等しくなるように供給する前記[3]に記載の半導体発光装置。
[7]第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層された半導体基板と、前記上部多層膜反射層上に形成され、光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域を有する電流狭窄層と、前記射出窓に対向する前記半導体基板裏に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第1の電流経路を形成する第2の電極と、前記半導体基板裏の前記第2の電極の周囲に間隔を有して形成され、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第2の電流経路を形成する第3の電極と、を具備する半導体発光素子と、前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記第1の電極と前記第3の電極とを組み合わせた第2の電極対と、を構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、を備えた半導体発光装置。
[8]第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層されたメサ構造体を有する半導体基板と、前記上部多層膜反射層上に形成され、光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域を有する電流狭窄層と、前記射出窓に対向する前記半導体基板裏に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第1の電流経路を形成する第2の電極と、前記半導体基板上の前記メサ構造体の周囲に形成され、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第2の電流経路を形成する第3の電極と、を具備する半導体発光素子と、前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記第1の電極と前記第3の電極とを組み合わせた第2の電極対と、を構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、を備えた半導体発光装置。
[9]前記第1の電極対と前記第2の電極対の接続を切り換える複数のスイッチを有する接続切換部と、前記半導体発光素子の温度がしきい値以上なら高温度、前記しきい値よりも低いなら低温度と判定を行う判定回路と、前記判定回路による判定結果に基づいて前記複数のスイッチの制御を行うスイッチ制御回路と、を具備する制御部と、を備え、前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第1の電極対に接続を切り換え、前記判定回路による判定結果が前記高温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第2の電極対に接続を切り換える前記[7]又は[8]に記載の半導体発光装置。
請求項1、2、4、7及び8に係る発明によれば、電流を供給する電極が固定の半導体発光素子と比べて、半導体発光素子の温度による発光効率の低下を防ぐことができる。
請求項3、9に係る発明によれば、半導体発光素子の温度に応じて、第1及び第2の電極対の切り換えを行うことができる。
請求項5、6に係る発明によれば、活性領域における電流密度を均一に近づけることができる。
[第1の実施の形態]
(半導体発光素子の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光装置に関するブロック図である。この半導体発光装置1は、主に、後述する出射窓を形成するように出射窓の周囲に設けられた後述するp側電極と、p側電極との間に、後述する電流狭窄層の電流通過領域を通る電流経路を形成可能な位置に設けられた後述する複数のn側電極と、を具備する半導体発光素子100と、p側電極と複数のn側電極とに半導体発光素子100の駆動電流を選択的に供給する駆動部130と、を備えて構成されている。
(半導体発光素子の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光装置に関するブロック図である。この半導体発光装置1は、主に、後述する出射窓を形成するように出射窓の周囲に設けられた後述するp側電極と、p側電極との間に、後述する電流狭窄層の電流通過領域を通る電流経路を形成可能な位置に設けられた後述する複数のn側電極と、を具備する半導体発光素子100と、p側電極と複数のn側電極とに半導体発光素子100の駆動電流を選択的に供給する駆動部130と、を備えて構成されている。
さらに、半導体発光装置1は、図1に示すように、温度測定部110と、判定回路121及びスイッチ制御回路123を有する制御部120と、接続切換部140と、を備えて概略構成されている。
半導体発光素子100は、一例として、GaAs−AlGaAs系面発光型半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)である。
温度測定部110は、一例として、半導体発光素子100の後述する上部多層膜反射鏡の温度を測定し、制御部120の判定回路121に測定した温度を出力する。
制御部120は、判定回路121及びスイッチ制御回路123を制御するものである。判定回路121は、しきい値122を有し、温度測定部110から出力される温度に基づいて半導体発光素子100の温度の高低を判定するものである。スイッチ制御回路123は、判定回路121による判定結果に基づいて接続切換部140のスイッチ141〜144のオン・オフを制御するものである。
駆動部130は、一例として、半導体発光素子100の第1導電型側の電極であるp側電極(第1の電極)14a、14bに接続され、それぞれ独立に駆動電流を供給するように構成されている。なお、駆動部130は、第2導電側電極であるn側電極(第2の電極)16a、16bに接続されても良い。
接続切換部140は、スイッチ141〜144から構成されている。
(半導体発光素子の構成)
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、図3は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の図2のIII―III線における断面図である。図2は、半導体発光素子100を上面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、図3は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の図2のIII―III線における断面図である。図2は、半導体発光素子100を上面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
この半導体発光素子100は、一例として、図2及び3に示すように、円筒形状のメサ構造体101を有し、半導体基板である基板2と、基板2上に形成されたバッファ層3と、バッファ層3上に形成された下部多層膜反射層としての下部DBR(Distributed Bragg Reflector)層4と、下部DBR層4上に形成された下部スペーサ層5、量子井戸層6及び上部スペーサ層7を積層してなる活性領域8と、活性領域8上に形成された酸化領域9及び電流通過領域10からなる電流狭窄層11と、電流狭窄層11上に形成された上部多層膜反射層としての上部DBR層12と、上部DBR層12上に形成されたコンタクト層13と、コンタクト層13上に、出射窓18を形成するように出射窓18の周囲に設けられたp側電極14a、14bと、メサ構造体101の側部、及び上部の一部と下部DBR層4上を被覆する層間絶縁膜15と、バッファ層3に到達するコンタクトホール17を有し、層間絶縁膜15を介した下部DBR層4上に形成されたn側電極16a、16bと、を備えて概略構成されている。
基板2は、例えば、GaAs基板である。
バッファ層3は、例えば、n型の導電型を有するGaAs層であり、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法またはMBE(Molecular Beam Epitaxy)法等によって形成される。
下部DBR層4は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって、組成の異なるAlaGabAsとAlcGadAsを交互に積層し、n型の不純物としてSiがドーピングされたものである。
活性領域8を形成する下部スペーサ層5は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって積層された、アンドープのAlGaAs層である。活性領域8を形成する量子井戸層6は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって積層された、アンドープのGaAs層及びAlGaAs層である。活性領域8を形成する上部スペーサ層7は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって積層された、アンドープのAlGaAs層である。
上部DBR層12は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって、組成の異なるAlaGabAsとAlcGadAsを交互に積層し、p型の不純物としてCがドーピングされたものである。
コンタクト層13は、例えば、MOCVD法またはMBE法等によって積層された、p型のGaAs層である。
p側電極14a、14bは、例えば、図2に示すように、面方向に幅のある円環形状を有しており、フォトリソグラフィ法によってレジストパターンを形成し、電極材料を蒸着した後、リフトオフすることによって形成される。p側電極14a、14bの電極材料は、例えば、Au、Pt、Ti、Ge、Zn、Ni、In、W、及び透明電極材料であるITO(Indium Tin Oxide)を用いることができる。
ここで、メサ構造体101は、例えば、p側電極14a、14bの一部を含むコンタクト層13上に、PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)法によってメサ形成用のマスク材となるSiN膜を形成し、これをマスクとしてRIE(Reactive Ion Etching)法によって下部DBR層4の一部が露出するまでエッチング加工を行って形成される。
電流狭窄層11は、例えば、水蒸気を導入したウエット酸化炉を使用して、AlAs層を360℃で加熱することで、AlAs層がメサ構造体101の側面から一部を選択的に酸化され、酸化領域9が形成される。酸化されない電流通過領域10は、駆動電流及び活性領域8から発生した光が通過する領域である。半導体発光素子100は、電流通過領域10の直径である電流狭窄径(Ox)を5μm以上とすることによってマルチモードとなるように構成されている。
層間絶縁膜15は、例えば、フォトリソグラフィ法によってレジストパターンを形成し、続いて、PECVD法によって、SiN膜を形成し、続いて、レジストパターンを除去することによって形成される。
n側電極16a、16bは、例えば、図2に示すように、面方向に幅のある円環形状を有しており、フォトリソグラフィ法によってレジストパターンを形成し、RIE法によってバッファ層3が露出するまでエッチング加工を行って電極材料を蒸着した後、リフトオフすることによって形成される。n側電極16a、16bの電極材料は、例えば、Au、Pt、Ti、Ge、Zn、Ni、In、W、及び透明電極材料であるITOを用いることができる。
ここで、出射窓18を介して互いに反対側に位置するp側電極14aとn側電極16a、及びp側電極14bとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対と呼ぶものとする。また、出射窓18に対して同じ側に位置するp側電極14aとn側電極16b、及びp側電極14bとn側電極16aとを組み合わせて第2の電極対と呼ぶものとする。
また、p側電極14a、14bは、一例として、出射窓18を中心とする幅のある円環をp側電極の個数で分割した形状、すなわち、1/2に分割した形状を有している。また、n側電極16a、16bは、一例として、メサ構造体101を中心とする幅のある円環をn側電極の個数で分割した形状、すなわち、1/2に分割した形状を有している。
(高温時と低温時における電極の組み合わせについて)
以下に、高温時と低温時において、発効効率の低下を防ぐためのp側及びn側電極の組み合わせについて説明する。
以下に、高温時と低温時において、発効効率の低下を防ぐためのp側及びn側電極の組み合わせについて説明する。
図4(a)は、従来の半導体発光素子の温度別の電流I(mA)と光出力P(mW)の関係を示したグラフであり、(b)は、従来の半導体発光素子の温度(℃)としきい電流Ith(mA)の関係を示したグラフであり、図5(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の側面模式図であり、(b)は、活性領域における電流密度を示したグラフであり、(c)は、p側電極14aとn側電極16aの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフであり、(d)は、p側電極14bとn側電極16bの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフである。図4(a)は、半導体発光素子の温度が、−40℃、−20℃、20℃、85℃の各場合の電流Iと光出力Pの関係を示している。なお、図4(a)及び(b)における従来の半導体発光素子は、例えば、GaAs−AlGaAs系面発光型半導体レーザである。
しきい値電流Ithは、レーザ発振が発生し始める電流値であり、図4(a)に示すように、温度が低くなるにつれて大きくなる。言い換えるなら、半導体発光素子は、このしきい値電流Ith以上の電流が供給されないと、活性領域において光が発生しない。しきい値電流Ithは、一例として、図4(b)に示すように、温度20℃以下で急激に増加する。
また、駆動電流の電流経路は、半導体発光素子の温度の低下とともに横方向拡散長が狭くなる。従来の半導体発光素子は、出射窓に対して同じ側に位置するp側及びn側電極からなる電極対に駆動電流を供給するので、酸化領域と電流通過領域の境界付近を電流経路が通り、駆動電流が電流通過領域の中心部に流れ難くなる。従来の半導体発光素子は、電流通過領域の中心部に駆動電流が流れ難くなることで、電流密度が不均一になり、発光効率が低下する原因となっていた。
そこで、本実施の形態における半導体発光装置1の判定回路121は、一例として、しきい値122をしきい値電流Ithが急激に増加する温度20℃とし、このしきい値122以上の半導体発光素子100の温度を高温、しきい値122より低い温度を低温と判定するように構成されている。なお、しきい値122は、温度20℃に限定されず、半導体発光装置1の使用環境等に応じて自由に変更可能である。
そして、制御部120は、高温時と低温時でp側及びn側電極の組み合わせを変更し、例えば、低温時には、p側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対を構成する。半導体発光装置1は、図5(a)に模式的に示すように、電流経路が電流通過領域10の中心部付近を経由するので、図5(b)に示すように、電流狭窄径(Ox)における電流密度が均一となり、低温時の発光効率を向上させることができる。
(半導体発光装置の動作)
以下に本発明の第1の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
以下に本発明の第1の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
半導体発光装置1の制御部120は、温度測定部110から半導体発光素子100の温度を取得し、制御部120の判定回路121は、しきい値122に基づいて取得した温度の高低を判定する。
制御部120は、判定回路121の判定結果に基づいてスイッチ制御回路123、接続切換部140及びスイッチ141〜144を介して第1の電極対又は第2の電極対を選択的に構成する。
具体的には、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が高温度であったとき、スイッチ142及び144をオンにし、p側電極14aとn側電極16b、p側電極14bとn側電極16aから第2の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16bから構成される第2の電極対に駆動電流I/2を、p側電極14bとn側電極16aから構成される第2の電極対に駆動電流I/2を同時に供給することによって、活性領域8に供給される駆動電流は、Iとなる。なお、駆動電流は、p側電極14aとn側電極16b、p側電極14bとn側電極16aのうち、どちらか一方に供給されても良い。そのときの駆動電流は、Iとなる。
また、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が低温度であったとき、スイッチ141及び143をオンにし、p側電極14aとn側電極16a、及びp側電極14bとn側電極16bから第1の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、図5(c)に示すように、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16aから構成される第1の電極対に駆動電流Iを、図5(d)に示すように、p側電極14bとn側電極16bから構成される第1の電極対に駆動電流Iを周期的に供給する。周期的に供給することによって、活性領域8に供給される駆動電流は、Iとなる。なお、駆動電流は、p側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16bのうち、どちらか一方に供給されても良い。
[第2の実施の形態]
以下に本発明の第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の実施の形態に比べ、p側及びn側電極をさらに分割して組み合わせる点において異なっている。なお、以下の各実施の形態において、第1の実施の形態と同様の構成及び機能を有する部分については、共通の符号を付し、その説明は省略するものとする。
以下に本発明の第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の実施の形態に比べ、p側及びn側電極をさらに分割して組み合わせる点において異なっている。なお、以下の各実施の形態において、第1の実施の形態と同様の構成及び機能を有する部分については、共通の符号を付し、その説明は省略するものとする。
(半導体発光装置の構成)
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、図7(a)は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体発光素子の図6のVII(a)−VII(a)線における断面図であり、(b)は、半導体発光素子の図6のVII(b)−VII(b)線における断面図である。図6は、半導体発光素子100を上面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、図7(a)は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体発光素子の図6のVII(a)−VII(a)線における断面図であり、(b)は、半導体発光素子の図6のVII(b)−VII(b)線における断面図である。図6は、半導体発光素子100を上面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
本実施の形態における半導体発光装置1の半導体発光素子100は、図6に示すように、面方向に幅を有する円環形状を有し、p側電極14a〜14dと、幅のある円環形状を有し、n側電極16a〜16dと、を備えて概略構成されている。
このp側電極14a〜14dは、一例として、出射窓18を中心とする面方向に幅のある円環を1/4に分割した形状を有している。また、n側電極16a〜16dは、一例として、メサ構造体101を中心とする面方向に幅のある円環を1/4に分割した形状を有している。
ここで、図7(a)及び(b)に示すように、出射窓18を介して互いに反対側に位置するp側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16b、p側電極14cとn側電極16c、及びp側電極14dとn側電極16dとを組み合わせて第1の電極対と呼ぶものとする。第1の電極対は、図7(a)及び(b)に示す電流経路を形成する。
また、図6に示すように、出射窓18に対して同じ側に位置するp側電極14aとn側電極16d、p側電極14bとn側電極16c、p側電極14cとn側電極16b、及びp側電極14dとn側電極16aとを組み合わせて第2の電極対と呼ぶものとする。
接続切換部140は、一例として、上記の第1及び第2の電極対を構成することが可能な複数のスイッチから構成されているものとする。
駆動部130は、一例として、p側電極14a〜14dに接続され、それぞれ独立に駆動電力を供給するように構成されているものとする。
(半導体発光装置の動作)
以下に本発明の第2の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
以下に本発明の第2の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
図8(a)は、本発明の第2の実施の形態に係るp側電極14aとn側電極16aの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフであり、(b)は、p側電極14bとn側電極16bの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフであり、(c)は、p側電極14cとn側電極16cの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフであり、(d)は、p側電極14dとn側電極16dの電極対に供給される駆動電流と時間の関係を示したグラフである。
半導体発光装置1の制御部120は、温度測定部110から半導体発光素子100の温度を取得し、制御部120の判定回路121は、しきい値122に基づいて取得した温度の高低を判定する。
制御部120は、判定回路121の判定結果に基づいてスイッチ制御回路123、接続切換部140及びスイッチを介して第1の電極対又は第2の電極対を選択的に構成する。
具体的には、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が高温度であったとき、p側電極14aとn側電極16d、p側電極14bとn側電極16c、p側電極14cとn側電極16b、及びp側電極14dとn側電極16aとから第2の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16dからなる第2の電極対に駆動電流I/4を、p側電極14bとn側電極16cからなる第2の電極対に駆動電流I/4を、p側電極14cとn側電極16bからなる第2の電極対に駆動電流I/4を、p側電極14dとn側電極16aからなる第2の電極対に駆動電流I/4を、同時に供給する。同時に駆動電流を供給することによって、活性領域8に供給される駆動電流は、Iとなる。つまり、駆動部130は、選択された少なくとも1つの第2の電極対のそれぞれに供給される電流の合計が、駆動電流Iに等しくなるように供給する。なお、駆動電流は、この4つの第2の電極対のうち、少なくとも1つの第2の電極対に選択的に供給されても良い。このとき、駆動電流は、選択された第2の電極対の数をX(≧1の4までの整数)とすると、それぞれの電極対にI/Xずつ供給される。
また、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が低温度であったとき、p側電極14aとn側電極16a、p側電極14bとn側電極16b、p側電極14cとn側電極16c、及びp側電極14dとn側電極16dから第1の電極対を構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、図8(a)に示すように、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16aの電極対に駆動電流I、図8(b)に示すように、p側電極14bとn側電極16bの電極対に駆動電流I、図8(c)に示すように、駆動部130を介してp側電極14cとn側電極16cの電極対に駆動電流I、図8(d)に示すように、p側電極14dとn側電極16dの電極対に駆動電流Iを周期的に供給する。周期的に供給することによって、活性領域8に供給される駆動電流は、Iとなる。なお、駆動電流は、上記の電極対のうち、少なくとも1つの電極対に供給されても良い。
なお、本実施の形態における半導体発光素子100のp側及びn側電極は、4分割されたが、N(≧2の整数)分割されても良い。つまり、出射窓18を形成するp側電極がN分割され、メサ構造体101を囲むn側電極がN分割される。この半導体発光装置は、高温時には、一例として、駆動部を介して第2の電極対に対して同時に電流I/Nが供給され、低温時には、第1の電極対に対して周期的に電流Iが供給される。なお、駆動電流は、高温時には、少なくとも1つの第2の電極対に供給されても良く、低温時には、少なくとも1つの第1の電極対に供給されても良い。
[第3の実施の形態]
以下に本発明の第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1及び第2の実施の形態に比べ、n側電極が基板の裏側に設けられている点において異なっている。
以下に本発明の第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1及び第2の実施の形態に比べ、n側電極が基板の裏側に設けられている点において異なっている。
(半導体発光装置の構成)
図9(a)は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、(b)は、半導体発光素子の裏面模式図であり、図10(a)及び(b)は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体発光素子の図9(a)のX−X線における断面図である。図9(a)、(b)は、半導体発光素子100を上面及び裏面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
図9(a)は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、(b)は、半導体発光素子の裏面模式図であり、図10(a)及び(b)は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体発光素子の図9(a)のX−X線における断面図である。図9(a)、(b)は、半導体発光素子100を上面及び裏面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
本実施の形態における半導体発光装置1の半導体発光素子100は、図9(a)に示すように、光が出射する出射窓18を形成し、面方向に幅を有する円環形状のp側電極14eと、図9(b)に示すように、基板2の裏側に設けられ、基板2に垂直で、かつ、出射窓18の中心を通る軸を中心として、面方向に幅を有する円環形状の第1のn側電極16aと、第1のn側電極16aの中心部分に円形状を有して形成された第2のn側電極16bと、を備えて概略構成されている。
ここで、図10(b)に示すように、p側電極14eとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対と呼ぶものとする。第1の電極対は、図10(b)に示す電流経路(第1の電流経路)を形成する。
また、図10(a)に示すように、p側電極14eとn側電極16aとを組み合わせて第2の電極対と呼ぶものとする。第2の電極対は、図10(a)に示す電流経路(第2の電流経路)を形成する。
(半導体発光装置の動作)
以下に本発明の第3の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
以下に本発明の第3の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
半導体発光装置1の制御部120は、温度測定部110から半導体発光素子100の温度を取得し、制御部120の判定回路121は、しきい値122に基づいて取得した温度の高低を判定する。
制御部120は、判定回路121の判定結果に基づいてスイッチ制御回路123、接続切換部140及びスイッチを介して第1の電極対又は第2の電極対を選択的に構成する。
具体的には、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が高温度であったとき、図10(a)に示すように、p側電極14eとn側電極16aから第2の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16bから構成される第2の電極対に駆動電流Iを供給する。
また、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が低温度であったとき、図10(b)に示すように、p側電極14eとn側電極16bから第1の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14eとn側電極16bから構成される第1の電極対に駆動電流Iを供給する。
なお、本実施の形態における半導体発光素子100は、メサ構造体101を有するが、これに限定されず、メサ構造体101を持たない円柱形状等の面発光型半導体レーザであっても良い。
[第4の実施の形態]
以下に本発明の第4の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1〜第3の実施の形態に比べ、n側電極が基板の上面及び裏面に設けられている点において異なっている。
以下に本発明の第4の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1〜第3の実施の形態に比べ、n側電極が基板の上面及び裏面に設けられている点において異なっている。
(半導体発光装置の構成)
図11(a)は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、(b)は、半導体発光素子の裏面模式図であり、図12(a)及び(b)は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体発光素子の図11(a)のXII−XII線における断面図である。図11(a)及び(b)は、半導体発光素子を上面及び裏面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
図11(a)は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体発光素子の上面模式図であり、(b)は、半導体発光素子の裏面模式図であり、図12(a)及び(b)は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体発光素子の図11(a)のXII−XII線における断面図である。図11(a)及び(b)は、半導体発光素子を上面及び裏面から見た場合のp側及びn側電極の配置を模式的に示す図である。
本実施の形態における半導体発光装置1の半導体発光素子100は、図11(a)に示すように、光が出射する出射窓18を形成し、面方向に幅を有する円環形状のp側電極14eと、メサ構造体101を囲むように基板2上に設けられたn側電極16aと、図11(b)に示すように、基板2の裏面に設けられ、基板2に垂直で、かつ、出射窓18の中心を通る軸を中心として、面方向に幅を有する円環形状のn側電極16bと、を備えて概略構成されている。
ここで、図12(b)に示すように、p側電極14eとn側電極16bとを組み合わせて第1の電極対と呼ぶものとする。第1の電極対は、図12(b)に示す電流経路(第1の電流経路)を形成する。
また、図12(a)に示すように、p側電極14eとn側電極16aとを組み合わせて第2の電極対と呼ぶものとする。第2の電極対は、図12(a)に示す電流経路(第2の電流経路)を形成する。
(半導体発光装置の動作)
以下に本発明の第4の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
以下に本発明の第4の実施の形態における半導体発光装置の動作について各図を参照しながら説明する。
半導体発光装置1の制御部120は、温度測定部110から半導体発光素子100の温度を取得し、制御部120の判定回路121は、しきい値122に基づいて取得した温度の高低を判定する。
制御部120は、判定回路121の判定結果に基づいてスイッチ制御回路123、接続切換部140及びスイッチを介して第1の電極対又は第2の電極対を選択的に構成する。
具体的には、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が高温度であったとき、図12(a)に示すように、p側電極14eとn側電極16aから第2の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14aとn側電極16bから構成される第2の電極対に駆動電流Iを供給する。
また、制御部120のスイッチ制御回路123は、判定回路121の判定結果が低温度であったとき、図12(b)に示すように、p側電極14eとn側電極16bから第1の電極対を選択的に構成する。
制御部120は、半導体発光素子100に供給する駆動電流をIとするとき、駆動部130を介してp側電極14eとn側電極16bから構成される第1の電極対に駆動電流Iを供給する。
なお、本発明は、上記した実施の形態に限定されず、本発明の技術思想を逸脱あるいは変更しない範囲内で種々の変形及び組み合わせが可能である。
なお、上記の各実施の形態におけるp側及びn側電極の形状は、上記に限定されず、自由に変更可能である。
また、上記の各実施の形態における半導体発光素子において、p側電極とn側電極の極性を入れ替えても良い。このとき、半導体発光素子において、バッファ層、下部DBR層、上部DBR層及びコンタクト層の極性も入れ替えなければならない。
1…半導体発光装置、2…基板、3…バッファ層、4…下部DBR第、5…下部スペーサ層、6…量子井戸層、7…上部スペーサ層、8…活性領域、9…酸化領域、10…電流通過領域、11…電流狭窄層、12…上部DBR層、13…コンタクト層、14a〜14e…p側電極、15…層間絶縁膜、16a〜16d…n側電極、17…コンタクトホール、18…出射窓、100…半導体発光素子、101…メサ構造体、110…温度測定部、120…制御部、121…判定回路、122…しきい値、123…スイッチ制御回路、130…駆動部、140…接続切換部、141〜144…スイッチ、I…駆動電流、Ith…しきい値電流、Ox…電流狭窄径
Claims (9)
- 光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極との間に、電流狭窄層の電流通過領域を通る電流経路を形成可能な位置に設けられた複数の第2の電極と、
を具備する半導体発光素子と、
前記第1の電極と前記複数の第2の電極とに前記半導体発光素子の駆動電流を選択的に供給する駆動部と、
を備えた半導体発光装置。 - 第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層されたメサ構造体を有する半導体基板と、
前記上部多層膜反射層上に、前記活性領域で発生した光が出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられたN個(N≧2の整数)の第1の電極と、
前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域が形成された電流狭窄層と、
前記半導体基板上の前記メサ構造体の周囲に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る電流経路を形成する、前記第1の電極と同数のN個の第2の電極と、
を具備する半導体発光素子と、
前記出射窓を介して互いに反対側に位置する前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記出射窓に対して同じ側に位置する前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第2の電極対とを構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、
を備えた半導体発光装置。 - 前記第1の電極対と前記第2の電極対の接続を切り換える複数のスイッチを有する接続切換部と、
前記半導体発光素子の温度がしきい値以上なら高温度、前記しきい値よりも低いなら低温度と判定を行う判定回路と、前記判定回路による判定結果に基づいて前記複数のスイッチの制御を行うスイッチ制御回路と、を具備する制御部と、
を備えた請求項2に記載の半導体発光装置。 - 前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第1の電極対から1つの前記第1の電極対を選択して接続を切り換え、
前記駆動部は、選択された1つの前記第1の電極対に前記駆動電流を供給する請求項3に記載の半導体発光装置。 - 前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して複数の前記第1の電極対を選択して接続を切り換え、
前記駆動部は、選択された複数の前記第1の電極対のそれぞれに周期的に前記駆動電流を供給する請求項3に記載の半導体発光装置。 - 前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記高温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して少なくとも1つの前記第2の電極対を選択して接続を切り換え、
前記駆動部は、選択された少なくとも1つの前記第2の電極対のそれぞれに供給される電流の合計が前記駆動電流に等しくなるように供給する請求項3に記載の半導体発光装置。 - 第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層された半導体基板と、
前記上部多層膜反射層上に形成され、光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、
前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域を有する電流狭窄層と、
前記射出窓に対向する前記半導体基板裏に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第1の電流経路を形成する第2の電極と、
前記半導体基板裏の前記第2の電極の周囲に間隔を有して形成され、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第2の電流経路を形成する第3の電極と、
を具備する半導体発光素子と、
前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記第1の電極と前記第3の電極とを組み合わせた第2の電極対と、を構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、
を備えた半導体発光装置。 - 第1導電型の下部多層膜反射層、活性領域、及び第2導電型の上部多層膜反射層が順次積層されたメサ構造体を有する半導体基板と、
前記上部多層膜反射層上に形成され、光を出射する出射窓を形成するように前記出射窓の周囲に設けられた第1の電極と、
前記上部多層膜反射層及び前記下部多層膜反射層との間に設けられ、電流通過領域を有する電流狭窄層と、
前記射出窓に対向する前記半導体基板裏に設けられ、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第1の電流経路を形成する第2の電極と、
前記半導体基板上の前記メサ構造体の周囲に形成され、前記第1の電極との間に、前記電流狭窄層の前記電流通過領域を通る第2の電流経路を形成する第3の電極と、
を具備する半導体発光素子と、
前記第1の電極と前記第2の電極とを組み合わせた第1の電極対と、前記第1の電極と前記第3の電極とを組み合わせた第2の電極対と、を構成し、前記第1の電極対又は前記第2の電極対に対して選択的に前記半導体発光素子の駆動電流を供給する駆動部と、
を備えた半導体発光装置。 - 前記第1の電極対と前記第2の電極対の接続を切り換える複数のスイッチを有する接続切換部と、
前記半導体発光素子の温度がしきい値以上なら高温度、前記しきい値よりも低いなら低温度と判定を行う判定回路と、前記判定回路による判定結果に基づいて前記複数のスイッチの制御を行うスイッチ制御回路と、を具備する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記判定回路による判定結果が前記低温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第1の電極対に接続を切り換え、前記判定回路による判定結果が前記高温度のとき、前記スイッチ制御回路、前記スイッチ接続回路及び前記複数のスイッチを介して前記第2の電極対に接続を切り換える請求項7又は8に記載の半導体発光装置。
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