JP2010197686A - 光デバイス及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】受発光部1aを有する光半導体素子1と、出入射部2aを有する光伝送路2と、光半導体素子1が第1の位置41に固定されるとともに、光伝送路2が第1の位置41から離間した第2の位置42に固定される平面板4とを備える光デバイスであって、第1の位置41と第2の位置42との距離Dが平面板4の熱膨張及び熱収縮によって変化することにより、受発光部1aに対する出入射部2aの相対位置が変化し、その相対位置変化によって、光半導体素子1の受発光部1aと光伝送路2の出入射部2aとの光結合効率が、使用温度範囲内の高温側において高く、かつ低温側において低くなるように、光半導体素子1と光伝送路2とが光結合されている。
【選択図】図1
Description
このようなレーザダイオードとしては、面発光レーザがよく使用されている。面発光レーザは、端面発光レーザより広い温度範囲で動作可能である。しかし、面発光レーザは、高温でも動作可能とはいえ、低温時と高温時の出力差が大きく、高温時には低温時の半分程度の出力となってしまう。このため、面発光レーザを送信側に用いた光伝送路の受信側において受信される信号の標準を設計するにあたり、標準値を高く設定すると高温時の面発光レーザの小さい出力に反応せず、標準値を低く設定すると低温時の面発光レーザの大きい出力に対し飽和してしまう、という問題があった。
例えば特許文献4には、導波路基板を同一材料の金属板、またはセラミック板等の同一の熱膨張係数を有する二つの部材により挾持して固定し、導波路基板の熱変形による撓みを防止することにより、発光素子と導波路間の光軸ずれが防止され、光出力の温度変動が低減される導波路型光モジュールが記載されている。
また、上記特許文献1には、(1)レーザ素子搭載部材の線膨張係数が、光ファイバ固定手段が搭載される固定手段搭載部材の線膨張係数と、サーモモジュールのベース側板材の線膨張係数との間の値となることにより、ベースの撓みを緩和して、温度変化に起因した半導体レーザ素子と光ファイバとの光結合効率低下を抑制すること、及び(2)サーモモジュールのベース側板材および底板側板材の線膨張係数とパッケージ底板の線膨張係数との差が1×10−6/K以下であることにより、パッケージの反りを防止でき、フォトダイオードによるモニター量変動も抑制できることが記載されている。
しかしながら、複数の部材の線膨張係数を適切に組み合わせると、材料の選択が難しくなり、部材費が高価となる問題があった。
前記平面板が真鍮からなることが好ましい。
前記平面板は、応力緩衝材を介して基板に固定されていることが好ましい。
前記光伝送路は、その光軸が前記光半導体素子の光軸に対して略垂直に交差するように設置され、前記光半導体素子の受発光部と前記光伝送路の出入射部との間が、伝送される光に対して透明な樹脂からなる光結合部によって光結合され、前記光結合部は、前記受発光部に対する前記出入射部の相対位置の変化に追従して変形可能であることが好ましい。
前記第1の位置と前記第2の位置との距離が5mm以内であることが好ましい。
この製造方法において、前記所定の温度が50〜300℃の範囲内であることが好ましい。
この製造方法において、前記所定の距離は、5〜15μmの範囲内であることが好ましい。
図1に本発明の光デバイスの第1形態例を示す。本形態例の光デバイスは、受発光部1aを有する光半導体素子1と、出入射部2aを有する光伝送路2と、光半導体素子1が第1の位置41に固定されるとともに、光伝送路2が第1の位置41から離間した第2の位置42に固定される平面板4とを備えている。
発光素子としては、発光ダイオード(LED)、レーザダイオード(LD)、面発光レーザ(VCSEL:vertical−cavity surface−emitting laser)等が挙げられる。
受光素子としては、フォトダイオード(PD)等が挙げられる。
また、光半導体素子1が受光素子である場合には、光半導体素子1と光伝送路2間の光結合効率を、使用環境温度に応じて変化させることにより、光伝送路2から光半導体素子1に入射される光パワーの温度依存性を低減することができる。
すなわち、光半導体素子1が平面板4に固定される第1の位置41と、光伝送路2が平面板4に固定される第2の位置42との距離Dは、平面板4の熱膨張及び熱収縮によって変化する。また、距離Dの変化に対応して、受発光部1aに対する出入射部2aの相対位置が変化するように、光半導体素子1及び光伝送路2は、それぞれ第1の位置41及び第2の位置42に対して、直接固定され、もしくは相対位置変化に実質的な影響を及ぼさない適宜の固定部材を介して固定されている。
なお、第1の位置41、第2の位置42及び距離Dの基準は特に限定されるものではないが、それぞれ、光半導体素子1が平面板4に固定された部位の中心位置、光伝送路固定部43が平面板4に固定された部位の中心位置、及び両中心位置間の距離としても良い。
平面板4の大きさは、所望の距離Dが確保できる寸法であれば良いが、光デバイスの小型化の要求に応じて、1.5cm以内とすることが好ましい。
基板5には、例えは、ガラスエポキシ基板、セラミック基板など、一般的な各種絶縁基板を使用することができる。ワイヤ配線7としては、例えば、金(Au)ワイヤ、アルミ(Al)ワイヤ、銅(Cu)ワイヤなどが挙げられる。
本形態例の場合、光伝送路2は、その光軸2bが光半導体素子1の光軸1bに対して交差するように設置され、光半導体素子1の受発光部1aと光伝送路2の出入射部2aとの間が、伝送される光に対して透明な樹脂からなる光結合部3によって光結合されている。光半導体素子1および光伝送路2の光軸1b,2bが互いに垂直(または略垂直)に配置されることが好ましい。
ここでいう透明樹脂とは、光半導体素子1と光伝送路2との間を伝送する光を透過させることが可能なものを指している。従って、必ずしも可視光下で無色透明な色調のものに限定されるものではない。透明樹脂としては、例えば、UV硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などを用いることができる。透明樹脂の具体例としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
また、光半導体素子1が発光素子の場合には、光半導体素子1から光結合部3に入射した光は、光結合部3を構成する透明樹脂と空気(外気)との界面3aとの屈折率差により反射されて光伝送路2に入射する。
光結合部3の外面3aが空気との界面を形成しており、光結合部3を構成する透明樹脂は、光伝送路2の光軸2bと光半導体素子1の光軸1bとが交差する交点Pの位置には存在せず、光結合部3の外面3a(光結合部3と空気との界面)が、光半導体素子1の受発光部1aまたは光伝送路2の端部2aの側に凹んだ形状となっている。
(1)受発光部1aに対向する位置Aが受発光部1a側に凹んだ形状の凹面部11、
(2)光伝送路2の端部2aに対向する位置Bが光伝送路2の端部2a側に凹んだ形状の凹面部12、
(3)受発光部1aに対向する位置Aと光伝送路2の端部2aに対向する位置Bとの間が凹んだ形状の凹面部13、
の少なくともいずれかが形成されてなることを特徴とする。
また、(2)の光伝送路2側の凹面部12は、例えば、光伝送路2の光軸2bが樹脂の外面3aと交差する位置Bの近傍において、樹脂の外面3aが樹脂側に凹となる凹面を形成していれば良い。
また、(3)の中間部の凹面部13は、例えば、光半導体素子1の光軸1bが樹脂の外面3aと交差する位置Aと、光伝送路2の光軸2bが樹脂の外面3aと交差する位置Bとの間を結ぶ線分ABがA−B間で樹脂の外側(空気側)を通り、樹脂の外面3aが凹となる凹面を形成していれば良い。
(1)受発光部1aに対向する位置Aが受発光部1a側に凹んだ形状の凹面部11は、樹脂の内側から見ると凸面となっているので、光伝送路2から出射後に光結合部3内で進行方向が拡散した光を、光半導体素子1の受発光部1aに向かうように反射させることができる。
(2)光伝送路2の端部2aに対向する位置Bが光伝送路2の端部2a側に凹んだ形状の凹面部12は、樹脂の内側から見ると凸面となっているので、光伝送路2から出射した光の進行方向を拡散して、その光の少なくとも一部が光半導体素子1の受発光部1aに向かうように反射することができる。
(3)受発光部1aに対向する位置Aと光伝送路2の端部2aに対向する位置Bとの間が凹んだ形状の凹面部13は、光伝送路2から出射した光が光結合部3内で反射・透過する光路の断面積を狭くすることにより、光半導体素子1に入射する結合効率を向上し、損失を低減することができる。
(1)受発光部1aに対向する位置Aが受発光部1a側に凹んだ形状の凹面部11は、樹脂の内側から見ると凸面となっているので、受発光部1aから出射した光の進行方向を拡散して、その光の少なくとも一部が光伝送路2の端部2aに向かうように反射することができる。
(2)光伝送路2の端部2aに対向する位置Bが光伝送路2の端部2a側に凹んだ形状の凹面部12は、樹脂の内側から見ると凸面となっているので、受発光部1aから出射後に光結合部3内で進行方向が拡散した光を、光伝送路2の端部2aに向かうように反射させることができる。
(3)受発光部1aに対向する位置Aと光伝送路2の端部2aに対向する位置Bとの間が凹んだ形状の凹面部13は、光半導体素子1から出射した光が光結合部3内で反射・透過する光路の断面積を狭くすることにより、光伝送路2に入射する結合効率を向上し、損失を低減することができる。
ここでいう単一の透明樹脂とは、成分(組成)が均一(単一)、特定の波長の光に対する透過率が均一、物理的に2層以上ではない(界面がない)など、いずれの意味も包含するものである。
第1の方法によれば、平面板4が熱膨張している間に光結合部3を作製し、光半導体素子1と光伝送路2とを調心する(両者が光結合するように位置を調整する)ので、使用温度範囲内の高温側で光結合効率が高くなるように調心することが容易になる。また、平面板4が熱収縮して光伝送路2の端部2aが光半導体素子1に接近する方向に変位すると、光結合部3の反射ミラーとなる界面3aの形状が変化し、光結合効率が正の温度特性を持ち、発光素子の負の温度特性を相殺することができる。
調心および平面板4上に光伝送路2を固定する作業を行う温度は、光結合効率の位置依存性と、前記距離Dと、平面板4の線膨張係数により最適温度を設定することが可能である。あらかじめ最適温度を調べておけば、光半導体素子1に透明樹脂31を塗布し、この透明樹脂31に光伝送路2の端部2aを差し込んで光結合部3を形成し、パッシブ調心によって光半導体素子1と光伝送路2とを調心し、光伝送路2を平面板4に固定するまでの一連の作業を自動化することも可能である。
ここで、調心後に光伝送路2の位置をずらす移動量(長さ)は、使用温度範囲内の高温側において光結合効率が高くなるように決定する。移動量は、図5に示すように、光半導体素子1を固定した平面板4上に、光伝送路固定部44を介して光伝送路2を固定したものを用意し、平面板4を実際に昇温させて、低温時の位置Lと高温時の位置Hとの変位量を測定する方法、あるいはテストモデルで求めておく方法等により定めることができる。このようにして、高温での光軸調整を模擬し、光伝送路2の調心固定の工程を簡易にすることができる。
一例として、平面板4が線膨張係数19×10−6/Kの真鍮からなる場合、調心後に光伝送路2の位置をずらす所定の距離は、5〜15μmの範囲内であることが好ましい。
例えば、図6の上面図に示すように、ペルチェ素子を用いることなく、14本の電極ピン10を有するバタフライパッケージ9などにも適用することが可能である。
例えば、図7に示すように、光伝送路2の出入射部2aが光半導体素子1の受発光部1aに対して真っ直ぐ向かうように配置し、両者の光軸が同軸上に位置するように配置しても良い。図7に示す例では、光半導体素子1は、素子固定部101を介して平面板4の第1の位置41に固定され、光伝送路2は、光伝送路固定部102を介して平面板4の第2の位置42に固定されている。第1の位置41と第2の位置42との距離Dは、平面板4の熱膨張及び熱収縮によって変化し、受発光部1aに対する出入射部2aの距離の変化に応じて、光半導体素子1と光伝送路2との光結合効率が変化するようになっている。
図7及び図8に示す構成によっても、光半導体素子1の受発光部1aに対する光伝送路2の出入射部2aの相対位置を変化させ、その相対位置変化によって、光半導体素子1の受発光部1aと光伝送路2の出入射部2aとの光結合効率が、使用温度範囲内の高温側において高く、かつ低温側において低くなるように、光結合効率を変化させ、光半導体素子1の出力の温度依存性を相殺することができる。
図1〜4に示すように、光伝送路2としてクラッド径が125μm、コア径が50μmの石英系マルチモード光ファイバを用意し、光半導体素子1にはVCSEL(発光部の開口径は15μm)を、透明樹脂31にはUV硬化樹脂(アクリル系樹脂)を、基板5にはガラスエポキシ基板を、ワイヤ配線7には金ワイヤを用い、光伝送路固定部43にはUV硬化樹脂を、応力緩衝材8にはUV硬化樹脂を用いた。この実施例で用いたVCSELの温度特性を図9に示す。
なお、線膨張係数5×10−6/Kから520×10−6/Kの範囲内で、平面板の材質と距離Dとの組み合わせは、銅を用いた場合はD=4.5mm、亜鉛を用いた場合はD=2.26mm、ハフニウムを用いた場合はD=0.144mm等が挙げられる。
Claims (10)
- 受発光部を有する光半導体素子と、出入射部を有する光伝送路と、前記光半導体素子が第1の位置に固定されるとともに、前記光伝送路が前記第1の位置から離間した第2の位置に固定される平面板とを備える光デバイスであって、
前記第1の位置と前記第2の位置との距離が前記平面板の熱膨張及び熱収縮によって変化することにより、前記受発光部に対する前記出入射部の相対位置が変化し、その相対位置変化によって、前記光半導体素子の受発光部と前記光伝送路の出入射部との光結合効率が、使用温度範囲内の高温側において高く、かつ低温側において低くなるように、前記光半導体素子と前記光伝送路とが光結合されていることを特徴とする光デバイス。 - 前記平面板は、線膨張係数が5×10−6/Kないし520×10−6/Kの範囲内にある材料からなることを特徴とする請求項1に記載の光デバイス。
- 前記平面板が真鍮からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の光デバイス。
- 前記平面板は、応力緩衝材を介して基板に固定されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光デバイス。
- 前記光伝送路は、その光軸が前記光半導体素子の光軸に対して略垂直に交差するように設置され、前記光半導体素子の受発光部と前記光伝送路の出入射部との間が、伝送される光に対して透明な樹脂からなる光結合部によって光結合され、前記光結合部は、前記受発光部に対する前記出入射部の相対位置の変化に追従して変形可能であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光デバイス。
- 前記第1の位置と前記第2の位置との距離が5mm以内であることを特徴とする請求項5に記載の光デバイス。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光デバイスの製造方法であって、
前記平面板を室温以上の所定の温度に加熱した状態で前記光半導体素子と前記光伝送路とが光結合するように調心した後、前記光伝送路を前記平面板の前記第2の位置に固定する工程を有することを特徴とする光デバイスの製造方法。 - 前記所定の温度が50〜300℃の範囲内であることを特徴とする請求項7に記載の光デバイスの製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光デバイスの製造方法であって、
前記光半導体素子と前記光伝送路とが光結合するように調心した後、前記光伝送路を所定の距離だけ位置をずらしてから前記平面板の前記第2の位置に固定する工程を有することを特徴とする光デバイスの製造方法。 - 前記所定の距離は、5〜15μmの範囲内であることを特徴とする請求項9に記載の光デバイスの製造方法。
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