JP2010183854A - ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010183854A JP2010183854A JP2009028815A JP2009028815A JP2010183854A JP 2010183854 A JP2010183854 A JP 2010183854A JP 2009028815 A JP2009028815 A JP 2009028815A JP 2009028815 A JP2009028815 A JP 2009028815A JP 2010183854 A JP2010183854 A JP 2010183854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boronated
- general formula
- group
- tryptophan derivative
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
Abstract
【解決手段】一般式(A):
(R1、R2は、同一または異なっていてもよい、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、または、当該アルキル基が結合したアルキレン基を示し、R3は、水素原子またはR13−(O)n−CO−基(但し、R13は炭素数1〜8のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基、nは1または0)を示し、R4は、水素原子またはR14−(O)m−CO−基(但し、R14は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基、mは1または0)を示し、R5は、水素原子または炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示す。)で表される、ホウ素化トリプトファン誘導体。
【選択図】なし
Description
(式中、R1、R2は、同一または異なっていてもよい、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、または、当該アルキル基が結合したアルキレン基を示し、R3は、水素原子またはR13−(O)n−CO−基(但し、R13は炭素数1〜8のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、nは1または0である。)を示し、R4は、水素原子またはR14−(O)m−CO−基(但し、R14は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1または0である。)を示し、R5は、水素原子または炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示す。)で表される、ホウ素化トリプトファン誘導体、に関する。
で表される、ホウ素化トリプトファン誘導体、に関する。
で表される、L体のホウ素化トリプトファン誘導体、に関する。
(式中、R11、R12は、同一または異なっていてもよい、炭素数1〜8のアルキル基、または、当該アルキル基が結合したアルキレン基を示す)で表される、ホウ素化インドール誘導体(1)を、ホルミル化して、
一般式(2):
(式中、R11、R12は、上記と同じ)で表される化合物(2)に導く工程(A)、
次いで、上記化合物(2)のN原子を、
一般式(3´):R13−(O)n−CO−X(式中、R13は炭素数1〜8のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、nは1または0であり、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物(3´)により保護して、
一般式(3):
(式中、R11、R12、R13は上記と同じ)で表される化合物(3)に導く工程(B)、
次いで、上記化合物(3)と、
一般式(4):
(式中、R14はR14−(O)m−CO−基(但し、R14は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1または0である。)を示し、R15は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、R6は炭素数1〜12の炭化水素を示す。)で表される化合物(4)を、Horner−Emmons反応により反応させて、
一般式(5):
(式中、R11、R12、R13、R14、R15は上記と同じ)で表される化合物(5)に導く工程(C)、
次いで、上記化合物(5)のα,β−不飽和エステルに係る炭素−炭素二重結合のみを水素化して、
一般式(A1):
(式中、R11、R12、R13、R14、R15は上記と同じ)で表される化合物(A1)に導く工程(D)、を有するホウ素化トリプトファン誘導体の製造方法、に関する。
さらに、ホウ素化トリプトファン誘導体(A1)のホウ酸の保護基を加水分解により除去して、
一般式(A2):
(式中、R13、R14、R15は上記と同じ)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A2)に導く工程(E)、
次いで、ホウ素化トリプトファン誘導体(A2)中のN原子の保護基R13およびR14並びにエステル基を形成するR15を、還元により除去して、請求項2記載の一般式(A0)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A0)に導く工程(F)、を有するホウ素化トリプトファン誘導体の製造方法、に関する。
で表される、DBT、である。また、そのL体は、前記一般式(A0´):
一般式(A0´):
で表される。
で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A1)に対応する。即ち、前記一般式(A1)における、R11、R12、R13、R14およびR15は、水素原子を含まないこと以外は、一般式(A)におけるR1、R2、R3、R4およびR5に対応している。
(式中、R11、R12は、前記の通り)で表される、ホウ素化インドール誘導体(1)を用いる。当該ホウ素化インドール誘導体(1)は、市販品を入手可能である。なお、R11、R12は、ホウ酸の保護基として機能し、かつ最終的な除去し易さを考慮すれば、例えば、
R11、R12は、1,1,2,2−テトラメチルエチレン基(ピナコールによりホウ酸を保護した場合の残基)、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基等のアルキレン基を用いることが好ましい。
一般式(2):
(式中、R11、R12は上記と同じ)で表される化合物(2)に導く。
一般式(3´):R13−(O)n−CO−X(式中、R13は前記の通り、nは1または0であり、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物(3´)により保護して、
一般式(3):
(式中、R11、R12、R13は上記と同じ)で表される化合物(3)に導く。
一般式(4):
(式中、R14、R15上記と同じ、R6は炭素数1〜12の炭化水素を示す。)で表される化合物(4)を、Horner−Emmons反応により反応させて、
一般式(5):
(式中、R11、R12、R13、R14、R15は上記と同じ)で表される化合物(5)に導く。
一般式(A2):
(式中、R13、R14、R15は上記と同じ)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A2)に導く。
(式中、R15は上記と同じ)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A3)が得られる場合がある。得られるホウ素化トリプトファン誘導体(A3)は、上記ホウ素化トリプトファン誘導体(A)に含まれる化合物である。以下、ホウ素化トリプトファン誘導体(A2)から、ホウ素化トリプトファン誘導体(A3)が得られる場合を水素化還元工程(F11)という。
・NMRスペクトル:日本電子 JMTC−400/54/SS 400 MHz(日本電子社製)。特に明記しない限り、内部標準としてTMSを用いた。また、下記ケミカルシフトはδ値で示した。
・カラムクロマトグラフィー用シリカゲル:BW−200(富士シリシア社製)。
・融点:BUCHI Melting point B-545を用いて測定した。
・IR:JASCO FT/IR-460 plusを用いて測定した。
ホウ素化インドール誘導体(1)として、アルドリッチ社製の5-(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)インドールを購入して使用した。
200ml容ナスフラスコに無水ジメチルホルムアミド(DMF;12.38g,169mmol)と5-(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)インドール(5.0g,20.6mmol)を入れ溶解するまで攪拌した。その後、氷浴で攪拌しながら、ピロホスホリル テトラクロリド(P2O3Cl4;6.27g、24.9mmol)を滴下し、氷浴中で冷却しながら30分間攪拌した。次いで、40℃で1時間攪拌した後、氷浴中で冷却しながら水酸化ナトリウム水溶液(2M)を、pHが7になるまで加え、その後1時間還流を行った。TLCで原料消失を確認後、沈殿物として褐色結晶の化合物(2):(5.15g、収率92%)を得た。
融点は203.2℃であった。
1H-NMR (CDCl3); 1.36 (12H, s, 4CH3), 7.44 (1H, d, J=4.4 Hz, NCCH), 7.75 (1H, d, J=4.4 Hz, BCCH), 7.90 (1H, s, BCCH), 8.81 (1H, s, NHCH), 9.46 (1H, s, NH), 10.1 (1H, s, CHO)
13C-NMR (CDCl3); 24.9, 83.7, 111.1, 119.6, 124.1, 129.1, 130.4, 138.8, 185.3
500ml容ナスフラスコに、上記で得られた化合物(2)(5.0g,18.4mmol)と酢酸エチル(300ml)を入れ、化合物(2)が溶解するまで攪拌した。その後、氷浴で冷却しながら、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(5.81g, 47.5mmol)を加え、ここにカルボベンジルオキシクロリド(Z-Cl;7.84g、46.0mmol)を滴下して一晩攪拌した。反応液に水を加えて水洗し、有機層を芒硝で乾燥した後、減圧濃縮して、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)より精製して白色結晶の化合物(3):(7.4g, 収率99%)を得た。
IR (KBr):vmax=3182, 2977, 2924, 1642
融点は161.6℃であった。
1H-NMR (CDCl3); 1.26 (12H, s, 4CH3), 5.36 (2H, s, CH2), 7.15-7.39 (5H, m, ArH), 7.74 (1H, d, J=8.0 Hz, NCCH), 8.04 (1H, d, J=8.4 Hz, BCCH), 8.09 (1H, s, BCCH), 8.64 (1H, s, NH), 9.96 (1H, s, CHO)
13C-NMR (CDCl3); 24.8, 69.6, 69.7, 83.8, 114.3, 122.2, 125.5, 126.8, 128.2, 128.4, 128.4, 128.5, 128.7, 128.8, 129.0, 129.0, 129.0, 132.5, 134.1, 135.0, 135.8, 137.8, 149.8, 185.4
100ml容ナスフラスコに無水THF(20ml)と上記化合物(4a)(3.2g,9.6mmol)、DBU(1.44ml,8.86mmol)を入れ、室温で10分間攪拌した後、上記化合物(3)(2.99g,7.38mmol)を無水THF(20ml)に溶かし、少しずつ滴下し、室温になるまで1時間程攪拌した。TLCで原料の消失を確認した後、溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を蒸留水及び飽和食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、減圧して黄色油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)により精製し、無色の油状の化合物(5a)(3.02g,収率67%)を得た。
1H-NMR (CDCl3); 1.38 (12H, s, 4CH3), 3.85 (3H, s, CO2CH 3 ), 5.08 (2H, s, NCO2CH 2 ), 5.43 (2H, s, NHCO2CH 2 ), 6.37 (1H, br, NH), 7.28-7.46 (10H, m, 10ArH), 7.72 (1H, s, BCCH), 7.82 (1H, d, J=7.6 Hz, NCCH), 7.95 (1H, BCCH), 8.18 (1H, s, NHCCH)
13C-NMR (CDCl3);24.9, 52.6, 67.5, 69.2, 83.9, 114.6, 125.9, 128.1, 128.2, 128.4, 128.5, 128.8, 128.8, 131.8, 134.6, 165.4
無色油状物であり、収率25 %であった。
1H-NMR (CDCl3); 1H-NMR (CDCl3); 1.37 (12H, s, 4CH 3), 1.54 (9H, s, C{CH 3}3), 5.07 (2H, s, CHHAr), 5.43 (2H, s, CHHAr), 7.15-7.60 (10H, m, CH2ArH), 7.81 (1H, d, J= 8.5 Hz, ArH), 7.92 (1H, s, ArH), 8.1-8.2 (2H, m, ArH)
無色油状物であり、収率45 %であった。
1H-NMR (CDCl3); 1H-NMR (CDCl3); 1.37 (12H, s, 4CH 3), 3.81 (3H, s, OCH 3), 5.05 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.22 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.43 (2H, s, CO2CH 2Ar), 6.90 (2H, d, J= 8.8 Hz, ArH{OCH3}), 7.18-7.72 (12H, m, ArH), 7.81 (1H, d, J= 8.8 Hz, ArH), 7.94 (1H, s, ArH), 8.13-8.20 (2H, m, ArH)
中圧水添用の反応容器中で上記化合物(5a)(1.87g,3.06mmol)をメタノール(15ml)に溶解し、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I):ウィルキンソン触媒(0.17g,0.18mmol)を加え、水素気流(4気圧)下、室温で一晩攪拌した。TLCで二重結合の還元を確認した後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により精製し、無色の油状のホウ素化トリプトファン誘導体(A1a)(1.68g,収率90%)を得た。
1H-NMR (DMSO); 1.29 (12H, s, 4CH 3), 3.03 (1H, dd, J= 14.8, 10.0 Hz, CHHAr, 3.17, (1H, dd, J= 14.4, 4.8 Hz, CHHAr), 3.62 (3H, s, OCH 3), 4.33 (1H, m, CHCH2Ar), 4.94 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.43 (2H, s, CO2CH 2Ar), 7.17-7.62 (10H, m, CO2CH2ArH), 7.64 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 7.84 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 7.89 (1H, s, ArH), 8.09 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH)
13C-NMR (CDCL3); 24.8, 25.0, 27.5, 52.5, 53.7, 67.0, 68.8, 83.7, 114.6, 115.9,
123.8, 125.9, 128.0, 128.1, 128.4, 128.5, 128.7, 128.7, 131.3, 135.0, 136.2, 155.7,
171.9
無色油状物であり、収率91%であった。
1H-NMR (DMSO); 1.29 (12H, s, 4CH 3), 1.41 (9H, s, C{CH3}3), 3.01 (1H, dd, J= 14.8, 10.0 Hz, CHHAr), 3.12, (1H, dd, J= 14.4, 4.8 Hz, CHHAr), 4.33 (1H, m, CHCH2Ar), 4.95 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.44 (2H, s, CO2CH 2Ar), 7.20-7.72 (10H, m, CO2CH2ArH), 7.81 (1H, d, J= 8.5 Hz, ArH), 7.92 (1H, s, ArH), 8.1-8.2 (2H, m, ArH)
無色油状物であり、収率91%であった。
1H-NMR (DMSO); 1.28 (12H, s, 4CH 3), 3.07 (1H, m, CHHAr), 3.16 (1H, m, CHHAr), 3.72 (3H, s, OCH 3), 4.35 (1H, m, CHCH2Ar), 4.95 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.00 (1H, s, CO2CH 2Ar), 5.44 (1H, s, CO2CH 2Ar), 6.84 (2H, d, J= 8.0 Hz, ArH{OCH3}), 7.07-7.60 (12H, m, ArH), 7.65 (1H, d, J= 8.3 Hz, ArH), 7.88 (1H, s, ArH), 7.90 (1H, s, ArH), 8.10 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH)
30ml容ナスフラスコに上記ホウ素化トリプトファン誘導体(A2a)(1.83g、3.00mmol)とTHF(18ml)、蒸留水(4.5ml)を加え、当該誘導体(A2a)が溶解するまで攪拌した。その後、メタ過ヨウ素酸ナトリウム(1.8g、84.1 mmol)を添加し、30分間攪拌した。その後、1N塩酸(2.0ml)を滴下し、17時間攪拌した。TLCで原料の消失を確認した後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチルで抽出した。有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を減圧留去し、残渣をジエチルエーテルで洗浄し、白色結晶のホウ素化トリプトファン誘導体(A2a)(1.43g、91%)を得た。
融点は190-193℃であった。
1H-NMR (DMSO); 3.01 (1H, dd, J=14.4, 6.4 Hz, CHHAr), 3.17 (1H, dd, J= 14.8,4.8 Hz, CHHAr), 3.64 (3H, s, OCH 3), 4.40 (1H, m, CHCH2Ar), 4.95 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.45 (2H, s, CO2CH 2Ar), 7.20-7.61 (10H, m, CO2CH2ArH), 7.77 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 7.86 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 8.02 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 8.07 (2H, s, B{OH}2), 8.09 (1H, s, ArH)
13C-NMR (DMSO); 18.5, 26.2, 52.0, 53.6, 56.0, 65.4, 68.3, 79.2, 113.6, 117.0, 123.7, 125.4, 127.5, 127.8, 128.3, 128.3, 128.5, 128.6, 129.4, 130.6, 135.4, 136.8,150.1, 156.0, 172.2
白色結晶であり、収率90%であった。
1H-NMR (DMSO); 1.50 (9H, s, C{CH}3), 3.01 (1H, dd, J=14.5, 6.6 Hz, CHHAr), 3.17 (1H, dd, J= 14.8, 4.8 Hz, CHHAr), 4.30 (1H, m, CHCH2Ar), 4.90 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.40 (2H, s, CO2CH 2Ar), 7.20-7.60 (10H, m, CO2CH2ArH), 7.70 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 7.80 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 8.00 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 8.02 (2H, s, B{OH}2), 8.04 (1H, s, ArH),
白色結晶であり、収率92%であった。
融点は148-150℃であった。
1H-NMR (DMSO); 3.01 (1H, dd, J= 14.4, 9.0 Hz, CHHAr), 3.15 (1H, m, CHHAr), 3.72 (3H, s, OCH 3), 4.42 (1H, m, CHCH2Ar), 4.95 (2H, d, J= 4.1 Hz, CO2CH 2Ar), 5.01 (2H, s, CO2CH 2Ar), 5.44 (2H, s, CO2CH 2Ar), 6.85 (2H, d, J= 8.0 Hz, ArH{OCH3}), 7.05-7.70 (12H, m, ArH), 7.76 (1H, d, J= 8.5 Hz, ArH), 7.88 (1H, d, J= 7.8Hz, ArH), 8.01 (1H, d, J= 8.3Hz, ArH), 8.08 (2H, s, B{OH}2)
中圧水添用の反応容器中で、上記ホウ素化トリプトファン誘導体(A2c)(1mmol)をメタノール(30ml)に溶解し、10%パラジウム炭素(63.6mg)を加え、水素気流(4気圧)下、室温で48時間攪拌した。TLCで原料の消失を確認後、パラジウム炭素を濾去、濾液の減圧留去を行い、白色結晶のホウ素化トリプトファン誘導体(A3a)を得た(収率87%)。
融点は136-140℃であった。
1H-NMR (DMSO); 2.94 (1H, dd, J= 14.4, 6.8 Hz, CHHAr), 3.03 (1H, dd, J= 14.0, 6.4 Hz, CHHAr), 3.65 (3H, s, OCH 3), 3.66 (1H, t, J= 6.4 Hz, CHCH2Ar), 7.08 (1H, d,J= 2.0 Hz, ArH), 7.26 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 7.51 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 7.78 (2H, br, B{OH}2), 8.02 (1H, s, ArH),10.8 (1H, s, NH)
13C-NMR (CD3OD); 31.2, 49.9, 52.5, 55.7, 110.9, 111.5, 124.6, 125.9, 128.0, 128.3, 139.4, 176.6
白色結晶であり、収率85%であった。
1H-NMR (DMSO); 1.50 (9H, s, C{CH}3), 3.00 (1H, dd, J=14.5, 6.6 Hz, CHHAr), 3.10 (1H, dd, J= 14.8, 4.8 Hz, CHHAr), 4.30 (1H, m, CHCH2Ar), 7.08 (1H, d, J= 2.0 Hz, ArH), 7.20 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 7.80 (1H, d, J= 8.4 Hz, ArH), 8.00 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 8.02 (2H, s, B{OH}2), 8.04 (1H, s, ArH)
メチルエステルに係る、上記ホウ素化トリプトファン誘導体(A3a)50mgを10mlの含水メタノールに溶解し、室温下で0.2Nの水酸化ナトリウム水溶液を摘下して加え、pHを8.5に5時間保った。反応液に希塩酸を加えて中和し、減圧で濃縮して、目的とするDBTを含む混合物を得た。
1H-NMR (DMSO+D2O); 2.93 (1H, dd, J= 14.4, 6.8 Hz, CHHAr), 3.03 (1H, dd, J= 14.4, 6.6 Hz, CHHAr), 3.64 (1H, t, J= 6.6 Hz, CHCH2Ar), 7.10 (1H, d,J= 2.0 Hz, ArH), 7.20 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 7.52 (1H, d, J= 8.0 Hz, ArH), 7.81 (1H,s, ArH), 8.04 (1H, s, ArH)
p‐メトキシベンジルエステルに係る、上記ホウ素化トリプトファン誘導体(A3c)200mgを20mlのメタノールに溶解し、10%パラジウム炭素100mgを加え、4.5気圧の水素気流下で一昼夜、還元した。触媒を濾去した後、濾液を減圧下で濃縮して目的とするDBTの粗生成物を得た。NMRのデータは上記と同じであった。
Claims (6)
- 一般式(A):
(式中、R1、R2は、同一または異なっていてもよい、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、または、当該アルキル基が結合したアルキレン基を示し、R3は、水素原子またはR13−(O)n−CO−基(但し、R13は炭素数1〜8のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、nは1または0である。)を示し、R4は、水素原子またはR14−(O)m−CO−基(但し、R14は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1または0である。)を示し、R5は、水素原子または炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示す。)で表される、ホウ素化トリプトファン誘導体。 - 一般式(A0):
で表される、ホウ素化トリプトファン誘導体。 - 一般式(A0´):
で表される、L体のホウ素化トリプトファン誘導体。 - 一般式(1):
(式中、R11、R12は、同一または異なっていてもよい、炭素数1〜8のアルキル基、または、当該アルキル基が結合したアルキレン基を示す)で表される、ホウ素化インドール誘導体(1)を、ホルミル化して、
一般式(2):
(式中、R11、R12は、上記と同じ)で表される化合物(2)に導く工程(A)、
次いで、上記化合物(2)のN原子を、
一般式(3´):R13−(O)n−CO−X(式中、R13は炭素数1〜8のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、nは1または0であり、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物(3´)により保護して、
一般式(3):
(式中、R11、R12、R13は上記と同じ)で表される化合物(3)に導く工程(B)、
次いで、上記化合物(3)と、
一般式(4):
(式中、R14はR14−(O)m−CO−基(但し、R14は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1または0である。)を示し、R15は炭素数1〜10のヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基を示し、R6は炭素数1〜12の炭化水素を示す。)で表される化合物(4)を、Horner−Emmons反応により反応させて、
一般式(5):
(式中、R11、R12、R13、R14、R15は上記と同じ)で表される化合物(5)に導く工程(C)、
次いで、上記化合物(5)のα,β−不飽和エステルに係る炭素−炭素二重結合のみを水素化して、
一般式(A1):
(式中、R11、R12、R13、R14、R15は上記と同じ)で表される化合物(A1)に導く工程(D)、を有するホウ素化トリプトファン誘導体の製造方法。 - 請求項4記載の製造方法により、ホウ素化トリプトファン誘導体(A1)を製造した後、
さらに、ホウ素化トリプトファン誘導体(A1)のホウ酸の保護基を加水分解により除去して、
一般式(A2):
(式中、R13、R14、R15は上記と同じ)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A2)に導く工程(E)、
次いで、ホウ素化トリプトファン誘導体(A2)中のN原子の保護基R13およびR14並びにエステル基を形成するR15を、還元により除去して、請求項2記載の一般式(A0)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A0)に導く工程(F)、を有するホウ素化トリプトファン誘導体の製造方法。 - 請求項2記載の一般式(A0)で表されるホウ素化トリプトファン誘導体(A0)を、
プロテアーゼまたはリパーゼの存在下で光学分割して、
請求項3記載の一般式(A0´)で表されるL体のホウ素化トリプトファン誘導体(A0´)を得る、L体のホウ素化トリプトファン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009028815A JP5383237B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009028815A JP5383237B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010183854A true JP2010183854A (ja) | 2010-08-26 |
JP5383237B2 JP5383237B2 (ja) | 2014-01-08 |
Family
ID=42764897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009028815A Active JP5383237B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5383237B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107224675A (zh) * | 2016-03-25 | 2017-10-03 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 硼中子捕获治疗系统 |
CN113748115A (zh) * | 2019-03-04 | 2021-12-03 | Tae生命科学有限责任公司 | 用于硼中子捕获疗法的硼化氨基酸组合物及其方法 |
US20230331746A1 (en) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | Green Sky Creations, LLC | Tryptamine analogues |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107224580B (zh) * | 2016-03-25 | 2020-10-16 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 类α-氨基酸三氟化硼化物在硼中子俘获治疗中的应用 |
WO2017162093A1 (zh) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 硼中子捕获治疗系统及类α-氨基酸三氟化硼化物在制备肿瘤治疗药物中的应用 |
WO2023113843A2 (en) * | 2021-12-16 | 2023-06-22 | TAE Life Sciences | Borylated di-peptide amino acid compositions for use in boron neutron capture therapy and methods thereof |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008214319A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Stella Chemifa Corp | フェニルホウ素誘導体およびそれを用いたp−ボロノフェニルアラニンの製造方法 |
-
2009
- 2009-02-10 JP JP2009028815A patent/JP5383237B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008214319A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Stella Chemifa Corp | フェニルホウ素誘導体およびそれを用いたp−ボロノフェニルアラニンの製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6013046977; Strahlenther.Onkol.,Vol.165,No.2/3(1989)p.125-126 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107224675A (zh) * | 2016-03-25 | 2017-10-03 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 硼中子捕获治疗系统 |
CN113748115A (zh) * | 2019-03-04 | 2021-12-03 | Tae生命科学有限责任公司 | 用于硼中子捕获疗法的硼化氨基酸组合物及其方法 |
CN113748115B (zh) * | 2019-03-04 | 2024-02-23 | Tae生命科学有限责任公司 | 用于硼中子捕获疗法的硼化氨基酸组合物及其方法 |
US20230331746A1 (en) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | Green Sky Creations, LLC | Tryptamine analogues |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5383237B2 (ja) | 2014-01-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11578053B2 (en) | Chemical process for preparing phenylpiperidinyl indole derivatives | |
JP5383237B2 (ja) | ホウ素化トリプトファン誘導体およびその製造方法 | |
JP6731477B2 (ja) | ヌクレオシドホスホルアミダート系プロドラッグの製造方法及びその中間体 | |
WO2014005443A1 (zh) | 一种制备选择性抗凝血药替卡格雷及其中间体的方法 | |
TWI402079B (zh) | A method for producing a precursor compound of a radioactive halogen-labeled organic compound | |
WO2015037460A1 (ja) | 光学活性な3-(ビフェニル-4-イル)-2-[(t-ブトキシカルボニル)アミノ]プロパン-1-オールの製造方法 | |
JP2021514008A (ja) | 4−ボロノフェニルアラニンの製造方法 | |
JP2979139B2 (ja) | L−パラボロノフェニルアラニンの製造方法 | |
KR100926844B1 (ko) | 스핑고신의 합성을 위한 제조방법 | |
Drag et al. | Synthesis of α1-(Cbz-aminoalkyl)-α2-(hydroxyalkyl) phosphinic esters | |
KR100714197B1 (ko) | 보글리보스의 제조방법 | |
JP2020530441A (ja) | アザ糖とその中間体の合成 | |
KR20230107791A (ko) | 4-보로노-l-페닐알라닌 및 그 중간체의 제조 방법 | |
KR20160008873A (ko) | 신규의 베타-술핀아미노 말로네이트 유도체 및 이의 제조방법, 그리고 이를 이용한 시타글립틴의 제조방법 | |
JP4829418B2 (ja) | 光学活性なハロヒドリン誘導体およびその使用方法 | |
JP3813996B2 (ja) | アスコルビン酸−アルブチン結合体またはその塩、ならびにその製造方法 | |
TWI588146B (zh) | 恩替卡韋的合成方法及其中間體化合物 | |
JP2004307420A (ja) | 細胞死抑制作用を有する化合物、およびその製造方法 | |
JP2023179354A (ja) | H-ホスホネート法を用いたモルフォリノ核酸の製造方法 | |
JP2006225343A (ja) | 2−アミノメチル−3,4−ジヒドロキシピロリジン型グリコシダーゼ阻害剤 | |
JPH041744B2 (ja) | ||
EA016854B1 (ru) | Новый способ получения эфира 3-амино-5-фтор-4-диалкоксипентановой кислоты | |
JPH07116211B2 (ja) | ウラシル誘導体 | |
JP2014227362A (ja) | 抗菌活性化合物の製造方法 | |
JPH05140202A (ja) | 環状オリゴ糖、その製造方法及び合成中間体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130920 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131001 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5383237 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |