JP2010165962A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010165962A5
JP2010165962A5 JP2009008468A JP2009008468A JP2010165962A5 JP 2010165962 A5 JP2010165962 A5 JP 2010165962A5 JP 2009008468 A JP2009008468 A JP 2009008468A JP 2009008468 A JP2009008468 A JP 2009008468A JP 2010165962 A5 JP2010165962 A5 JP 2010165962A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
concave portion
peripheral portion
rib
outer peripheral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009008468A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5201511B2 (ja
JP2010165962A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009008468A priority Critical patent/JP5201511B2/ja
Priority claimed from JP2009008468A external-priority patent/JP5201511B2/ja
Publication of JP2010165962A publication Critical patent/JP2010165962A/ja
Publication of JP2010165962A5 publication Critical patent/JP2010165962A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5201511B2 publication Critical patent/JP5201511B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、ウエハの保持テーブルに関する。さらに詳しくは、裏面の外周部をリブ状に残して内周部が研削されたウエハを保持するウエハの保持テーブルに関する。
ところで、最近ではダイオード、トランジスタ等の単機能半導体(ディスクリート)用のウエハの製造工程において、ウエハ裏面に電極を形成するため、ウエハ裏面に金属蒸着等で金属薄膜形成する工程が行われている。このようにウエハ裏面に金属薄膜を形成するには、スパッタリングや蒸着等の高温での処理が必要であり、表面側に貼り付けられた保護テープは処理温度に耐えることができないため剥離する必要がある。また、低温で処理を行う場合であっても、保護テープに使用されている粘着剤等の不純物の混入の面から保護テープが蒸着等の処理の前に剥離されている。このような単機能半導体用のウエハはその後、ダイシングテープを介してダイシングフレームにマウントされ、ダイシング工程を経てチップ化されている。
また、逆にウエハ内周研削部の空間の内圧が低いと、ウエハの内周研削部が撓んで保護テープを貼り付ける際に気泡が入ったり、しわが入ったりする問題があるため、内圧の微細な調整が必要となり、内圧の制御が困難になる問題があった。
そこで、請求項1の発明は、面の外周部をリブ状に残して内周部が研削されたリブ状外周部と内周研削面とを有するウエハの表面側を上にしてテーブル本体上に載置保持するウエハの保持テーブルであって、前記保持テーブルを、前記テーブル本体上面の内側に設けられ、前記ウエハのリブ状外周部を保持する保持手段と、前記保持手段の内側に前記ウエハの内周研削面と対向するように形成された円形状の凹状部と、前記テーブル本体に設けられ、前記凹状部の底面下方で該凹状部と連通するように複数の通気孔が穿設された穿孔部と、気体の導入口及び排気口を有し、前記穿孔部の下方に前記通気孔と連通するように設けられた中空室と、前記凹状部内に嵌入されるとともに、この嵌入状態で前記凹状部内浮上可能に設けられた支持板とで形成し、前記ウエハを載置保持する際に、前記保持手段でウエハのリブ状外周部を保持するとともに、前記導入口から中空室内への気体の導入によって前記通気孔から支持板面に向けて空気を噴出せしめるとともにその一部を排気口から排出することにより、該支持板を凹状部内で浮上させてウエハの内周研削面に接触するようにした構成を採用したウエハの保持テーブルである。
また、本発明の保持テーブルの穿孔部下方に中空室が設けられるとともに、前記中空室に気体導入口と気体排出口が設けられているので、中空室内に導入された気体が複数の通気孔から均一に噴出して支持板が平坦に浮上することでウエハ内周研削面と該支持板が接触し、ウエハを平坦に保持できる。
図1及び図2のようにウエハWの保持テーブル1は、矩形状のテーブル本体2と、テーブル本体2の内側に設けられたカッター溝3と、ウエハWのリブ状外周部70を吸着保持する保持手段としての吸着溝4と、前記吸着溝4の内側にウエハWの内周研削面73と対向するように形成された凹状部6と、前記凹状部6の底面下方でその凹状部6と連通するように複数の通気孔8が設けられた穿孔部7と、その穿孔部7の下方に前記通気孔8と連通するように設けられた中空室9と、前記凹状部6に嵌入されるとともに、この嵌入状態で凹状部6内で浮上可能に設けられた支持板12とから構成されている。
前記保持手段としての吸着溝4は、カッター溝3の内側にウエハW裏面のリブ状外周部70と対向するように円周方向にウエハWの厚み分下げられた位置に設けられ、前記吸溝4の底面の1箇所に吸引孔5が穿設されている。また、その吸引孔5は、バルブ15を介して図示しない適宜の真空ポンプに接続されており、前記真空ポンプを作用させることで吸着溝4に負圧を働かせてウエハWのリブ状外周部70を吸着保持するようになっている。
前記保持テーブル1の凹状部6は、テーブル本体2の表面から掘り下げるように前記吸着溝4の内側にウエハWの内周研削面73と対向して形成されている。また、前記凹状部6は、ウエハWの内周研削面73とほぼ同径かやや小径に形成されており、前記支持板12が嵌入可能になっている。
前記穿孔部7は、テーブル本体2の内側で前記凹状部6の底面下方に形成され、その凹状部6と連通するように複数の通気孔8が内周から外周に向けて全体に均等に穿設されている。このように、全体に均等となるように通気孔8を設けておけば、通気孔8から気体を均等に噴出させることができ、支持板を平坦に浮上させることができる。
前記中空室9は、穿孔部7の下方に通気孔8と連通するようにテーブル本体2内部に空間として形成されている。前記中空室9は、その空間の下方が蓋18により、密閉され、前記18の中央に気体導入口10が設けられることでバルブ16を介して図示しない加圧ポンプによりその内部に気体を導入することが可能となっている。
図5のように、機台31上中央付近に保持テーブル1が設けられ、前記機台31にベース板32が立設され、そのベース板32の右上方にテープ供給リール33と保護テープTの粘着面を保護するセパレータ39を巻き取るセパレータ巻き取りリール44が設けられている。なお、保護テープTは、図8のようにウエハWの外形よりも広幅でロール状のものが用いられる。
前記カッター機構58は、アームに設けられたカッター63と、モータ固定板60上に設けられたモータ61と、このモータ固定板60を上下動させるシリンダ62で構成されており、前記カッター機構58は、モータ固定板60の上下動により、機台1に立設されたベース板32上のレール59に沿って上下動可能になっている。
前記保持テーブル1は、機台1上に設けられたシリンダ53の上方に接続されて上下動可能に設けられ、前記保持テーブル1の両端下方には支持枠56、56が設けられており、両支持枠56、56の下端外側にはスライダ57、57が設けられている。前記スライダ57、57は機台1上に立設して設けられたレール55、55に摺動可能に嵌合しており、前記レール55、55沿って上下動が可能になっている。
W ウエハ
P 回路パターン
T 保護テープ
DF ダイシングフレーム
DT ダイシングテープ
1 保持テーブル
2 テーブル本体
3 カッター溝
4 吸着溝
5 吸引孔
6 凹状部
7 穿孔部
8 通気孔
9 中空室
10 気体導入口
11 気体排出口
12 支持板
13 基板
14 ゴムシート
15 バルブ
16 バルブ
17 バルブ
18
19 吸着搬送体
20 吸着パッド
30 保護テープ貼り付け装置
31 機台
32 支持板
33 テープ供給リール
34 ガイドローラ
35 ダンサローラ
36 テンションアーム
37 軸ローラ
38 剥離ローラ
39 セパレータ
40 ガイドローラ
41 軸ローラ
42 テンションアーム
43 ダンサローラ
44 セパレータ巻き取りリール
45 貼り付けローラ
46 シリンダ
47 テープチャック
48 チャック兼剥離ローラ
49 ガイドローラ
50 ガイドローラ
51 ガイドローラ
52 テープ巻き取りリール
53 シリンダ
54 支柱
55 レール
56 支持枠
57 スライダ
58 カッター機構
59 レール
60 モータ固定板
61 モータ
62 シリンダ
63 カッター
70 リブ状外周部
71 金属膜
72 ノッチ
73 内周研削面

Claims (1)

  1. 面の外周部をリブ状に残して内周部が研削されたリブ状外周部と内周研削面とを有するウエハの表面側を上にしてテーブル本体上に載置保持するウエハの保持テーブルであって、前記保持テーブルを、前記テーブル本体上面の内側に設けられ、前記ウエハのリブ状外周部を保持する保持手段と、前記保持手段の内側に前記ウエハの内周研削面と対向するように形成された円形状の凹状部と、前記テーブル本体に設けられ、前記凹状部の底面下方で該凹状部と連通するように複数の通気孔が穿設された穿孔部と、気体の導入口及び排気口を有し、前記穿孔部の下方に前記通気孔と連通するように設けられた中空室と、前記凹状部内に嵌入されるとともに、この嵌入状態で前記凹状部内浮上可能に設けられた支持板とで形成し、前記ウエハを載置保持する際に、前記保持手段でウエハのリブ状外周部を保持するとともに、前記導入口から中空室内への気体の導入によって前記通気孔から支持板面に向けて空気を噴出せしめるとともにその一部を排気口から排出することにより、該支持板を凹状部内で浮上させてウエハの内周研削面に接触するようにしたことを特徴とするウエハの保持テーブル。
JP2009008468A 2009-01-19 2009-01-19 ウエハの保持テーブル Active JP5201511B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009008468A JP5201511B2 (ja) 2009-01-19 2009-01-19 ウエハの保持テーブル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009008468A JP5201511B2 (ja) 2009-01-19 2009-01-19 ウエハの保持テーブル

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010165962A JP2010165962A (ja) 2010-07-29
JP2010165962A5 true JP2010165962A5 (ja) 2012-02-16
JP5201511B2 JP5201511B2 (ja) 2013-06-05

Family

ID=42581890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009008468A Active JP5201511B2 (ja) 2009-01-19 2009-01-19 ウエハの保持テーブル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5201511B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5691364B2 (ja) * 2010-10-06 2015-04-01 富士電機株式会社 テープ貼付装置およびテープ貼付方法
JP5663297B2 (ja) 2010-12-27 2015-02-04 東京応化工業株式会社 塗布装置
CN102962762A (zh) * 2012-12-07 2013-03-13 日月光半导体制造股份有限公司 晶圆研磨用承载盘组件
EP3115138B1 (en) * 2014-03-07 2021-01-27 JDC, Inc. Negative pressure sheet structure
JP6944625B2 (ja) * 2016-09-08 2021-10-06 株式会社タカトリ 基板への接着シート貼り付け装置及び貼り付け方法
CN114454023B (zh) * 2021-03-01 2022-12-16 华中科技大学 基于标准气缸的晶圆磨削吸附平台
CN115083988B (zh) * 2022-07-12 2023-01-31 法特迪精密科技(苏州)有限公司 面向探针台的晶圆吸附台及其变径环槽和转动环槽

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3971120B2 (ja) * 2001-04-12 2007-09-05 大日本スクリーン製造株式会社 基板保持装置および基板処理装置
JP2004179513A (ja) * 2002-11-28 2004-06-24 Tokyo Electron Ltd 基板保持装置及び基板処理装置
JP4221271B2 (ja) * 2003-10-28 2009-02-12 Necエンジニアリング株式会社 テープ貼付装置
JP4307972B2 (ja) * 2003-12-10 2009-08-05 三洋電機株式会社 保護テープの接着方法及び保護テープ接着用テーブル
JP5390740B2 (ja) * 2005-04-27 2014-01-15 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP4711904B2 (ja) * 2006-07-31 2011-06-29 日東電工株式会社 半導体ウエハへの粘着テープ貼付け方法および半導体ウエハからの保護テープ剥離方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010165962A5 (ja)
JP4541824B2 (ja) 非接触型吸着保持装置
JP5273791B2 (ja) 基板への接着テープ貼り付け装置
JP5201511B2 (ja) ウエハの保持テーブル
JP2005311176A (ja) 吸着装置
JP2013153146A (ja) 樹脂封止方法及び樹脂封止装置
KR20110106814A (ko) 점착 테이프 부착 방법 및 점착 테이프 부착 장치
JP6765751B2 (ja) 被加工物の保持機構及び加工装置
JP2015162634A (ja) ウエハへの保護テープの貼付装置およびウエハの製造方法
JP6154173B2 (ja) 真空吸着装置及び吸着プレート
JP4797027B2 (ja) 基板体の貼着装置及び基板体の取り扱い方法
KR20120134368A (ko) 기판 척킹 디척킹 장치
EP1582294B1 (en) Wafer polishing method.
JP5957330B2 (ja) ウェーハ貼着装置
JP3745214B2 (ja) ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法
KR20070037831A (ko) 진공척
JP5989501B2 (ja) 搬送方法
JP5914062B2 (ja) 板状ワークの保持解除方法及び加工装置
JP2014175541A (ja) ウェーハ貼着方法
JP2016181613A (ja) 基板への接着テープ貼り付け装置及び貼り付け方法
TWI700148B (zh) 夾盤台、磨削裝置及磨削品的製造方法
JP2002264005A (ja) 半導体ウェーハの研磨方法及びその研磨装置
JP6944625B2 (ja) 基板への接着シート貼り付け装置及び貼り付け方法
JP2019072776A (ja) 板状物の保持方法
JP4339494B2 (ja) ウェーハの研磨方法及びウェーハの研磨装置