JP2010163335A - 炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法 - Google Patents
炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】種結晶上への多結晶の析出を効果的に抑制できる炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】種結晶10から昇華用原料20に向かって延在し、昇華用原料20が昇華した原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60とを備え、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙と、第1空隙よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙とが形成される。昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスは種結晶1側に案内され、第1空隙から坩堝50の内壁32側の空隙に抜けた後、ガイド部材60の外側を下降し、第2空隙を通り、再度、ガイド部材60の内側を上昇するように循環するので、当該空隙における原料ガスの滞留が抑制され、当該空隙側における多結晶の析出を抑制することができる。
【選択図】図1
【解決手段】種結晶10から昇華用原料20に向かって延在し、昇華用原料20が昇華した原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60とを備え、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙と、第1空隙よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙とが形成される。昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスは種結晶1側に案内され、第1空隙から坩堝50の内壁32側の空隙に抜けた後、ガイド部材60の外側を下降し、第2空隙を通り、再度、ガイド部材60の内側を上昇するように循環するので、当該空隙における原料ガスの滞留が抑制され、当該空隙側における多結晶の析出を抑制することができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、種結晶及び種結晶の成長に用いられる昇華用原料を収容する坩堝と、昇華用原料が昇華した原料ガスを種結晶側に案内するガイド部材とを備える炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法に関する。
従来、炭化珪素によって形成された種結晶と、昇華用原料とが収容された坩堝を用いて炭化珪素単結晶(以下、単結晶と適宜省略する)を製造する炭化珪素単結晶の製造装置が広く用いられている。このような製造装置では、一般的に、粉体状の昇華用原料が坩堝内の底部に載置されるとともに、坩堝内の蓋部の中央に単結晶の種結晶が配設される。
また、このような製造装置において、昇華用原料が昇華することによって気体となった原料ガスを種結晶に効率的に案内するため、種結晶側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錐台状のガイド部材を配設する方法が知られている(例えば、特許文献1)。
具体的には、円錐台状のガイド部材の上端部は、種結晶側に位置する。一方、ガイド部材の下端部は、上端部よりも直径が大きく、昇華用原料側に位置する。下端部の直径は、坩堝の内径よりも少しだけ小さい。つまり、坩堝の内径と、ガイド部材の下端部との間には、数mm程度の空隙が形成される。このため、当該ガイド部材によって炭化珪素の多結晶を坩堝の内壁と、ガイド部材とにより形成される空隙に析出させつつ、種結晶上に単結晶を成長(いわゆる分離成長)させられる。
しかしながら、上述した従来の炭化珪素単結晶の製造装置には、次のような問題があった。すなわち、昇華用原料が昇華した原料ガスは、坩堝の内壁と、ガイド部材の下端部との間を通り、坩堝の内壁と蓋部とで形成される空隙で滞留してしまうため、当該空隙側で多くの多結晶が析出してしまう問題があった。
そこで、本発明は、原料ガスを種結晶側に案内するガイド部材を用いる場合において、多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法の提供を目的とする。
上述した課題を解決するため、本発明は、次のような特徴を有している。まず、本発明の第1の特徴は、炭化珪素を含む種結晶(種結晶10)、及び前記種結晶の下方に配設され、前記種結晶の成長に用いられる昇華用原料(昇華用原料20)を収容する坩堝(黒鉛製坩堝50)と、前記坩堝の内部において、前記種結晶から前記昇華用原料に向かって延在し、前記昇華用原料が昇華した原料ガスを前記種結晶側に案内するガイド部材(例えば、ガイド部材60)とを備える炭化珪素単結晶の製造装置(例えば、炭化珪素単結晶の製造装置1)であって、前記坩堝には、前記ガイド部材と前記種結晶との間に形成される第1空隙(第1空隙S1)と、前記第1空隙よりも下方において、前記ガイド部材と前記坩堝の内壁(内壁32)との間、または前記ガイド部材に形成される第2空隙(第2空隙S2)とが形成されることを要旨とする。
このような炭化珪素単結晶の製造装置は、昇華用原料の昇華により発生した原料ガスを種結晶側に案内し、第1空隙から坩堝の内壁側の空隙に抜けさせることができる。原料ガスは、第1空隙から当該空隙に抜けた後、ガイド部材の外側を下降し、第2空隙を通り、再度、ガイド部材の内側を上昇するように循環する。
つまり、炭化珪素単結晶の製造装置は、坩堝の内部において、第1空隙及び第2空隙により原料ガスを循環させることができるため、当該空隙において原料ガスが滞留することを抑制できる。これにより、炭化珪素単結晶の製造装置は、当該空隙側で多結晶が析出することを抑制できる。
また、第1空隙は、ガイド部材と種結晶との間に形成される。この第1空隙により、炭化珪素単結晶と、ガイド部材との間に原料ガスの流れが存在することになる。このため、炭化珪素単結晶の製造装置は、種結晶上に成長する炭化珪素単結晶と、ガイド部材との接触による結晶品質の低下を抑制できる。
従って、このような炭化珪素単結晶の製造装置によれば、原料ガスを種結晶側に案内するガイド部材を用いる場合において、多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
本発明の第2の特徴は、本発明の第1の特徴に係り、前記ガイド部材は、前記坩堝の側面視において、前記種結晶側に開口幅を有する第1開口部(例えば、開口部62)を形成する第1開口形成部(開口形成部64)と、前記坩堝の側面視において、前記第1開口形成部よりも前記昇華用原料側に位置し、前記坩堝の内壁間の幅よりも小さい幅を有するとともに、前記第1開口部に連通する第2開口部(開口部66)を形成する第2開口形成部(開口形成部68)とを有し、前記第1開口部と前記種結晶とによって前記第1空隙が形成され、前記第2開口形成部の外縁部分と前記坩堝の内壁とによって前記第2空隙が形成されることを要旨とする。
本発明の第3の特徴は、本発明の第1または2の特徴に係り、前記坩堝の平面視において、前記第1空隙の面積は、前記第2空隙の面積よりも広いことを要旨とする。
本発明の第4の特徴は、本発明の第1乃至3の何れか一つの特徴に係り、前記ガイド部材は、円錐台状であることを要旨とする。
本発明の第5の特徴は、本発明の第4の特徴に係り、前記第2開口形成部は、前記坩堝の内壁に向かって延びる鍔状部分(例えば、鍔状部分70)を有することを要旨とする。
本発明の第6の特徴は、本発明の第2または3の特徴に係り、前記坩堝の側面視において、前記第1開口部及び前記第2開口部の幅は略同一であり、前記第2開口形成部は、前記坩堝の内壁に向かって延びる鍔状部分を有することを要旨とする。
本発明の第7の特徴は、本発明の第2乃至6の何れか一つの特徴に係り、前記第2開口形成部は、前記外縁部分から前記坩堝の内壁と当接するまで延在し、前記坩堝の内壁に固定される被固定部分(被固定部分72)を有することを要旨とする。
本発明の第8の特徴は、本発明の第1乃至7の何れか一つの特徴に係り、前記坩堝の内部には、前記種結晶の成長方向に沿って複数の前記ガイド部材が備えられることを要旨とする。
本発明の第9の特徴は、炭化珪素を含む種結晶(種結晶10)、及び前記種結晶の下方に配設され、前記種結晶の成長に用いられる昇華用原料(昇華用原料20)を収容する坩堝(黒鉛製坩堝50)と、前記坩堝の内部において、前記種結晶から前記昇華用原料に向かって延在し、前記昇華用原料が昇華した原料ガスを前記種結晶側に案内するガイド部材(例えば、ガイド部材60)とを用いた炭化珪素単結晶の製造方法であって、前記坩堝を加熱し、前記昇華用原料を昇華させて、前記原料ガスを発生させる第1ステップ(坩堝加熱工程)と、前記ガイド部材を介して、前記原料ガスを前記種結晶側に案内し、炭化珪素単結晶(炭化珪素単結晶100)に成長させる第2ステップ(単結晶成長工程)とを備え、前記坩堝には、前記ガイド部材と前記種結晶との間に形成される第1空隙(第1空隙S1)と、前記第1空隙よりも下方において、前記ガイド部材と前記坩堝の内壁(内壁32)との間に形成される第2空隙(第2空隙S2)とが形成されることを要旨とする。
本発明の特徴によれば、原料ガスを種結晶側に案内するガイド部材を用いる場合において、種結晶上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる炭化珪素単結晶の製造装置及び炭化珪素単結晶の製造方法を提供することができる。
次に、本発明に係る第1乃至第4実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同一または類似の部分には、同一または類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。
したがって、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
[第1実施形態]
本実施形態においては、(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成、(2)炭化珪素単結晶の製造方法、(3)作用・効果、(4)変形例について、説明する。
本実施形態においては、(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成、(2)炭化珪素単結晶の製造方法、(3)作用・効果、(4)変形例について、説明する。
(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成
第1実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成を図1乃至3を用いて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置1の概略を説明する構成図である。図2は、本発明の第1実施形態に係るガイド部材60の斜視図である。図3は、本発明の第1実施形態に係るガイド部材60の平面図である。
第1実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成を図1乃至3を用いて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置1の概略を説明する構成図である。図2は、本発明の第1実施形態に係るガイド部材60の斜視図である。図3は、本発明の第1実施形態に係るガイド部材60の平面図である。
図1に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1は、黒鉛製坩堝50と、ガイド部材60と、石英管80と、加熱部90とを備える。
炭化珪素単結晶の製造装置1を構成する各部位について説明する。具体的には、(1.1)黒鉛製坩堝50、(1.2)石英管80、(1.3)加熱部90、(1.4)炭化珪素単結晶100、(1.5)ガイド部材60について説明する。
(1.1)黒鉛製坩堝50
黒鉛製坩堝50は、炭化珪素を含む種結晶10、及び種結晶10の下方に配設され、種結晶10の成長に用いられる昇華用原料20を収容する。黒鉛製坩堝50は、支持棒82により、石英管80の内部に固定される。黒鉛製坩堝50は、反応容器本体30と、蓋部40とにより構成される。
黒鉛製坩堝50は、炭化珪素を含む種結晶10、及び種結晶10の下方に配設され、種結晶10の成長に用いられる昇華用原料20を収容する。黒鉛製坩堝50は、支持棒82により、石英管80の内部に固定される。黒鉛製坩堝50は、反応容器本体30と、蓋部40とにより構成される。
反応容器本体30は、少なくとも内部が円筒状である。反応容器本体30の内部は、例えば、アルゴン等の不活性ガスが充填されて、不活性雰囲気になっている。反応容器本体30の内部の圧力及び温度は、変更可能である。反応容器本体30には、種結晶10及び昇華用原料20が収容される。反応容器本体30の内側には、種結晶10が配設される。
具体的に、種結晶10は、蓋部40の内側表面41に設けられる種結晶支持部42に接着される。種結晶支持部42は、蓋部40の内側表面41の中央に設けられる。昇華用原料20は、反応容器本体30の底部34に載置される。蓋部40は、反応容器本体30に螺合により着脱自在に設けられる。
(1.2)石英管80
本実施形態においては、石英管80は、黒鉛製坩堝50の少なくとも側面を覆う。石英管80の内部は、例えば、アルゴン等の不活性ガスが充填されて、不活性雰囲気になっている。
本実施形態においては、石英管80は、黒鉛製坩堝50の少なくとも側面を覆う。石英管80の内部は、例えば、アルゴン等の不活性ガスが充填されて、不活性雰囲気になっている。
(1.3)加熱部90
加熱部90は、黒鉛製坩堝50の側部の周囲に配設される。加熱部90は、誘導加熱コイル90aを備える。加熱部90は、誘導加熱コイル90aを用いて、黒鉛製坩堝50を加熱する。また、加熱部90は、石英管80の外周に配置される。
加熱部90は、黒鉛製坩堝50の側部の周囲に配設される。加熱部90は、誘導加熱コイル90aを備える。加熱部90は、誘導加熱コイル90aを用いて、黒鉛製坩堝50を加熱する。また、加熱部90は、石英管80の外周に配置される。
昇華用原料20は、炭化珪素を含む炭化珪素原料である。黒鉛製坩堝50の内部が、誘導加熱コイル90aにより加熱され所定の温度条件及び圧力条件になると、昇華用原料20は、昇華する。
(1.4)炭化珪素単結晶100
昇華用原料20が昇華した原料ガスは、結晶化温度に至るまで冷却されると種結晶10上で再結晶し、炭化珪素単結晶100となる。
昇華用原料20が昇華した原料ガスは、結晶化温度に至るまで冷却されると種結晶10上で再結晶し、炭化珪素単結晶100となる。
炭化珪素単結晶100は、成長が進むにつれて、種結晶10から昇華用原料20に向けて、凸状に形成される。
(1.5)ガイド部材60
ガイド部材60は、黒鉛製坩堝50の内部において、種結晶10から昇華用原料20に向かって延在し、昇華用原料20が昇華した原料ガスを種結晶10側に案内する。具体的には、ガイド部材60は、反応容器本体30の内部に配設される。
ガイド部材60は、黒鉛製坩堝50の内部において、種結晶10から昇華用原料20に向かって延在し、昇華用原料20が昇華した原料ガスを種結晶10側に案内する。具体的には、ガイド部材60は、反応容器本体30の内部に配設される。
図2に示すように、ガイド部材60の形状は、種結晶10側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錘台状である。
ガイド部材60は、黒鉛製坩堝50の側面視において、種結晶10側に開口幅を有する開口部62を形成する開口形成部64を有する。
ガイド部材60は、黒鉛製坩堝50の側面視において、開口形成部64よりも昇華用原料20側に位置し、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも小さい幅を有するとともに、開口部62に連通する開口部66を形成する開口形成部68を有する。具体的には、開口部66の開口幅は、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも0.5mm〜5.0mm広い。
つまり、開口部66は、開口部62よりも直径が大きい。
開口形成部68は、黒鉛製坩堝50の内壁32に向かって延びる鍔状部分70を有する。具体的には、鍔状部分70は、開口形成部68の外縁部分を略3分割する箇所に、それぞれ設けられている。
内壁32には、鍔状部分70と対応する箇所に溝が形成される。例えば、黒鉛製坩堝50の上部側からガイド部材60の配置位置まで、内壁32には、鍔状部分70と対応する箇所に溝が形成されることで、ガイド部材60を配置する。
図3に示すように、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙S1と、第1空隙S1よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙S2とが形成される。
なお、図3に示す、第1空隙S1及び第2空隙S2は、第1空隙S1及び第2空隙S2を識別しやすくするために、対応する領域にハッチングを施している。
具体的には、ガイド部材60は、開口部62と種結晶10とによって第1空隙S1が形成され、開口形成部68の外縁部分と黒鉛製坩堝50の内壁32とによって第2空隙S2が形成される。
黒鉛製坩堝50の平面視において、第1空隙S1の面積は、第2空隙S2の面積よりも広い。
(2)炭化珪素単結晶の製造方法
次に本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法について、図4を用いて説明する。図4は、本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法を示すフローチャートである。
次に本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法について、図4を用いて説明する。図4は、本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法を示すフローチャートである。
具体的には、炭化珪素単結晶の製造方法は、(2.1)原料準備工程、(2.2)配置工程、(2.3)坩堝加熱工程、(2.4)単結晶成長工程、(2.5)外周研削工程、(2.6)スライス工程を含む。
(2.1)原料準備工程
ステップS1の原料準備工程では、昇華用原料20を準備する。
ステップS1の原料準備工程では、昇華用原料20を準備する。
(2.2)配置工程
ステップS2の配置工程では、昇華用原料20、種結晶10等を炭化珪素単結晶の製造装置1に配置する。
ステップS2の配置工程では、昇華用原料20、種結晶10等を炭化珪素単結晶の製造装置1に配置する。
(2.3)坩堝加熱工程
ステップS3の坩堝加熱工程では、黒鉛製坩堝50を加熱し、昇華用原料20を昇華させて、原料ガスを発生させる。
ステップS3の坩堝加熱工程では、黒鉛製坩堝50を加熱し、昇華用原料20を昇華させて、原料ガスを発生させる。
具体的には、加熱部90が、誘導加熱コイル90aに電流を通電させて、黒鉛製坩堝50を略一定の出力で加熱する。
(2.4)単結晶成長工程
ステップS4の単結晶成長工程では、ガイド部材60を介して、原料ガスを種結晶10側に案内し、炭化珪素単結晶100に成長させる。
ステップS4の単結晶成長工程では、ガイド部材60を介して、原料ガスを種結晶10側に案内し、炭化珪素単結晶100に成長させる。
具体的には、原料ガスは、ガイド部材60によって、種結晶10側に案内されて、結晶化温度に至るまで冷却されると種結晶支持部42に配置された種結晶10上で再結晶する。
これにより、炭化珪素単結晶(以下、単結晶インゴットという)が時間とともに、黒鉛製坩堝50の上下方向に成長する。
上述のステップS1〜S4を行うことにより、単結晶インゴットを得る。
また、原料ガスは、ガイド部材60によって、種結晶10側に案内された後、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙S1を通る。更に、原料ガスは、第1空隙S1よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙S2側に向かって下降し、第2空隙S2を通る。
つまり、原料ガスは、昇華用原料20の昇華により発生し、第1空隙S1からガイド部材60の径方向外側に抜けて、ガイド部材60の径方向外側を下降し、第2空隙S2を通り、再度、ガイド部材60の径方向内側を上昇するように循環している。
(2.5)外周研削工程
ステップS5の外周研削工程では、所望とするサイズに成長した単結晶インゴットに外周研削加工等を施す。例えば、単結晶インゴットに、結晶方位(Si面やC面等)を示すオリエンテーションフラット(オリフラ)を形成するオリフラ形成加工を行ってもよい。
ステップS5の外周研削工程では、所望とするサイズに成長した単結晶インゴットに外周研削加工等を施す。例えば、単結晶インゴットに、結晶方位(Si面やC面等)を示すオリエンテーションフラット(オリフラ)を形成するオリフラ形成加工を行ってもよい。
(2.6)スライス工程
ステップS6のスライス工程では、単結晶インゴットから半導体ウェハを切り出す。
ステップS6のスライス工程では、単結晶インゴットから半導体ウェハを切り出す。
なお、上述のステップS1〜S6を行うことにより、半導体ウェハを製造できる。
以上、図4に示す製造方法によれば、加熱された昇華用原料20の加熱位置から原料ガスが昇華し、種結晶10上に再結晶化され、種結晶10上に炭化珪素単結晶100が成長する。
(3)作用・効果
以上説明したように、本実施形態によれば、炭化珪素単結晶の製造装置1は、昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスを種結晶10側に案内し、第1空隙S1から黒鉛製坩堝50の内壁32側の空隙に抜けさせることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、炭化珪素単結晶の製造装置1は、昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスを種結晶10側に案内し、第1空隙S1から黒鉛製坩堝50の内壁32側の空隙に抜けさせることができる。
原料ガスは、第1空隙S1から当該空隙に抜けた後、ガイド部材60の外側を下降し、第2空隙S2を通り、再度、ガイド部材60の内側を上昇するように循環する。
つまり、炭化珪素単結晶の製造装置1は、黒鉛製坩堝50の内部において、第1空隙S1及び第2空隙S2により原料ガスを循環させることができるため、当該空隙において原料ガスが滞留することを抑制できる。これにより、炭化珪素単結晶の製造装置1は、当該空隙側で多結晶が析出することを抑制できる。
また、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に第1空隙S1が形成される。この第1空隙S1により、炭化珪素単結晶100と、ガイド部材60との間にガスの流れが存在することになる。このため、炭化珪素単結晶の製造装置1は、種結晶10上に成長する炭化珪素単結晶100と、ガイド部材60との接触による結晶品質の低下を抑制できる。
従って、このような炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60を用いる場合において、多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、ガイド部材60は、種結晶10に開口幅を有する開口部62を形成する開口形成部64と、開口形成部64よりも昇華用原料20側に位置し、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも小さい幅を有する開口部66を形成する開口形成部68とを有する。このため、昇華用原料20より発生した原料ガスは、開口部66からガイド部材60に沿って、移動し、開口部62に集中する。つまり、炭化珪素単結晶の製造装置1は、原料ガスを効果的に種結晶10に集中させるため、炭化珪素単結晶100の成長を更に促進できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、開口部66の開口幅は、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも0.5mm〜5.0mm広いため、原料ガスは、開口部66と、黒鉛製坩堝50の内壁との間を充分に通り抜けることができる。なお、開口部66の開口幅は、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも0.5mm未満の広さしかない場合、開口部66と、黒鉛製坩堝50の内壁との隙間を閉塞する可能性がある点で好ましくない。また、開口部66の開口幅は、黒鉛製坩堝50の内壁間の幅よりも5.0mmよりも広い場合、原料ガスの流れは、種結晶10側よりも黒鉛製坩堝50の内壁側に流れる量が多くなるため、黒鉛製坩堝50の内壁とガイド部材60との空隙で多結晶が析出ししやすくなる点で好ましくない。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、黒鉛製坩堝50の平面視において、第1空隙S1の面積は、第2空隙S2の面積よりも広いため、昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスは、第2空隙S2に比べて第1空隙S1を通って、ガイド部材60の外側に抜けやすくなる。従って、炭化珪素単結晶の製造装置1は、原料ガスの循環を更に向上させることができる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、ガイド部材60は、種結晶10側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錐台状であるため、昇華用原料20の昇華により発生した原料ガスは、開口部62に更に集中しやすくなる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1によれば、開口部66は、内壁32に向かって延びる鍔状部分70を有するため、炭化珪素単結晶の製造装置1は、黒鉛製坩堝50の内部において、第1空隙S1と第2空隙S2とを形成しつつ、ガイド部材60を安定した状態で配置できる。
(4)変形例
第1実施形態の変形例を図5乃至7を用いて説明する。図5は、本発明の第1実施形態の変形例に係る炭化珪素単結晶の製造装置1Aの概略を説明する構成図である。図6は、本発明の第1実施形態の変形例に係るガイド部材60Bの斜視図である。図7は、本発明の第1実施形態の変形例に係るガイド部材60Bの平面図である。
第1実施形態の変形例を図5乃至7を用いて説明する。図5は、本発明の第1実施形態の変形例に係る炭化珪素単結晶の製造装置1Aの概略を説明する構成図である。図6は、本発明の第1実施形態の変形例に係るガイド部材60Bの斜視図である。図7は、本発明の第1実施形態の変形例に係るガイド部材60Bの平面図である。
第1実施形態においては、ガイド部材60は、種結晶10側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錐台状であるが、これに限られない。例えば、図5に示すように、ガイド部材60Aは、黒鉛製坩堝50の径方向外側に向かって延在する下端部を含んでもよい。これによれば、第1実施形態と同様に原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材Aを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
第1実施形態においては、鍔状部分70は、開口形成部68の外縁部分を略3分割する箇所に、それぞれ設けられているが、これに限られない。例えば、図6及び図7に示すように、鍔状部分70Bは、開口形成部68Bの外縁部分を略4分割する箇所に、それぞれ設けられてもよい。これによれば、鍔状部分70Bは、黒鉛製坩堝50の内部において、第1空隙S1と第2空隙S2とを形成しつつ、第1実施形態の鍔状部分70よりも、さらに安定した状態でガイド部材60Bを配置できる。
[第2実施形態]
上述した第1実施形態では、ガイド部材60は、種結晶10側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錐台状である。第2実施形態では、ガイド部材の形状が、第1実施形態と異なる構成について、図8を用いて説明する。
上述した第1実施形態では、ガイド部材60は、種結晶10側に行くにつれて徐々に口径が小さくなる円錐台状である。第2実施形態では、ガイド部材の形状が、第1実施形態と異なる構成について、図8を用いて説明する。
図8は、本発明の第2実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置1Cの概略を説明する構成図である。
なお、以下の第2実施形態においては、第1実施形態と異なる点を主に説明し、重複する説明を省略する。
本実施形態においては、(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成、(2)作用・効果について説明する。
(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成
図8に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Cのガイド部材60Cにおける黒鉛製坩堝50の側面視において、第1開口部及び第2開口部の幅は略同一である。
図8に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Cのガイド部材60Cにおける黒鉛製坩堝50の側面視において、第1開口部及び第2開口部の幅は略同一である。
また、第2開口形成部は、黒鉛製坩堝50の内壁に向かって延びる鍔状部分を有する。
(2)作用・効果
以上説明したように、第2実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Cによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Cを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
以上説明したように、第2実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Cによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Cを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Cによれば、黒鉛製坩堝50の側面視において、第1開口部及び第2開口部の幅は略同一であるため、原料ガスは、ガイド部材60Cによって第1開口部から直線的に種結晶10上へ案内される。つまり、炭化珪素単結晶の製造装置1Cは、炭化珪素単結晶100をガイド部材60Cの径方向外側に成長させない代わりに、種結晶10の成長方向へ沿った長さを大きくした炭化珪素単結晶100を形成できる。
[第3実施形態]
上述した第1実施形態では、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙S1と、第1空隙S1よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙S2とが形成される。
上述した第1実施形態では、黒鉛製坩堝50には、ガイド部材60と種結晶10との間に形成される第1空隙S1と、第1空隙S1よりも下方において、ガイド部材60と黒鉛製坩堝50の内壁32との間に形成される第2空隙S2とが形成される。
第3実施形態では、ガイド部材の下端部が、黒鉛製坩堝50の内壁32と当接する構成について、図9乃至11を用いて説明する。
図9は、本発明の第3実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置1Dの概略を説明する構成図である。図10は、本発明の第3実施形態に係るガイド部材60Dの斜視図である。図11は、本発明の第3実施形態に係るガイド部材60Dの平面図である。
なお、以下の第3実施形態においては、第1実施形態と異なる点を主に説明し、重複する説明を省略する。
本実施形態においては、(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成、(2)作用・効果について説明する。
(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成
図9乃至11に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Dにおけるガイド部材60Dの開口形成部68Dは、外縁部分から黒鉛製坩堝50の内壁32と当接するまで延在し、黒鉛製坩堝50の内壁32に固定される被固定部分72を有する。
図9乃至11に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Dにおけるガイド部材60Dの開口形成部68Dは、外縁部分から黒鉛製坩堝50の内壁32と当接するまで延在し、黒鉛製坩堝50の内壁32に固定される被固定部分72を有する。
ガイド部材60Dの開口形成部68Dには、第2空隙として機能する通気孔74が形成される。
具体的には、通気孔74は、ガイド部材60Dの内側から外側に貫通する。通気孔74は、被固定部分72よりも開口部62D側で、開口形成部68Dの外縁部分に沿って、所定の距離を隔てて形成される。
(2)作用・効果
以上説明したように、第3実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Dによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Dを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
以上説明したように、第3実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Dによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Dを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Dによれば、開口形成部68Dは、内壁32に固定される被固定部分72を有するため、炭化珪素単結晶の製造装置1Dは、黒鉛製坩堝50の内部において、ガイド部材60Dを更に安定した状態で配置できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Dによれば、通気孔74は、開口形成部68Dに形成されるため、内壁32に対するガイド部材60の配置位置によって形状が変わる第2空隙S2と比べて、一定の形状を保つことができる。そのため、炭化珪素単結晶の製造装置1Dは、開口形成部68Dの外縁部分において、1箇所に偏ることなく均等に原料ガスを通すことができる。
[第4実施形態]
上述した第1実施形態では、炭化珪素単結晶の製造装置1は、黒鉛製坩堝50に一つのガイド部材60を備える。
上述した第1実施形態では、炭化珪素単結晶の製造装置1は、黒鉛製坩堝50に一つのガイド部材60を備える。
第4実施形態では、黒鉛製坩堝50に複数のガイド部材60Eを備える構成について、図12を用いて説明する。
図12は、本発明の第4実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造装置1Eの概略を説明する構成図である。
なお、以下の第4実施形態においては、第1実施形態と異なる点を主に説明し、重複する説明を省略する。
本実施形態においては、(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成、(2)作用・効果について説明する。
(1)炭化珪素単結晶の製造装置の概略構成
図12に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Eにおける黒鉛製坩堝50の内部には、種結晶10の成長方向に沿って、複数のガイド部材60Eが備えられる。
図12に示すように、炭化珪素単結晶の製造装置1Eにおける黒鉛製坩堝50の内部には、種結晶10の成長方向に沿って、複数のガイド部材60Eが備えられる。
具体的には、3つのガイド部材60Eが、黒鉛製坩堝50の上下方向に沿って、距離Dを隔てて、互いに平行に位置する。
(2)作用・効果
以上説明したように、第4実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Eによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Dを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
以上説明したように、第4実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Eによれば、第1実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1と同様に、原料ガスを種結晶10側に案内するガイド部材60Dを用いる場合において、種結晶10上への多結晶の析出をさらに効果的に抑制できる。
本実施形態の炭化珪素単結晶の製造装置1Eによれば、複数のガイド部材60Eは、種結晶10の成長方向に沿って位置するため、炭化珪素単結晶は、成長に伴って、種結晶10側の第1のガイド部材60Eの径方向外側に成長する前に、成長方向に位置する第2のガイド部材60Eと炭化珪素単結晶との間の空隙が狭くなる。つまり、第1のガイド部材60Eの径方向外側には、原料ガスが流れにくくなるため、炭化珪素単結晶は、第1のガイド部材60Eの径方向外側に成長するよりも、成長方向に沿って、成長しやすくなる。
従って、炭化珪素単結晶の製造装置1Eは、炭化珪素単結晶と、ガイド部材60Eとが接触する可能性を低減できるため、炭化珪素単結晶の品質の劣化をさらに抑制できる。
[その他の実施形態]
上述したように、本発明の実施形態を通じて本発明の内容を開示したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
上述したように、本発明の実施形態を通じて本発明の内容を開示したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
例えば、本発明の実施形態は、次のように変更することができる。上述した実施形態では、ガイド部材60の開口形成部64は、種結晶10に開口幅を有する開口部62を形成するとした。開口部の開口幅は、種結晶10の幅と略同等であってもよい。この場合、開口部を形成する開口形成部を有するガイド部材は、黒鉛製坩堝50の上下方向に配設されることにより、黒鉛製坩堝50には、開口部と、種結晶10との間に空隙を形成する事ができる。
上述した実施形態では、開口形成部68は、黒鉛製坩堝50の内壁32に向かって延びる鍔状部分70を有するとした。しかし、鍔状部分70は、開口形成部68ではなく、黒鉛製坩堝50の内壁32に設けられていてもよい。
このように、本発明は、ここでは記載していない様々な実施の形態などを含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は、上述の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
1E…製造装置、 1、1A、1C、1D…製造装置、 10…種結晶、 20…昇華用原料、 30…反応容器本体、 32…内壁、 34…底部、 40…蓋部、 41…内側表面、 42…種結晶支持部、 50…黒鉛製坩堝、 60、60A、60B、60C、60D、60E…ガイド部材、 62、62D…開口部、 64…開口形成部、 66…開口部、 68、68B、68D…開口形成部、 70、70B…鍔状部分、 72…被固定部分、 74…通気孔、 80…石英管、 82…支持棒、 90…加熱部、 90a…誘導加コイル、 100…炭化珪素単結晶、
Claims (9)
- 炭化珪素を含む種結晶、及び前記種結晶の下方に配設され、前記種結晶の成長に用いられる昇華用原料を収容する坩堝と、
前記坩堝の内部において、前記種結晶から前記昇華用原料に向かって延在し、前記昇華用原料が昇華した原料ガスを前記種結晶側に案内するガイド部材と
を備える炭化珪素単結晶の製造装置であって、
前記坩堝には、
前記ガイド部材と前記種結晶との間に形成される第1空隙と、
前記第1空隙よりも下方において、前記ガイド部材と前記坩堝の内壁との間、または前記ガイド部材に形成される第2空隙と
が形成される炭化珪素単結晶の製造装置。 - 前記ガイド部材は、
前記坩堝の側面視において、前記種結晶側に開口幅を有する第1開口部を形成する第1開口形成部と、
前記坩堝の側面視において、前記第1開口形成部よりも前記昇華用原料側に位置し、前記坩堝の内壁間の幅よりも小さい幅を有するとともに、前記第1開口部に連通する第2開口部を形成する第2開口形成部と
を有し、
前記第1開口部と前記種結晶とによって前記第1空隙が形成され、
前記第2開口形成部の外縁部分と前記坩堝の内壁とによって前記第2空隙が形成される請求項1に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。 - 前記坩堝の平面視において、前記第1空隙の面積は、前記第2空隙の面積よりも広い請求項1または2に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 前記ガイド部材は、円錐台状である請求項1乃至3の何れか一項に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 前記第2開口形成部は、前記坩堝の内壁に向かって延びる鍔状部分を有する請求項4に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 前記坩堝の側面視において、前記第1開口部及び前記第2開口部の幅は略同一であり、
前記第2開口形成部は、前記坩堝の内壁に向かって延びる鍔状部分を有する請求項2または3に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。 - 前記第2開口形成部は、前記外縁部分から前記坩堝の内壁と当接するまで延在し、前記坩堝の内壁に固定される被固定部分を有する請求項2乃至6の何れか一項に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 前記坩堝の内部には、前記種結晶の成長方向に沿って複数の前記ガイド部材が備えられる請求項1乃至7の何れか一項に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 炭化珪素を含む種結晶、及び前記種結晶の下方に配設され、前記種結晶の成長に用いられる昇華用原料を収容する坩堝と、
前記坩堝の内部において、前記種結晶から前記昇華用原料に向かって延在し、前記昇華用原料が昇華した原料ガスを前記種結晶側に案内するガイド部材と
を用いた炭化珪素単結晶の製造方法であって、
前記坩堝を加熱し、前記昇華用原料を昇華させて、前記原料ガスを発生させる第1ステップと、
前記ガイド部材を介して、前記原料ガスを前記種結晶側に案内し、炭化珪素単結晶に成長させる第2ステップと
を備え、
前記坩堝には、
前記ガイド部材と前記種結晶との間に形成される第1空隙と、
前記第1空隙よりも下方において、前記ガイド部材と前記坩堝の内壁との間に形成される第2空隙とが形成される炭化珪素単結晶の製造方法。
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JP2013133273A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Fujikura Ltd | 単結晶製造装置および単結晶の製造方法 |
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JP2005053739A (ja) * | 2003-08-04 | 2005-03-03 | Denso Corp | 単結晶の成長方法および成長装置 |
JP2005225710A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Denso Corp | SiC単結晶の製造方法およびSiC単結晶の製造装置 |
-
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